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山岡 亜夫  YAMAOKA Tsuguo

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 60009256
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1991年度 – 1992年度: 千葉大学, 工学部, 教授
1987年度 – 1988年度: 千葉大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者以外
高分子合成 / 高分子物性・高分子材料
キーワード
研究代表者以外
polymer resist / lithography / photoetching / VUV / 高分子 / リソグラフィー / 表面光化学反応 / 光化学反応 / 真空紫外光 / 光エッチング … もっと見る / レジスト / Squarilium Dye / Chemically Amplified Photoresist / Photopolymerization / Photopolymer / He-Ne Laser Recording / Relief Hologram / Volume Hologram / フォトポリマ- / 色素増感光重合 / 記録材料 / 体積位相型ホログラム / ヘリウムネオンレーザー記録 / スクワリリウム色素 / 化学増幅型フォトレジスト / 光重合型フォトポリマー / 感光性高分子 / 表面レリーフホログラム / 体積位相ホログラム 隠す
  • 研究課題

    (2件)
  • 共同研究者

    (3人)
  •  高感度光重合型高分子材料によるホログラム記録

    • 研究代表者
      小関 健一
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      高分子物性・高分子材料
    • 研究機関
      千葉大学
  •  遠紫外光照射による高分子レジストの自己現像と乾式剥膜

    • 研究代表者
      杉田 和之
    • 研究期間 (年度)
      1987 – 1988
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      高分子合成
    • 研究機関
      千葉大学
  • 1.  小関 健一 (70092054)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  杉田 和之 (70009273)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  上野 信雄 (40111413)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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