杉田和之 SUGITA Kazuyuki

研究者番号	70009273
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2002年度 – 2004年度: 千葉大学, 工学部, 教授 1998年度 – 2000年度: 千葉大学, 工学部, 教授 1987年度 – 1988年度: 千葉大学, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野	研究代表者高分子合成研究代表者以外電子・電気材料工学 / 原子力学
キーワード	研究代表者 polymer resist / lithography / photoetching / VUV / 高分子 / リソグラフィー / 表面光化学反応 / 光化学反応 / 真空紫外光 / 光エッチング / レジスト … もっと見る研究代表者以外 … もっと見る Patterning / J-aggregation / Molecular electronics / Nano fabrication / Nano technology / Dye LB films / Applied voltage LB method / Langmuir-Blodgett films / パターニング / J会合体 / 分子エレクトロニクス / 超微細加工技術 / ナノテクノロジー / 色素LB膜 / 電圧印加累積法 / Langmuir-Blodgett膜 / Ocean Site / Floating-Contact Mode / Adsorption Rate / Hydrophilic / Adsorbents / Vanadium / Uranium / Seawater / 実海域 / 係留装置 / 吸着速度 / 親水性 / 吸着材 / バナジウム / ウラン / 海水隠す

電圧印可累積法による色素超薄膜の会合体形成と微細加工技術の高機能化
- 研究代表者
  
  串田正人
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  千葉大学
親水性高選択的吸着材を作成し実海域の係留装置を用いて海水産ウラン鉱石を作る研究
- 研究代表者
  
  斎藤恭一
- 研究期間 (年度)
  1998 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  千葉大学
遠紫外光照射による高分子レジストの自己現像と乾式剥膜研究代表者
- 研究代表者
  
  杉田和之
- 研究期間 (年度)
  1987 – 1988
- 研究種目
  
  一般研究(B)
- 研究分野
  
  高分子合成
- 研究機関
  千葉大学

すべて 2004 2003 2002

すべて雑誌論文

[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIb. Optimization of PAG and Its Content2004
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 373-378
- NAID
  130004464357
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist UsingO Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIb. Optimization of PAG and Its Content2004
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 373-378
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIa. Preliminary Results of Optimization of PAG and Content2004
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  Advances in Imaging Materials and Processes
  
  ページ: 293-299
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIa. Preliminary Results of Optimization of PAG and Its Content2004
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  Advances in Imaging Materials and Processes
  
  ページ: 293-299
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] Photodegradable Toners for Electrophotography IIIb. Photodegradation and Photocrosslinking of Matrix Resin-Its Dependence on the UV-light Source and Irradiation Conditions and Reaction Mechanism2003
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  Polymeric Mat.Sci.Eng. 88
  
  ページ: 341-341
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] Photodegradable Toners for Electrophotography III. Accelerated Photodegradation and Suppressed Photocrosslinking of Matrix Resin-Their Dependence on Polymer Composition, UV-light Source, and Irradiation Conditions2003
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  Polymer J. 35
  
  ページ: 985-992
- NAID
  10011839508
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] Photodegradable Toners for Electrophotography IIIb. Photodegradation and Photocrosslinking of Matrix Resin - Its Dependence on the UV-light Source and Irradiation Conditions and Reaction Mechanism2003
- 著者名/発表者名
  Kazuyuki Sugita
- 雑誌名
  
  Polymeric Mat.Sci.Eng. 88
  
  ページ: 341-341
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography2002
- 著者名/発表者名
  K.Sugita A
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 15
  
  ページ: 367-370
- NAID
  40005587710
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291
[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography2002
- 著者名/発表者名
  K.Sugita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 15
  
  ページ: 367-370
- NAID
  40005587710
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14550291

1. 斎藤恭一 (90158915)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
2. 串田正人 (70177989)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
3. 小関健一 (70092054)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
4. 上野信雄 (40111413)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 山岡亜夫 (60009256)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

杉田 和之 SUGITA Kazuyuki

研究課題

研究成果

共同研究者

電圧印可累積法による色素超薄膜の会合体形成と微細加工技術の高機能化

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

親水性高選択的吸着材を作成し実海域の係留装置を用いて海水産ウラン鉱石を作る研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

遠紫外光照射による高分子レジストの自己現像と乾式剥膜研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIb. Optimization of PAG and Its Content2004

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

説明

データソース

[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist UsingO Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIb. Optimization of PAG and Its Content2004

著者名/発表者名

雑誌名

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データソース

[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIa. Preliminary Results of Optimization of PAG and Content2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep UV Lithography : IIIa. Preliminary Results of Optimization of PAG and Its Content2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Photodegradable Toners for Electrophotography IIIb. Photodegradation and Photocrosslinking of Matrix Resin-Its Dependence on the UV-light Source and Irradiation Conditions and Reaction Mechanism2003

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Photodegradable Toners for Electrophotography III. Accelerated Photodegradation and Suppressed Photocrosslinking of Matrix Resin-Their Dependence on Polymer Composition, UV-light Source, and Irradiation Conditions2003

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

説明

データソース

[雑誌論文] Photodegradable Toners for Electrophotography IIIb. Photodegradation and Photocrosslinking of Matrix Resin - Its Dependence on the UV-light Source and Irradiation Conditions and Reaction Mechanism2003

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography2002

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

説明

データソース

[雑誌論文] A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography2002

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

説明

データソース

杉田和之 SUGITA Kazuyuki