尾澤伸樹 Ozawa Nobuki

研究者番号	60437366
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 特任准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2021年度 – 2023年度: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 特任准教授 2020年度 – 2021年度: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 准教授 2015年度 – 2019年度: 東北大学, 金属材料研究所, 助教 2011年度 – 2014年度: 東北大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教
審査区分/研究分野	研究代表者設計工学・機械機能要素・トライボロジー / 小区分26050:材料加工および組織制御関連 / 薄膜・表面界面物性研究代表者以外小区分27030:触媒プロセスおよび資源化学プロセス関連
キーワード	研究代表者分子動力学法 / 化学機械研磨 / 反応力場 / マルチフィジックス現象 / ナノバブル / メカノケミカル反応 / 量子化学 / 第一原理計算 / 超精密加工 / マルチフィジックス … もっと見る / 圧壊 / 反応分子動力学法 / 精密加工 / ウルトラファインバブル / 計算科学 / シミュレーション / 難加工材料 / 量子分子動力学 / アルカリ形燃料電池 / 伝導プロセス / 表面反応 / アニオン / 高速化 / 計算科学シミュレーション … もっと見る研究代表者以外ゼオライト隠す

逆合成解析に基づく高機能ゼオライト触媒の開発
- 研究代表者
  
  横井俊之
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分27030:触媒プロセスおよび資源化学プロセス関連
- 研究機関
  東京工業大学
計算科学手法に基づくナノバブルによる超精密加工シミュレータの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  尾澤伸樹
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分26050:材料加工および組織制御関連
- 研究機関
  東北大学
計算科学手法に基づく難加工基板の高効率な化学機械研磨シミュレータの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  尾澤伸樹
- 研究期間 (年度)
  2017 – 2019
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  設計工学・機械機能要素・トライボロジー
- 研究機関
  東北大学
計算科学シミュレーションを活用した化学機械研磨用スラリーの理論的設計研究代表者
- 研究代表者
  
  尾澤伸樹
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2016
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  設計工学・機械機能要素・トライボロジー
- 研究機関
  東北大学
量子分子動力学法に基づくアルカリ形燃料電池におけるアニオン伝導プロセスの解明研究代表者
- 研究代表者
  
  尾澤伸樹
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2013
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  東北大学

すべて 2021 2020 2019 2018 2017 2016 2015 2014 その他

すべて雑誌論文学会発表図書

[図書] Physics of Surface, Interface and Cluster Catalysis2016
- 著者名/発表者名
  Hideaki Kasai, Mary Clare Sison Escano, Pedrag Lazic, Yuji Kunisada, Matthew T Darby, Simone Piccinin, Michail Stamataki, Nobuki Ozawa, Hiroshi Nakanishi
- 出版者
  IOP Publishing
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[雑誌論文] Cooperative Roles of Chemical Reactions and Mechanical Friction in Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals: Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations2021
- 著者名/発表者名
  K. Kawaguchi, Y. Wang, J. Xu, Y. Ootani, Y. Higuchi, N. Ozawa, M. Kubo
- 雑誌名
  
  Phys. Chem. Chem. Phys.
  
  巻: 23 号: 7 ページ: 4075-4084
- DOI
  10.1039/d0cp05826b
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05380, KAKENHI-PROJECT-20K05147, KAKENHI-PROJECT-19H00734
[雑誌論文] Atom-by-Atom and Sheet-by-Sheet Chemical Mechanical Polishing of Diamond Assisted by OH Radicals: A Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulation Study2021
- 著者名/発表者名
  Kawaguchi Kentaro、Wang Yang、Xu Jingxiang、Ootani Yusuke、Higuchi Yuji、Ozawa Nobuki、Kubo Momoji
- 雑誌名
  
  ACS Applied Materials & Interfaces
  
  巻: 13 号: 34 ページ: 41231-41237
- DOI
  10.1021/acsami.1c09468
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00734, KAKENHI-PROJECT-20K05147
[雑誌論文] ウルトラファインバブルを活用した化学機械研磨プロセスの反応分子動力学シミュレーション2021
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹，木村颯太，久保百司
- 雑誌名
  
  Journal of the Japan Society for Abrasive Technology
  
  巻: 65 ページ: 463-466
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K05147
[雑誌論文] Atomistic Mechanisms of Chemical Mechanical Polishing of a Cu Surface in Aqueous H2O2: Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations2016
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kawaguchi, Hiroshi Ito, Takuya Kuwahara, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo
- 雑誌名
  
  ACS Applied Materials & Interfaces
  
  巻: - 号: 18 ページ: 11830-11841
- DOI
  10.1021/acsami.5b11910
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029, KAKENHI-PROJECT-26249011, KAKENHI-PROJECT-15J02619
[学会発表] 反応分子動力学法に基づくウルトラファインバブルが窒化物半導体基板の CMPプロセスに与える影響の検討2021
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹，久保百司
- 学会等名
  2021年度精密工学会春季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K05147
[学会発表] ウルトラファインバブルの圧壊による窒化物半導体基板の酸化促進プロセス：反応力場分子動力学シミュレーション2020
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹，木村颯太，久保百司
- 学会等名
  2020年度秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K05147
[学会発表] 複数のナノバブルを用いたAlN基板の化学機械研磨における大規模分子動力学シミュレーション2019
- 著者名/発表者名
  木村颯太, 王楊, 宮崎成正, 大谷優介, 尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  精密工学会2019年度秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Chemical Mechanical Polishing Process with Nanobubbles of Nitride Semiconductor Substrate: Molecular2019
- 著者名/発表者名
  Sota Kimura, Narumasa Miyazaki, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  ITC2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Nanobubble Collapse Simulation for Efficient Chemical Mechanical Polishing of Aluminum Nitride by Molecular2019
- 著者名/発表者名
  Sota Kimura, Narumasa Miyazaki, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  Tribochemistry
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Large-scale Molecular Dynamics Simulations on Chemical Mechanical Polishing Process of AlN Substrate with Nanobubbles2019
- 著者名/発表者名
  Sota Kimura, Wang Yang, Narumasa Miyazaki, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  WINDS2019
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Molecular Dynamics Simulations on Chemical Mechanical Polishing Process of Nitride Substrate with Nanobubble2019
- 著者名/発表者名
  Souta Kimura, Narumasa Miyazaki, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  ICACC19
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] 反応力場分子動力学シミュレーションによる窒化物半導体基板のナノバブルを用いた化学機械研磨プロセスの検討2019
- 著者名/発表者名
  木村颯太, 宮崎成正, 大谷優介, 尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  2019年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] 化学機械研磨プロセスにおけるマルチフィジックス現象の計算科学シミュレーションによる解明2018
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  第28回格子欠陥フォーラム
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Effects of Nanobubble Collapse on Precision Polishing : Molecular Dynamics Study2018
- 著者名/発表者名
  Yoshimasa Aoyama, Jingxiang Xu, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  42nd International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Molecular Dynamics Investigation for Chemical Effects of Nanobubble Collapse on Precision Polishing2018
- 著者名/発表者名
  Yoshimasa Aoyama, Jingxiang Xu, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  Pacsurf2018
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] ナノバブル圧壊時に生じるジェット流が半導体基板研磨に及ぼす影響の分子動力学シミュレーション2018
- 著者名/発表者名
  青山義昌，許競翔，大谷優介，尾澤伸樹，久保百司
- 学会等名
  2018年度精密工学会春季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Effects of Shockwave-Induced Nanobubble Collapse on Precision Polishing : Molecular Dynamics Study2018
- 著者名/発表者名
  Yoshimasa Aoyama, Jingxiang Xu, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  the 9th Multiscale Materials Modeling
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] 計算科学手法を用いた窒化物半導体基板の化学機械研磨プロセスの検討2018
- 著者名/発表者名
  木村颯太, 青山義昌, 宮崎成正, 大谷優介, 尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  トライボロジー会議2018秋
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] ナノバブルが半導体基板の精密研磨に与える影響：ナノバブル圧壊プロセスの分子動力学シミュレーション2017
- 著者名/発表者名
  青山義昌，許競翔，大谷優介，尾澤伸樹，久保百司
- 学会等名
  トライボロジー会議2017秋
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] 計算科学手法を用いた GaN CMP における砥粒-基板間の化学反応機構の検討2017
- 著者名/発表者名
  五十嵐拓也, 河口健太郎, 大谷優介, 樋口祐次, 尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  精密工学会2017年度春季大会
- 発表場所
  慶応義塾大学、横浜
- 年月日
  2017-03-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] First-principles Calculations of High Efficiency Abrasive Grain for GaN Chemical Mechanical Polishing2017
- 著者名/発表者名
  Takuya Igarashi, Kentaro Kawaguchi, Yusuke Ootani, Takeshi Nishimatsu, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo
- 学会等名
  41st International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites
- 発表場所
  Hilton Daytona Beach Resort and Ocean Center, Daytona Beach, Florida, USA
- 年月日
  2017-01-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] Computational Analysis of Chemical Mechanical Polishing Process for GaN Substrate with Step Structure2017
- 著者名/発表者名
  Takuya Igarashi, Jingxiang Xu, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo
- 学会等名
  WINDS17
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] Polishing Simulation of Gallium Nitride Substrate Assisted by Chemical Reactions with Hydroxyl Radicals2017
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kawaguchi, Yusuke Ootani, Takeshi Nishimatsu, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo
- 学会等名
  41st International Conference and Expo on Advanced Ceramics and Composites
- 発表場所
  Hilton Daytona Beach Resort and Ocean Center, Daytona Beach, Florida, USA
- 年月日
  2017-01-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] 計算科学シミュレーションによる化学機械研磨プロセスにおけるマルチフィジックス現象の解明2017
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹, 河口健太郎, 久保百司
- 学会等名
  精密工学会2017年度秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] ステップを有するGaN基板モデルを用いた化学機械研磨プロセスの計算化学的検討2017
- 著者名/発表者名
  五十嵐拓也, 大谷優介, 尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  精密工学会2017年度秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K06110
[学会発表] 量子分子動力学シミュレーションによる単結晶ダイヤモンド基板研磨プロセスの検討2016
- 著者名/発表者名
  河口健太郎、樋口祐次、尾澤伸樹、久保百司
- 学会等名
  2016年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東京理科大学野田キャンパス、千葉
- 年月日
  2016-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] 計算科学手法を用いたGaN CMPにおいて高い化学反応活性を有する研磨砥粒の検討2016
- 著者名/発表者名
  五十嵐拓也, 河口健太郎, 大谷優介, 西松毅, 樋口祐次, 尾澤伸樹, 久保百司
- 学会等名
  2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  茨城大学、水戸
- 年月日
  2016-09-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] 量子化学計算を用いたGaNCMPにおけるOH ラジカルの量が化学反応および研磨プロセスに及ぼす影響の解明2015
- 著者名/発表者名
  河口健太郎、樋口祐次、尾澤伸樹、久保百司
- 学会等名
  2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  東北大学、川内北キャンパス
- 年月日
  2015-09-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] Chemical Reactions at Friction Interface during Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals2015
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kawaguchi, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo
- 学会等名
  51st Symposium on Theoretical Chemisty
- 発表場所
  University of Potsdam, Potsdam, Germany
- 年月日
  2015-09-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] Atomic-Scale Removal Mechanisms during Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals: Computational Chemistry Approach2015
- 著者名/発表者名
  Kentaro Kawaguchi, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo
- 学会等名
  1st European Conference on Physical and Theoretical Chemistry
- 発表場所
  Monastero dei Benedettini University of Catania, Catania, Italy
- 年月日
  2015-09-14
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] 計算科学によるナノ合金触媒と燃料電池システムの設計2014
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹
- 学会等名
  第2回グリーンマテリアル研究会
- 発表場所
  東北大学青葉山キャンパス
- 年月日
  2014-01-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23760023
[学会発表] Chemical Mechanical Properties of Perovskite Oxide Abrasive Grain: First-Principles Approach
- 著者名/発表者名
  Nobuki Ozawa, Yuji Higuchi, Momoji Kubo
- 学会等名
  International conference on Planarization/CMP Technology 2014
- 発表場所
  Kobe International Conference Center, Kobe, Japan
- 年月日
  2014-11-19 – 2014-11-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] 分子動力学法による使用済みガラス研磨用セリア砥粒の再生シミュレーション
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹、周康、河口健太郎、樋口祐次、久保百司
- 学会等名
  精密工学会2015年度春季大会
- 発表場所
  東洋大学白川キャンパス、東京
- 年月日
  2015-03-17 – 2015-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029
[学会発表] 計算科学シミュレーションによるシリを用いたα-Al2O3基板の化学機械研磨プロセスの検討カ砥粒
- 著者名/発表者名
  尾澤伸樹、會澤豪大、河口健太郎、樋口祐次、久保百司
- 学会等名
  精密工学会2014年度秋季大会
- 発表場所
  鳥取大学鳥取キャンパス、鳥取
- 年月日
  2014-09-16 – 2014-09-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26820029

1. 横井俊之 (00401125)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
2. 中坂佑太 (30629548)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
3. 大谷優介

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件
4. 久保百司

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件

尾澤 伸樹 Ozawa Nobuki

研究課題

研究成果

共同研究者

逆合成解析に基づく高機能ゼオライト触媒の開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

計算科学手法に基づくナノバブルによる超精密加工シミュレータの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

計算科学手法に基づく難加工基板の高効率な化学機械研磨シミュレータの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

計算科学シミュレーションを活用した化学機械研磨用スラリーの理論的設計研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

量子分子動力学法に基づくアルカリ形燃料電池におけるアニオン伝導プロセスの解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] Physics of Surface, Interface and Cluster Catalysis2016

著者名/発表者名

出版者

データソース

[雑誌論文] Cooperative Roles of Chemical Reactions and Mechanical Friction in Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals: Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Atom-by-Atom and Sheet-by-Sheet Chemical Mechanical Polishing of Diamond Assisted by OH Radicals: A Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulation Study2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] ウルトラファインバブルを活用した化学機械研磨プロセスの 反応分子動力学シミュレーション2021

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Atomistic Mechanisms of Chemical Mechanical Polishing of a Cu Surface in Aqueous H2O2: Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations2016

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[学会発表] 反応分子動力学法に基づくウルトラファインバブルが窒化物半導体基板の CMPプロセスに与える影響の検討2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] ウルトラファインバブルの圧壊による窒化物半導体基板の酸化促進プロセス ：反応力場分子動力学シミュレーション2020

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 複数のナノバブルを用いたAlN基板の 化学機械研磨における大規模分子動力学 シミュレーション2019

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Chemical Mechanical Polishing Process with Nanobubbles of Nitride Semiconductor Substrate: Molecular2019

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Nanobubble Collapse Simulation for Efficient Chemical Mechanical Polishing of Aluminum Nitride by Molecular2019

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Large-scale Molecular Dynamics Simulations on Chemical Mechanical Polishing Process of AlN Substrate with Nanobubbles2019

著者名/発表者名

学会等名

尾澤伸樹 Ozawa Nobuki

[雑誌論文] ウルトラファインバブルを活用した化学機械研磨プロセスの反応分子動力学シミュレーション2021

[学会発表] ウルトラファインバブルの圧壊による窒化物半導体基板の酸化促進プロセス：反応力場分子動力学シミュレーション2020

[学会発表] 複数のナノバブルを用いたAlN基板の化学機械研磨における大規模分子動力学シミュレーション2019