梅崎洋二 UMEZAKI Yoji

研究者番号	70038066
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2008年度 – 2010年度: 九州大学, 大学院・工学研究院, 助教 2003年度 – 2005年度: 九州大学, 大学院・工学研究院, 助手 2000年度: 九州大学, 大学院・工学研究院, 助手 1999年度: 九州大学, 大学院・工学研究科, 助手 1997年度 – 1998年度: 九州大学, 工学部, 助手 1988年度 – 1995年度: 九州大学, 工学部, 助手 1994年度: 宮崎大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野	研究代表者機械要素研究代表者以外設計工学・機械要素・トライボロジー / 機械要素 / 設計工学・機械機能要素・トライボロジー / 生産工学・加工学 / 機械工作・生産工学
キーワード	研究代表者高精度ホブ切り / 高硬度歯車 / ホブ盤の動特性 / 切削 / 歯車 / ホブ切り精度 / 歯車精度 / ホブ切り研究代表者以外 Gear / 歯車 … もっと見る / ホブ切り / Hobbing / 負荷能力 / Transmission error / Cutting / 歯面粗さ / CBN / 切削 / Tooth surface failure / Tooth surface durability / 歯面損傷 / Load carrying capacity / Tooth surface roughness / Gear accuracy / Economical tooth finishing / 歯面強さ / 歯車精度 / 経済的歯面仕上げ / Axial runout / Non-destructive measurement / Tooth flank topography / Engagement / Eccentricity / Small module / 最小自乗法 / 測定 / かみあい / 端面振れ / 非破壊測定 / 歯面トポグラフィ / 伝達誤差 / かみ合い / 偏心 / 微小モジュール / Mechanism of chip formation / Transient phenomenon of cutting / High speed camera / 画像処理 / 高速度ビデオカメラ / 切りくず / 切りくず生成機構 / 切削過渡現象 / 高速度カメラ / Elastic deformation / Rotary encoder / Measurement system / Simulation / Tooth flank configuration error / High precision measurement / 高精度運動伝達 / 心出し / 負荷 / かみあい精度 / 弾性変形 / ロータリエンコーダ / シミュレーション / 測定システム / 歯面形状誤差 / 高精度測定 / かみあい制度 / Tooth Surface Roughness / Load-Carrying Capacity / Accurate Gear / Cermet / サーメット / 高精度歯車 / サ-メット / Bending fatigue strength / Load-carrying capacity / Rolling / Hyobbing / Austempered ductile iron / 面圧強さ / 曲げ強さ / 転造 / 球状黒鉛鋳鉄 / 高圧酸素雰囲気 / 電解CMP / 雰囲気制御加工 / 難加工材料 / 多枚数同時加工 / 両面同時加工 / 光触媒反応の援用 / 高圧ガス雰囲気と減圧雰囲気 / ベルジャー密閉型 / 加工レート / SiC / Si / 光触媒反応 / 密閉雰囲気 / 密閉型加工 / CMP / 高回転数 / 法線分力 / 低剛性砥石 / 低切込み / 研削低抗 / 目づまり / CBN工具 / 超音波振動研削隠す

密閉雰囲気内で行う光触媒反応と電解作用の援用型特殊加工装置の開発とその特性
- 研究代表者
  
  土肥俊郎
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  九州大学
微小モジュール歯車の偏心を考慮したかみあい伝達誤差解析
- 研究代表者
  
  黒河周平
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  設計工学・機械機能要素・トライボロジー
- 研究機関
  九州大学
ホブ切り挙動の過渡現象の観察とホブ摩耗・歯面形成機構の解明
- 研究代表者
  
  有浦泰常
- 研究期間 (年度)
  1998 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  設計工学・機械要素・トライボロジー
- 研究機関
  九州大学
超音波振動研削によるCBN焼結多刃工具の成形に関する基礎研究
- 研究代表者
  
  有浦泰常
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  萌芽的研究
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  九州大学
歯車装置の負荷かみあい高精度検出法およびシミュレーションに関する開発研究
- 研究代表者
  
  有浦泰常
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1995
- 研究種目
  
  試験研究(B)
- 研究分野
  
  設計工学・機械要素・トライボロジー
- 研究機関
  九州大学
サ-メットおよびCBN仕上げホブによる高精度歯車の高能率加工に関する研究
- 研究代表者
  
  有浦泰常
- 研究期間 (年度)
  1993 – 1994
- 研究種目
  
  一般研究(B)
- 研究分野
  
  設計工学・機械要素・トライボロジー
- 研究機関
  九州大学
高硬度歯車の高精度ホブ切りに関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  梅崎洋二
- 研究期間 (年度)
  1992
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  機械要素
- 研究機関
  九州大学
オ-ステンパダクタイル鋳鉄(ADI)歯車の開発研究
- 研究代表者
  
  有浦泰常
- 研究期間 (年度)
  1990 – 1991
- 研究種目
  
  試験研究(B)
- 研究分野
  
  機械要素
- 研究機関
  九州大学
高精度歯車の経済的加工と性能に関する研究
- 研究代表者
  
  有浦泰常
- 研究期間 (年度)
  1988 – 1989
- 研究種目
  
  一般研究(B)
- 研究分野
  
  機械要素
- 研究機関
  九州大学

すべて 2010 2009 2008

すべて雑誌論文学会発表図書

[図書] ものづくりのイノベーションとそのサステナビリティを目指して第75巻,第6号2009
- 著者名/発表者名
  土肥俊郎, 黒河周平, 梅崎洋二
- 出版者
  精密工学会誌
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[雑誌論文] Polishing/CMP for Glass Substrates in a Radical Polishing Environment, Using Manganese Oxide Slurry as an Alternative for Ceria Slurry2010
- 著者名/発表者名
  T.Doi, T.Yamazaki, S.Kurokawa, Y.Umezaki, O.Ohnishi,Y.Akagami, Y.Yamaguchi, S.Kishii
- 雑誌名
  
  Advances in Science and Technology Vol.64
  
  ページ: 65-70
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[雑誌論文] Study on the Development of Resource-Saving High Performance Slurry -Polishing/CMP for glass substrates in a radical polishing environment, using manganese oxide slurry as an alternative for ceria slurry-2010
- 著者名/発表者名
  T.Doi, T.Yamazaki, S.Kurokawa, Y.Umezaki, et al.
- 雑誌名
  
  Advances in Science and Technology
  
  巻: 64 ページ: 65-70
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[雑誌論文] Basic Characteristics of a Simultaneous Double-side CMP Machine, Housed in a Sealed,Pressure-Resistance Container2010
- 著者名/発表者名
  K.Kitamura, T.Doi, S.Kurokawa, Y.Umezaki, Y.Matsukawa, Y.Ooki, T.Hasegawa, I.Koshiyama, K.Ichikawa, Y.Nakamura
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials Vols.447-448
  
  ページ: 61-65
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] 4酸化マンガン系スラリーを用いたSiC基板の精密加工プロセスに関する研究-ベルジャー型加工機を用いた各種加工雰囲2010
- 著者名/発表者名
  長谷川正, 土肥俊郎, 黒河周平, 大西修, 梅崎洋二, 山崎努, 北村圭, 河瀬康弘, 岸井貞浩
- 学会等名
  2010年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  名古屋大学(名古屋
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] Characteristics of Silicon CMP Performed in Various High Pressure Atmospheres -Development of a New Double-side Simultaneous CMP Machine Housed in a High Pressure Chamber-2010
- 著者名/発表者名
  K.Kitamura, T.Doi, S.Kurokawa, O.Ohnishi, Y.Umezaki, T.Yamazaki, Y.Matsukawa, T.Hasegawa, I.Koshiyama, K.Ichikawa
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference
- 発表場所
  東京大学(大学)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] Polishing/CMP for glass substrates in a radical polishing environment, using manganese oxide slurry as an alternative for ceria slurry2010
- 著者名/発表者名
  T.Doi, T.Yamazaki, S.Kurokawa, Y.Umezaki, et al.
- 学会等名
  Proc.of CIMTEC2010 (12th International Ceramics Congress)
- 発表場所
  Itary
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] Characteristics of Silicon CMP performed in various high pressure atmospheres-Development of a new double-side simultaneous CMP machine housed in a high pressure chamber2010
- 著者名/発表者名
  K.Kitamura, T.Doi, S.Kurokawa, O.Ohnishi, Y.Umezaki, T.Yamazaki, Y.Matsukawa, T.Hasegawa, I.Koshiyama, K.Ichikawa
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2010 : 20^<th> Asian Session)
- 発表場所
  東京大学(大学)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] ガラス基板の研磨とラジカル環境場の効果-酸化セリウム系スラリーと酸化マンガン系スラリーによるCMP特性-2010
- 著者名/発表者名
  山崎努, 土肥俊郎, 黒河周平, 大西修, 梅崎洋二, 松川洋二, 山口靖英, 岸井貞浩
- 学会等名
  2010年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  名古屋大学(名古屋
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] Study on the Development of Resource-Saving High Performance Slurry - Polishing/CMP for glasssubstrates in a radical polishing environment2010
- 著者名/発表者名
  T.Doi, T.Yamazaki, S.Kurokawa, Y.Umezaki, O.Ohnishi,Y.Akagami, Y.Yamaguchi, S.Kishii
- 学会等名
  using manganese oxide slurry as an alternative for ceria slurry-, CIMTEC2011 12th International Ceramics Congress
- 発表場所
  Montecatine Terme, Itary
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033
[学会発表] Si CMP with a Sealed "Bell-Jar" Type CMP Machine -Proc. Characteristics of Si-CMP, Influenced by the Processing Atmosphere and Additives Dispersed in the Slurry-2008
- 著者名/発表者名
  T.Kihara, T.Doi, S.Kurokawa, Y.Ooki, Y.Umezaki, Y.Matsukawa, K.Ichikawa, I.Koshiyama, H.Kohno
- 学会等名
  The 5^<th> International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials
- 発表場所
  Kona, Hawaii (USA)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20246033

1. 有浦泰常 (10038044)

共同の研究課題数: 6件

共同の研究成果数: 0件
2. 黒河周平 (90243899)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 11件
3. 中西勉 (40038055)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 0件
4. 鬼鞍宏猷 (90108655)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 0件
5. 石丸良平 (10264061)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 0件
6. 土肥俊郎 (30207675)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 11件
7. 矢野満 (10230286)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 小田哲 (50032016)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
9. 尾崎龍夫 (40037742)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
10. 山本元司 (90202390)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
11. 毛利彰 (50037909)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
12. 甲木昭雄 (20038095)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. 井上繁 (20069553)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
14. 上野拓 (10037640)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

梅崎 洋二 UMEZAKI Yoji

研究課題

研究成果

共同研究者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

高硬度歯車の高精度ホブ切りに関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] ものづくりのイノベーションとそのサステナビリティを目指して第75巻,第6号2009

著者名/発表者名

出版者

データソース

[雑誌論文] Polishing/CMP for Glass Substrates in a Radical Polishing Environment, Using Manganese Oxide Slurry as an Alternative for Ceria Slurry2010

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Study on the Development of Resource-Saving High Performance Slurry -Polishing/CMP for glass substrates in a radical polishing environment, using manganese oxide slurry as an alternative for ceria slurry-2010

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Basic Characteristics of a Simultaneous Double-side CMP Machine, Housed in a Sealed,Pressure-Resistance Container2010

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[学会発表] 4酸化マンガン系スラリーを用いたSiC基板の精密加工プロセスに関する研究-ベルジャー型加工機を用いた各種加工雰囲2010

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

データソース

[学会発表] Characteristics of Silicon CMP Performed in Various High Pressure Atmospheres -Development of a New Double-side Simultaneous CMP Machine Housed in a High Pressure Chamber-2010

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

データソース

[学会発表] Polishing/CMP for glass substrates in a radical polishing environment, using manganese oxide slurry as an alternative for ceria slurry2010

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

梅崎洋二 UMEZAKI Yoji