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渡邊 一郎  WATANABE Ichiro

ORCIDORCID連携する *注記
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渡邉 一郎  ワタナベ イチロウ

渡辺 一郎  WATANABE Ichiro

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研究者番号 70019743
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1997年度 – 2002年度: 金沢大学, 工学部, 教授
1994年度 – 1995年度: 金沢大学, 工学部, 教授
1991年度 – 1992年度: 金沢大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物性・結晶工学 / 応用物性
キーワード
研究代表者
ESR / ダイヤモンド薄膜 / スピン密度 / CVD / diamond film / 配向膜 / 欠陥 / ダングリングボンド / 高周波CVD / Diamond film … もっと見る / プラズマ / defect / plasma CVD / pretreatment of substrate / oriented film / paramagnetic defect / プラズマCVD / 基板の前処理 / 常磁性欠陥 / dangling bond / carbon trifluoride / textured film / radio frequency CVD / 3弗化炭素 / ダイヤモンド簿膜 / Dangling bond / Carbon tetrafluoride / Spin density / Radio frequency CVD / 高周波 / 4弗化炭素 / Raman scattering / Plasma / Low temperature / RF glow discharge / 高周波グロ-放電 / ラマン散乱 / 低温成長 / 高周波グロー放電 隠す
  • 研究課題

    (4件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  ダイヤモンド薄膜中の不対電子の構造の解明とその低減化研究代表者

    • 研究代表者
      渡邊 一郎 (渡辺 一郎 / 渡邉 一郎)
    • 研究期間 (年度)
      2000 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      金沢大学
  •  低欠陥ダイヤモンド簿膜の作製研究代表者

    • 研究代表者
      渡辺 一郎
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      金沢大学
  •  低欠陥ダイヤモンド薄膜の合成研究代表者

    • 研究代表者
      渡辺 一郎
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      金沢大学
  •  ダイヤモンド薄膜の低温気相合成研究代表者

    • 研究代表者
      渡辺 一郎
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      金沢大学
  • 1.  作田 忠裕 (80135318)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件

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