佐藤哲也 SATO Tetsuya

研究者番号	60252011
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 山梨大学, 大学院総合研究部, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2023年度: 山梨大学, 大学院総合研究部, 准教授 2017年度 – 2019年度: 山梨大学, 大学院総合研究部, 准教授 2014年度 – 2016年度: 山梨大学, 総合研究部, 准教授 2015年度: 山梨大学, 大学院総合研究部, 准教授 2012年度 – 2013年度: 山梨大学, 医学工学総合研究部, 准教授 … もっと見る 2012年度: 山梨大学, 学工学総合研究部, 准教授 2007年度 – 2011年度: 山梨大学, クリーンエネルギー研究センター, 准教授 2006年度: 山梨大学, クリーンエネルギー研究センター, 助教授 2001年度 – 2004年度: 山梨大学, クリーンエネルギー研究センター, 助教授 2000年度: 山梨大学, 工学部, 助手 1997年度 – 1998年度: 山梨大学, 工学部, 助手隠す
審査区分/研究分野	研究代表者小区分26030:複合材料および界面関連 / 複合材料・表界面工学 / プラズマエレクトロニクス / 薄膜・表面界面物性 / 物理化学 / 分離・精製・検出法 / 物理化学研究代表者以外応用物性・結晶工学 / 物理化学 / 天文学 / 電子・電気材料工学 / 結晶工学
キーワード	研究代表者極低温 / 低温 / 薄膜 / 電子励起 / 電子衝撃 / アモルファスカーボン / 水素原子 / PTFE / フルオロカーボン / プラズマ … もっと見る / クライオ / 凝縮 / アモルファス / カーボン / 欠陥密度 / 低速電子 / 飛行時間型質量分析計 / 表面処理 / EXAFS / 電子照射 / 撥水 / パーフルオロカーボン / オクタフルオロシクロブタン / フッ素樹脂 / 温室効果ガス / フッ素 / 低速電子線 / 水素 / 細孔 / 吸着 / グラファイト / トンネル現象 / DLC / トンネル / メタン / トネンル / 非晶質 / 微結晶シリコン / 太陽電池 / ナノ材料 / 界面準位密度 / シリコン窒化膜 / 水素化アモルファスシリコン / 電子銃 / 放射線化学 / アモルファスシリコン / 電子線誘起反応 / トンネル反応 / 自己組織化膜 / 衝突誘起解離 / タンデムマス / リニア / イオン化 / 赤外レーザー / 生体高分子 / 表面誘起解離 / レーザースプレー / イオン源 / 構造解析 / 衝突反応 / 脱離 / 低速イオン / ファンデルワークス薄膜 / リフレクトロン / 多体効果 / エネルギー緩和 / ファンデルワールス薄膜 / 凝縮固体 / フォノン / 二次イオン / イオン衝撃 … もっと見る研究代表者以外トンネル反応 / HNC / HCN / thin film transistor / Polycrystalline Si / microwave plasma / 多結晶シリコン・ゲルマニウム / 電界効界トランジスタ / 電界効果トランジスタ / 多結晶シリコン / マイクロ波加熱 / electron impact / silicon / chemical evolution / dark cloud / formaldyhyde / methanol / low-temperature tunneling reaction / FT-IR / シリコン薄膜 / 薄膜半導体 / 水素原子 / 電子衝撃 / シリコン / 化学進化 / 暗黒星雲 / ホルムアルデヒド / メタノール / 低温トンネル反応 / tanneling reaction / dust grain / イソシアン化水素 / シアン化水素 / 星間塵 / ＭＩＳ構造 / MIS構造 / ラジカル酸化 / 誘電体物性 / ゲルマニウム / 金属ジャーマネイト / 原子層堆積法 / プラズマ酸化 / MOS構造 / 超薄膜 / 表面・界面物性 / 誘電体薄膜 / 水素ラジカル加熱 / Ge/Si基板ヘテロ構造 / Ge/Siヘテロ構造 / GeチャネルFET / ラジカル水素加熱 / GeSiヘテロ構造 / プラズマ / シリコン多結晶 / 電子デバイス / 電子材料 / 結晶成長 / 薄膜トランジスタ / 選択加熱 / プラズマ加熱 / 固相成長 / 半導体隠す

フルオロカーボン凝縮層の電子励起によるPTFE低温形成と表面処理応用研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分26030:複合材料および界面関連
- 研究機関
  山梨大学
フルオロカーボン凝縮層のプラズマ励起によるフッ素樹脂薄膜の低温合成研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2017 – 2019
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  複合材料・表界面工学
- 研究機関
  山梨大学
凝縮ガスのプラズマ励起によるナノ構造制御カーボン系薄膜の低温合成に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマエレクトロニクス
- 研究機関
  山梨大学
新規ジャーマネイト系高誘電率ゲート絶縁膜材料の探索と低温直接形成法に関する研究
- 研究代表者
  
  福田幸夫
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2016
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  諏訪東京理科大学
水素ラジカルを用いた高品位Ge/Si基板ヘテロ構造形成技術の開発
- 研究代表者
  
  中川清和
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  結晶工学
- 研究機関
  山梨大学
マイクロ波プラズマ励起種を用いた選択加熱技術の開発
- 研究代表者
  
  中川清和
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物性・結晶工学
- 研究機関
  山梨大学
極低温トンネル反応と低速電子線誘起反応を利用した炭素薄膜の合成研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  山梨大学
シリコン半導体薄膜およびナノ構造材料の極低温合成に関する基礎的研究研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  物理化学
- 研究機関
  山梨大学
マイクロ波直接加熱による高移動度多結晶シリコン・ゲルマニウム薄膜作製技術の開発
- 研究代表者
  
  中川清和
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2007
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物性・結晶工学
- 研究機関
  山梨大学
低温トンネル反応の基礎過程の解明とその応用研究
- 研究代表者
  
  平岡賢三
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  物理化学
- 研究機関
  山梨大学
表面誘起解離による生体高分子化合物の構造解析法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2000 – 2001
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  分離・精製・検出法
- 研究機関
  山梨大学
低速イオンとファンデルワールス薄膜固体の衝突反応に関する基礎的研究研究代表者
- 研究代表者
  
  佐藤哲也
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  物理化学
- 研究機関
  山梨大学
星間塵上におけるHCN及びHNCの生成機構に関する研究
- 研究代表者
  
  平岡賢三
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  天文学
- 研究機関
  山梨大学

[図書] Yafo Annual Book2010
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[雑誌論文] Role of low-energy ion irradiation in the formation of an aluminum germanate layer on a germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition2016
- 著者名/発表者名
  Y. Fukuda, D. Yamada, T. Yokohira, K. Yanachi, C. Yamamoto, B. Yoo, J. Yamanaka, T. Sato, T. Takamatsu, and H. Okamoto
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A
  
  巻: 34 号: 2
- DOI
  10.1116/1.4932039
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[雑誌論文] Selective Heating of Transition Metal Usings Hydrogen Plasma and Its Application to Formation of Nickel Silicide Electrodes for Silicon Ultralarge-Scale Integration Devices2016
- 著者名/発表者名
  Tetsuji Arai, Hiroki Nakaie, Kazuki Kamimura, Hiroyuki Nakamura, Satoshi Ariizumi, Satoki Ashizawa, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Kiyokazu Nakagawa, Toshiyuki Takamatsu
- 雑誌名
  
  Journal of Materials Science and Chemical Engineering
  
  巻: 4 号: 01 ページ: 29-33
- DOI
  10.4236/msce.2016.41006
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[雑誌論文] メタン凝縮層からの炭素薄膜極低温合成2010
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 雑誌名
  
  New Diamond 96
  
  ページ: 29-32
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[雑誌論文] メタン凝縮層からの炭素薄膜極低温合成2010
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也、伊東佑将、森田直樹、井草裕志、小林憲明、中川清和、佐藤昇司
- 雑誌名
  
  New Diamon
  
  巻: vol.96 ページ: 29-32
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[雑誌論文] Synthesis of Amorphous Germane by Tunneling Reactions of Hydrogen Atoms with van der Waals GeH_4 Films at Cryogenic Temperatures2009
- 著者名/発表者名
  Norihito Sogoshi, Shoji Sato, Hideaki Takashima, Tetsuya Sato, and Kenzo Hiraoka
- 雑誌名
  
  Jpn. J. of Appl. Phys
  
  巻: vol.48
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[雑誌論文] Synthesis of Polysilanes by Tunneling Reactions of H Atoms with Solid Si_2H_6 at 10K2009
- 著者名/発表者名
  Norihito Sogoshi, Shoji Sato, Hideaki Takashima, Tetsuya Sato, and Kenzo Hiraoka
- 雑誌名
  
  Chemistry Letters
  
  巻: vol.38 ページ: 986-987
- NAID
  10025547257
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[雑誌論文] Formation of microcrystalline Silicon and SiNx filmisby electron-beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature.2006
- 著者名/発表者名
  T.Sato, M.Mitsui, J.Yamanaka, K.Nakagawa, Y.Aoki, S.Sato, C.Miyata
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films Vol.508
  
  ページ: 61-64
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[雑誌論文] Formation of Microcrystalline Silicon and SiNx Films by Electron-Beam- Induced-Chemical Vapor Deposition at Ultra Low Temperature2006
- 著者名/発表者名
  T. Sato, M. Mitsui, J. Yamanaka, K. Nakagawa, et.al
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films 508
  
  ページ: 61-64
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[雑誌論文] 低速電子誘起反応とトンネル反応を利用したシリコン半導体薄膜の極低温合成2006
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 雑誌名
  
  山梨大学機器分析センター年報 vol.5
  
  ページ: 11-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[産業財産権] 排気ガスの固定化処理法、及びその処理装置2011
- 発明者名
  佐藤哲也
- 権利者名
  国立大学法人山梨大学
- 産業財産権番号
  2011-042049
- 出願年月日
  2011-02-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] NF3およびSF6凝縮層の電子励起によるSiNのクライオエッチング2023
- 著者名/発表者名
  小澤一貴, 渡辺龍星, 山田知輝, 佐藤哲也
- 学会等名
  2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K04394
[学会発表] 極低温で合成した非晶質カーボン薄膜のNEXAFS解析2023
- 著者名/発表者名
  北原広貴，秋山恒樹, 佐藤哲也、塩澤佑一朗
- 学会等名
  2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K04394
[学会発表] Synthesis of Super-hydrophobic PTFE Thin Films Using Electronic Excitation of c-C4F8 Condensed Gas2019
- 著者名/発表者名
  Toshihiro Mitani, Tetsuya Sato
- 学会等名
  The 16th Pacific Polymer Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06816
[学会発表] -C4F8/SiF4混合凝縮層の電子励起によるa-C:Fの低温合成と物性評価2019
- 著者名/発表者名
  三谷隼弘，佐藤哲也 , 塩澤佑一朗, 上垣良信
- 学会等名
  第66回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06816
[学会発表] c-C4F8 凝縮層の電子励起による超撥水性樹状a-C:F の形成2018
- 著者名/発表者名
  三谷隼弘，上垣良信, 佐藤哲也
- 学会等名
  2018年第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06816
[学会発表] PFC凝縮層へのプラズマ照射によるa-C:F形成とPTFE 表面改質2017
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也, 山井孝太, 森川恭兵, 曽我遥華, 山本千綾, 山中淳二, 中川清和
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会2017
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390095
[学会発表] Effects of gate-electrode metals and postdeposition treatments on the electrical properties of Al2O3/GeO2 gate stack grown on Ge substrate by radical-enhanced atomic layer deposition2016
- 著者名/発表者名
  Yukio Fukuda, Daichi Yamada, Yohei Otani, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Hiroshi Okamoto
- 学会等名
  ALD 2016 Ireland
- 発表場所
  Dublin Convention Center, Dublin
- 年月日
  2016-07-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] ラジカル援用原子層堆積法で形成したAl2O3/GeO2/p-Ge基板上のゲート電極金属が電気的特性に及ぼす影響2016
- 著者名/発表者名
  山田大地、王谷洋平、山本千綾、山中淳二、佐藤哲也、岡本浩、福田幸夫
- 学会等名
  応用物理学会北陸・信越支部第3回有機・無機エレクトロニクスシンポジウム
- 発表場所
  石川県政記念しいのき迎賓館
- 年月日
  2016-07-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] SiF4凝縮層の低速電子線誘起反応と水素原子のトンネル反応を利用したa-SiNxの極低温合成2016
- 著者名/発表者名
  坂巻直、佐藤哲也、中川清和
- 学会等名
  第63回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東工大大岡山キャンパス（東京都・目黒区）
- 年月日
  2016-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] 微傾斜基板を用いた伸張歪みSi/緩和SiGe/Si(110)ヘテロ構造のモフォロジー及び素子特性2016
- 著者名/発表者名
  宇津山直人、佐藤圭、山田崇峰、有元圭介、山中淳二、中川清和、原康介、宇佐美徳隆、澤野憲太郎
- 学会等名
  第63回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東工大大岡山キャンパス（東京都・目黒区）
- 年月日
  2016-03-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] Effects of postdeposition treatments on the electrical properties of Al2O3/GeO2 gate stack grown on Ge substrate by radical enhanced atomic layer deposition2016
- 著者名/発表者名
  H. Okamoto, D. Yamada, H. Narita, Y. Otani, C. Yamamoto, J. Yamanaka, T. Sato, and Y. Fukuda
- 学会等名
  9th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
- 発表場所
  Tohoku University
- 年月日
  2016-01-11
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] フッ素化非晶質炭素薄膜の極低温合成および物性評価2016
- 著者名/発表者名
  齋藤登之, 年森隆明, 小林直樹, 佐藤哲也
- 学会等名
  第 63 回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東京工業大学（大岡山キャンパス）東京都・目黒区
- 年月日
  2016-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390095
[学会発表] REALD形成Al2O3/GeO2/p-GeMOSキャパシターの電気的特性に及ぼすゲート電極金属の影響2016
- 著者名/発表者名
  山田大地、王谷洋平、山本千綾、山中淳二、佐藤哲也、岡本浩、福田幸夫
- 学会等名
  第77回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  新潟市・朱鷺メッセ
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] Role of low-energy ion irradiation in the formation of aluminum germanate layer on germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition2015
- 著者名/発表者名
  T. Yokohira, K. Yanachi, D. Yamada, C. Yamamoto, B. Yoo, J. Yamanaka, T. Sato, T. Takamatsu, H. Okamoto, and Y. Fukuda
- 学会等名
  The 13th International Symposium on Sputtering and Plasma Process
- 発表場所
  Kyoto　Research Park
- 年月日
  2015-07-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] RE-ALD形成Al2O3/GeO2/p-Geの電気的特性に及ぼす熱処理と酸素ラジカル照射の効果2015
- 著者名/発表者名
  梁池昂生、横平知也、山田大地、王谷洋平、柳炳學、関渓太、佐藤哲也、福田幸夫
- 学会等名
  応用物理学会第20回ゲートスタック研究会
- 発表場所
  三島
- 年月日
  2015-01-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] 水素ラジカルによるW、Niの選択加熱を用いたa-Siの固相成長法とTFTの作製2015
- 著者名/発表者名
  上村和貴、荒井哲司、有元圭介、山中淳二、佐藤哲也、中家大希、中川清和、高松利行、澤野憲太郎
- 学会等名
  第62回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東海大学湘南キャンパス（神奈川県平塚市）
- 年月日
  2015-03-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] [12p-P17-4] 伸張歪みSi/緩和SiGe/Si(110)の表面モフォロジーへの成長速度の影響2015
- 著者名/発表者名
  宇津山直人、佐藤圭、有元圭介、山中淳二、中川清和、宇佐美徳隆、澤野憲太郎
- 学会等名
  第62回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東海大学湘南キャンパス（神奈川県平塚市）
- 年月日
  2015-03-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] 水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱を用いた多結晶Si膜形成とデバイスプロセス応用2014
- 著者名/発表者名
  中家大希，上村和貴，荒井哲司，有元圭介，山中淳二，佐藤哲也，中川清和，高松利行，澤野憲太郎
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学相模原キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] 水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱とそのデバイス応用2014
- 著者名/発表者名
  上村和貴，荒井哲司，有元圭介，山中淳二，佐藤哲也，中川清和，高松利行，澤野憲太郎
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学札幌キャンパス（北海道札幌市）
- 年月日
  2014-09-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] 水素ラジカルを用いた遷移金属の選択加熱現象による薄膜トランジスタ用多結晶Si形成2013
- 著者名/発表者名
  中家大希，荒井哲司，有元圭介，山中淳二，佐藤哲也，中川清和，高松利行，澤野憲太郎，白木靖寛
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学京田辺キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25390065
[学会発表] 水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱現象を利用した多結晶 Si形成技術とデバイスへの応用2013
- 著者名/発表者名
  中家大希、荒井哲司、大平隆裕、有元圭介、山中淳二、佐藤哲也、中川清和、高松利行、澤野憲太郎、白木靖寛
- 学会等名
  第60回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2013-03-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560007
[学会発表] 低速電子線誘起反応と低温トンネル反応によるa-SiCx : Hの極低温合成2012
- 著者名/発表者名
  山田竜太郎,小林直樹,胡雪冰,佐藤哲也,有元圭介,山中淳二,中川清和
- 学会等名
  2012春季第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 水素ラジカルによる選択過熱現象を利用した Si1-xGex 薄膜形成技術2012
- 著者名/発表者名
  荒井哲司、川口裕樹、中村浩之、有元圭介、山中淳二、佐藤哲也、中川清和、高松利行、澤野憲太郎、星裕介、白木靖寛
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560007
[学会発表] 高密度プラズマ形成技術とそのデバイス応用2012
- 著者名/発表者名
  荒井哲司、池田礼隆、有元圭介、山中淳二、佐藤哲也、高松利行、中川清和
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- 年月日
  2012-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560007
[学会発表] C_3F_8凝縮層の低速電子線衝撃によるa-C : F薄膜の極低温合成2012
- 著者名/発表者名
  胡雪冰,山田竜太郎,小林直樹,川上浩一,佐藤哲也
- 学会等名
  2012春季第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 低速電子線照射により極低温合成したカーボン膜のESRによる構造欠陥評価2011
- 著者名/発表者名
  小林直樹,山田竜太郎,年森隆明,森田直樹,佐藤哲也,有元圭介,山中淳二,中川清和
- 学会等名
  2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学小白川キャンパス
- 年月日
  2011-08-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] Selective Heating Method forPoly-crystallization of Amorphous Si UsingHydrogen Microwave Plasma2011
- 著者名/発表者名
  T. Arai, H. Nakamura, S. Ariizumi, A.Ashizawa, T. Takamatsu, K. Arimoto, J.Yamanaka, T. Sato, K. Nakagawa, K. Sawano,Y. Shiraki
- 学会等名
  The 5th AsianConference on Crystal Growth and CrystalTechnology
- 発表場所
  Singapore
- 年月日
  2011-06-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560007
[学会発表] フルオロカーボン凝縮層の低速電子線照射によるa-C : Fの極低温合成2011
- 著者名/発表者名
  胡雪冰,鍋田貴大,土屋新平,石川政彦,川上浩一,佐藤哲也
- 学会等名
  2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学小白川キャンパス
- 年月日
  2011-09-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] CH_4/Ar固体薄膜への低速電子線衝撃: Arマトリックス単離赤外分光法による反応解析(16a-ND-9)2010
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也,渡邊陵,小林直樹,森田直樹,伊東佑将,荒井哲司,宮嶋尚哉,中川清和
- 学会等名
  2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 低速電子線誘起反応と低温トンネル反応により合成した炭素膜のTEM観察2010
- 著者名/発表者名
  森田直樹,伊東佑将,渡辺陵,荒井哲司,佐藤哲也,山本千綾,有元圭介,山中淳二,中川清和
- 学会等名
  第57回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  東海大学湘南キャンパス
- 年月日
  2010-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] CF_4凝縮層の低速電子線衝撃によるa-C : F薄膜の極低温合成2010
- 著者名/発表者名
  胡雪冰,鍋田貴大,土屋新平,森田直樹,佐藤哲也
- 学会等名
  2010年秋季第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] CH_4 Ar固体薄膜への低速電子線衝撃: Arマトリックス単離赤外分光法による反応解析2010
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- 年月日
  2010-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 低速電子線誘起反応と水素原子の低温トンネル反応による炭素薄膜の極低温合成2009
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 学会等名
  2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)
- 発表場所
  山梨大学
- 年月日
  2009-11-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 低速電子線誘起堆積法と水素原子の低温トンネル反応による炭素薄膜の極低温合成2009
- 著者名/発表者名
  伊東佑将,胡雪氷,土屋新平,森田直樹,荒井哲司,佐藤哲也,中川清和
- 学会等名
  2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  富山大学
- 年月日
  2009-09-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 低速電子線誘起反応と水素原子の低温トンネル反応による炭素薄膜の極低温合成2009
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 学会等名
  009年度実用表面分析講演会(PSA-09)
- 発表場所
  山梨大学
- 年月日
  2009-11-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] 低速電子線誘起反応とトンネル反応により合成した炭素薄膜の表面分析2009
- 著者名/発表者名
  森田直樹,伊東佑将,胡雪氷,土屋新平,渡辺陵,佐藤哲也,山本千綾,有元圭介,山中淳二,中川清和
- 学会等名
  2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)
- 発表場所
  山梨大学
- 年月日
  2009-11-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21560031
[学会発表] メタン凝縮層の低速電子線衝撃による炭素薄膜の極低温合成(II)2009
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 学会等名
  第56回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  筑波大学
- 年月日
  2009-03-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[学会発表] メタン凝縮層の低速電子線衝撃によるダイヤモンド状アモルファス炭素膜の極低温合成2008
- 著者名/発表者名
  伊東佑将, 井草裕志, 小林憲明, 荒井哲司, 佐藤昇司, 佐藤哲也
- 学会等名
  2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[学会発表] 有機フィルム基板上へのSiNxおよびa-Si:Hの極低温形成2007
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也
- 学会等名
  第50回放射線化学討論会
- 発表場所
  京都大学(宇治キャンパス)
- 年月日
  2007-10-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[学会発表] 低速電子線誘起堆積法とH原子トンネル反応を利用した水素化アモルファスシリコンの合成2007
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也, 小林憲明, 今村友一, 中川清和, 佐藤昇司
- 学会等名
  第54回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  青山学院大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[学会発表] 低速電子誘起成膜法によるSiNxの極低温合成と物性評価2007
- 著者名/発表者名
  小林憲明, 伊東佑将, 佐藤哲也, 三井実, 有元圭介, 山中淳二, 中川清和, 佐藤昇司
- 学会等名
  第50回放射線化学討論会
- 発表場所
  京都大学, 宇治キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[学会発表] 有機フィルム基板上へのSiNx およびa-Si : H の極低温形成2007
- 著者名/発表者名
  佐藤哲也, 伊東佑将, 小林憲明, 中川清和, 青木裕, 佐藤昇司, 宮田千治
- 学会等名
  第50回放射線化学討論会
- 発表場所
  京都大学, 宇治キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18550014
[学会発表] 極低温合成a-C:F膜のマイクロスクラッチ試験による密着性評価
- 著者名/発表者名
  曽我遥華、山井孝太、森川恭兵、佐藤哲也、中川清和
- 学会等名
  第62回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東海大学湘南ｌキャンパス（神奈川）
- 年月日
  2015-03-11 – 2015-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390095
[学会発表] 種々の炭化水素を原料として極低温合成したa-C:Hの物性評価
- 著者名/発表者名
  齋藤登之、内藤瑛慈、小林直樹、佐藤哲也
- 学会等名
  第62回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東海大学湘南ｌキャンパス（神奈川）
- 年月日
  2015-03-11 – 2015-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390095
[学会発表] Formation of Metal Germanate Interlayer for High-k/Ge Metal-Oxide-Semiconductor Structures by Atomic Layer Deposition Assisted by Microwave-generated Atomic Oxygen
- 著者名/発表者名
  Y. Otani, K. Yanachi, H. Ishizaki, Y. Fukuda, C. Yamamoto, J. Yamanaka, and T.Sato
- 学会等名
  The 14th International Conference on Atomic Layer Deposition
- 発表場所
  Kyoto
- 年月日
  2014-06-15 – 2014-06-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] Radical-Enhanced ALD法によるGe基板上Alジャーマネイトの形成機構に関する検討
- 著者名/発表者名
  横平知也、梁池昂生、柳炳學、山本千綾、山中淳二、佐藤哲也、岡本浩、福田幸夫
- 学会等名
  第62回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  東海大学
- 年月日
  2015-03-11 – 2015-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] FC凝縮層へのプラズマ照射により合成したa-C:F薄膜の物性評価
- 著者名/発表者名
  曽我遥華, 山井孝太,森川恭兵,佐藤哲也,中川清和
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学（北海道）
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390095
[学会発表] ALD形成Al2O3/GeO2/p-Geの電気的特性に及ぼす熱処理効果の検討
- 著者名/発表者名
  梁池昂生、横平知也、山田大地、王谷洋平、関渓太、佐藤哲也、福田幸夫
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281
[学会発表] Al2O3/GeO2/p-Geの電気的特性に及ぼす酸素ラジカル照射の効果
- 著者名/発表者名
  王谷洋平、梁池昂生、横平知也、山田大地、関渓太、佐藤哲也、福田幸夫
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26420281

1. 中川清和 (40324181)

共同の研究課題数: 6件

共同の研究成果数: 27件
2. 山中淳二 (20293441)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 18件
3. 有元圭介 (30345699)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 5件
4. 平岡賢三 (80107218)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
5. 宮嶋尚哉 (20345698)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
6. 福田幸夫 (50367546)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 11件
7. 和田晃 (70377604)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 澤野憲太郎 (90409376)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
9. 岡本浩 (00513342)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 7件
10. 王谷洋平 (40434485)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 8件
11. 曾越宣仁

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

佐藤 哲也 SATO Tetsuya

研究課題

研究成果

共同研究者

フルオロカーボン凝縮層の電子励起によるPTFE低温形成と表面処理応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

フルオロカーボン凝縮層のプラズマ励起によるフッ素樹脂薄膜の低温合成研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

凝縮ガスのプラズマ励起によるナノ構造制御カーボン系薄膜の低温合成に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

新規ジャーマネイト系高誘電率ゲート絶縁膜材料の探索と低温直接形成法に関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

水素ラジカルを用いた高品位Ge/Si基板ヘテロ構造形成技術の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

マイクロ波プラズマ励起種を用いた選択加熱技術の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

極低温トンネル反応と低速電子線誘起反応を利用した炭素薄膜の合成研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

シリコン半導体薄膜およびナノ構造材料の極低温合成に関する基礎的研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

マイクロ波直接加熱による高移動度多結晶シリコン・ゲルマニウム薄膜作製技術の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

低温トンネル反応の基礎過程の解明とその応用研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

表面誘起解離による生体高分子化合物の構造解析法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

低速イオンとファンデルワールス薄膜固体の衝突反応に関する基礎的研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

星間塵上におけるHCN及びHNCの生成機構に関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

佐藤哲也 SATO Tetsuya