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谷口 正樹  Taniguchi Masaki

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 60354643
所属 (現在) 2025年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 本部 経営企画部, 次長
2025年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 量子エネルギー部門, グループリーダー
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2007年度: 日本原子力研究開発機構, 核融合研究開発部門, 研究職
2006年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 核融合研究開発部門, 研究職
2005年度: 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 核融合研究開発部門, 研究員
審査区分/研究分野
研究代表者
核融合学
キーワード
研究代表者
アルカリ金属照射 / 表面生成 / アルカリ金属照射材 / 負イオン表面生成 / 低仕事関数 / 水素負イオン源 / 酸化バリウム / 6ホウ化ランタン / 低仕事関数材 / 負イオン源
  • 研究課題

    (1件)
  •  セシウムフリー大電流負イオン源の研究研究代表者

    • 研究代表者
      谷口 正樹
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2007
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      核融合学
    • 研究機関
      独立行政法人日本原子力研究開発機構

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