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小林 信一  KOBAYASHI Shi-ichi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 60277944
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 東京工芸大学, 工学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1997年度 – 2002年度: 東京工芸大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物性・結晶工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学 / 表面界面物性
キーワード
研究代表者
界面偏析 / 不純物拡散 / シリコン・ゲルマニウム
研究代表者以外
CVD / ECR Plasma / Germanium / lifetime / photoluminescence / microcrystal / amorphous … もっと見る / nanocrystal / ECR / 優先配向 / 励起子 / エピタキシャル / ECRプラズマ / ゲルマニウム / 寿命 / フォトルミネッセンス / 微結晶 / アモルファス / ナノクリスタル / 偏析 / 不純物拡散 / SiGe半導体 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 共同研究者

    (3人)
  •  高清浄ECRプラズマCVDによる高機能性ナノクリスタルGe膜の作製

    • 研究代表者
      青木 彪
    • 研究期間 (年度)
      2000 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      東京工芸大学
  •  次世代超LSI用材料Si/Ge薄膜の成長に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      小林 信一
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京工芸大学
  •  次世代超LSI材料SiGeを拡散源としたSi中への不純物拡散の研究

    • 研究代表者
      御子柴 宣夫
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      東京工芸大学
  • 1.  御子柴 宣夫 (70006279)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  室田 淳一 (70182144)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  青木 彪 (10023186)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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