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後藤 俊成  GOTOO Toshinari

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70017333
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2003年度: 電気通信大学, 電気通信学部, 教授
2002年度: 電気通信大学, 電気通信学部, 助教授
1989年度 – 2001年度: 電気通信大学, 電気通信学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者以外
電子デバイス・機器工学 / 電子機器工学 / 電子・電気材料工学
キーワード
研究代表者
スパッタリング / VTB / YーBaーCuーO / トンネル接合 / 薄膜 / 高温超伝導 / DC SQUID / 超伝導ジョセフソン素子 / ホロ-タ-ゲット / 高温超伝導酸化物薄膜 … もっと見る / イオンビ-ム / ジョセフソン素子 / BiーSrーCaーCuーO / SQUID / 粒界ジョセフソン素子 / Bi(-Pb)-Sr-Ca-Cu-O / Y-Ba-Cu-O … もっと見る
研究代表者以外
冷陰極 / トンネルエミッタ / トンネル効果 / Tunnel device / Tunnel phenomena / Tunnel emitter / Cold cathode / プラズマ酸化 / Si酸化膜 / MIS素子 / トンネル素子 / 電子放出 / 真空管IC / Si oxide / plasma oxidation / image display / emission array / electron emission / tunnel emitter / miniature electron source / cold cathode / S_i酸化膜 / トンネルエミツッタ / 発光素子 / ディスプレイ / アレイ化 / 微小電子源 / Alkaline-earth fluoride insulator film / MIS device / Tunnel current / Vacuum tube integrated circuit / フッ化物絶縁膜 / トンネル電流 / Tunnel junction / sputtering / Thin film / High Tc superconductor / a軸配向膜 / 超伝導酸化物薄膜 / トンネル接合 / スパッタリング / 薄膜 / 超伝導酸化物 / Hollow discharge / Plasma oxidation / Si oxide film / MIS divice / ホロー放電 / Bias Sputtering / Semiconductor Thin Film / Electron Emission / Tunnel Effect / Tunnel Emitter / Cold Emitter / Vacuum Microelectronic Tube / Vacuum Integrated Circuits / パイアススパッタリング / 真空管 / バイアススパッタリング / 半導体薄膜 / 微小真空管 / エクリプスオーロラPLD / その場結晶成長観察 / 平面型固有ジョセフソン素子 / 大型サファイア基板 / サファイアバイクリスタル / 超伝導接合 / 磁性体 / オーロラパルスレーザ法 / 分光エリプソメトリ / MOCVD法 / 酸化物超伝導体 / RFスパッタリング / 絶縁膜 / DLC / ダイヤモンド薄膜 / トンネルエミッション / MIS型冷陰極 隠す
  • 研究課題

    (10件)
  • 共同研究者

    (8人)
  •  MIS型トンネルエミッタを用いた徴小ブラウン管と平面型ディスプレイへの応用

    • 研究代表者
      宇佐美 興一
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  機能性酸化物高度プロセス研究

    • 研究代表者
      小田 俊理
    • 研究期間 (年度)
      2000
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  電子管集積回路用MIS型トンネル冷陰極へのダイヤモンド薄膜の応用

    • 研究代表者
      宇佐美 興一
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  超伝導酸化物薄膜を用いたトンネル接合のa軸配向化に関する基礎的研究

    • 研究代表者
      小林 忠行
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  結晶性絶縁膜によるMIS型トンネルエミッタの効率向上に関する研究

    • 研究代表者
      宇佐美 興一
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  電子管IC用MIS型トンネルエミッタに関する研究

    • 研究代表者
      宇佐美 興一
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子機器工学
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  高温超伝導薄膜による電子デバイスの試作と特性の評価研究代表者

    • 研究代表者
      後藤 俊成
    • 研究期間 (年度)
      1991
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  高温超伝導薄膜による電子デバイスの試作と特性の評価研究代表者

    • 研究代表者
      後藤 俊成
    • 研究期間 (年度)
      1990
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  高温超伝導薄膜による電子デバイスの試作と特性の評価研究代表者

    • 研究代表者
      後藤 俊成
    • 研究期間 (年度)
      1989
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      電気通信大学
  •  真空管IC用pーn接合トンネルエミッタに関する研究

    • 研究代表者
      宇佐美 興一
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子機器工学
    • 研究機関
      電気通信大学
  • 1.  宇佐美 興一 (60017407)
    共同の研究課題数: 8件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  小林 忠行 (00123969)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  湯郷 成美 (80017392)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  小田 俊理 (50126314)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  寺島 孝仁 (40252506)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  小林 猛 (80153617)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  道上 修 (90261461)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  横尾 邦義 (60005428)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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