鹿間共一 SHIKAMA Tomokazu

研究者番号	70206069
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2016年度 – 2018年度: 香川高等専門学校, 電気情報工学科, 教授 2005年度: 高松工業高等専門学校, 電気情報工学科, 教授 2004年度: 高松工業高等専門学校, 電気情報工学科, 助教授
審査区分/研究分野	研究代表者電子・電気材料工学研究代表者以外科学教育
キーワード	研究代表者 grain size / zinc oxide / atmospheric pressure cold plasma / 結晶粒径 / 酸化亜鉛 / 大気圧低温プラズマ研究代表者以外電子デバイス・機器 / リソグラフィー / バイポーラトランジスタ / MOS FET … もっと見る / pn接合 / Sol Gel / 教育 / 簡素化 / 集積回路 / ｐｎ接合 / Sol-Geｌ / デバイス / プロセス / リソグラフィ / 工学教育 / p-n接合 / 熱拡散 / Sol-Gel 隠す

理科室で構築するナノテクプラットフォーム
- 研究代表者
  
  長岡史郎
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2018
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  科学教育
- 研究機関
  香川高等専門学校
大気圧低温プラズマを用いたZnO薄膜における成膜速度の高速化研究代表者
- 研究代表者
  
  鹿間共一
- 研究期間 (年度)
  2004 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  高松工業高等専門学校

すべて 2019 2018 2017 2016

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Removal of Polymers for KrF and ArF Photoresist Using Hydrogen Radicals Containing a Small Amount of Oxidizing Radicals2018
- 著者名/発表者名
  M. Yamamoto, T. Taki, T. Sunada, T. Shikama, S. Nagaoka, H. Umemoto　and H. Horibe
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 31(3) ページ: 419-424
- NAID
  130007481491
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[雑誌論文] Proposal for Reducing Pattern Position Alignment Error of A Simplified Photo Lithography Method for Education2018
- 著者名/発表者名
  S. Nagaoka, M. Yamamoto, T. Tsuji, K. Matsuda, T. Shimizu, R. W. Johnston, T. Shikama, F. Shimokawa and H. Horibe
- 雑誌名
  
  The Proceedings of 12th Internationa Symposium on Advances in Technology Education
  
  巻: 1 ページ: 512-517
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[雑誌論文] Pressure Dependence of Photoresist Removal Rate Using Hydrogen Radicals2017
- 著者名/発表者名
  M. Yamamoto, T. Shiroi, S. Nagaoka, T. Shikama, H. Umemoto, K. Ohdaira, T. Nishiyama and H. Horibe
- 雑誌名
  
  . Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 30(3) ページ: 297-301
- NAID
  130005950262
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[雑誌論文] Fundamental Study of the Simplified Micro Diffusion Bipolar Transistor as the Educational Resource2017
- 著者名/発表者名
  S. Nagaoka, M. Yamamoto, T. Tsuji, T. Shimizu, R. W. Johnston, H. Horibe, F. Shimokawa,T. Shikama and M. Rusop
- 雑誌名
  
  Transactions of ISATE 2017 The 11th International Symposium on Advances in Technology Education
  
  巻: 1 ページ: 275-279
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[雑誌論文] A feasibility study of the selective and simultaneous thermal impurity diffusion process on the silicon substrate2016
- 著者名/発表者名
  西園寺嶺，長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston,清水共，鹿間共一
- 雑誌名
  
  The Proceeding of the 6th International Symposium on Technology for Sustainability (ISTS2016) & 2nd International Students Seminar on Leadership and Networking (ISSLN 2016)
  
  巻: - ページ: 166-171
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[雑誌論文] A proposal of the Simplified IC Fab Establishied in the Average Science Laboratory for Cultivating Scientific Mind2016
- 著者名/発表者名
  長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston，清水共，鹿間共一
- 雑誌名
  
  The Transactons of ISATE2016, The 10th International Symposium on Advances in Technology Education
  
  巻: - ページ: 13-16
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[雑誌論文] A Study of the Simplified IC FAB for the Science and Technical Education2016
- 著者名/発表者名
  高垣信巨，長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston,清水共，鹿間共一
- 雑誌名
  
  The Proceeding of the 6th International Symposium on Technology for Sustainability (ISTS2016) & 2nd International Students Seminar on Leadership and Networking (ISSLN 2016)
  
  巻: - ページ: 161-165
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] ffect of Oxygen Addition on Rate of Photoresist Removal Using Hydrogen Radicals Produced by a Tungsten Hot-Wire Catalyst2019
- 著者名/発表者名
  M. Yamamoto, T. Shiroi, T. Shikama, S. Nagaoka, H.Umemoto, and H. Horibe
- 学会等名
  The 10th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology 2019 (NANO-SciTech 2019)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] Photoresist Removal Using Hydrogen Radicals Produced by Tantalum Hot- Wire Catalyst2018
- 著者名/発表者名
  M. Yamamoto, T. Shiroi, T. Shikama, S. Nagaoka, and H. Horibe
- 学会等名
  9th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology 2018, (Nano-SciTech2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] 酸素を微量添加した水素ラジカルを用いたKrF/ArFレジスト用ベースポリマーの除去2018
- 著者名/発表者名
  1)山本雅史，砂田拓人，滝智洋，鹿間共一，長岡史郎，梅本宏信，堀邊英夫
- 学会等名
  第35回国際フォトポリマーコンファレンス（千葉）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] A Proposal of Totally Simplified Educational Semiconductor Device Fabrication Process under Normal Air Environment2018
- 著者名/発表者名
  S.Nagaoka,M.Yamamoto,T.Tsuji,T.Shimizu,R.W.Johnston, T. Shikama, and H.Horibe
- 学会等名
  9th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology 2018, (Nano-SciTech2018)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] Product of the Decomposition in Photoresist Removal using Hydrogen Radicals2018
- 著者名/発表者名
  M. Yamamoto, H. Umemoto, S. Nagaoka, T. Shikama, and H. Horibe
- 学会等名
  The 14th Eco-Energy and Materials Science and Engineering Symposium (EMSES 2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] Products Of The Decomposition In Photoresist Removal Using Hydrogen Radicals2018
- 著者名/発表者名
  M.Yamamoto, H.Umemoto, S.Nagaoka, T.Shikama and H.Horibe
- 学会等名
  The 14th Eco-Energy and Materials Science and Engineering Symposium
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] Flow Rate Dependence of Resist Removal Rate Using Hydrogen Radicals2018
- 著者名/発表者名
  T. Shiroi, M. Yamamoto, T. Shikama, S. Nagaoka, and H. Horibe
- 学会等名
  9th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology 2018, (Nano-SciTech2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] 水素ラジカルを用いたレジスト除去における除去速度の圧力依存性2017
- 著者名/発表者名
  城井智弘，山本雅史，長岡史郎，鹿間共一，梅本宏信，大平圭介，西山聖，堀邊英夫
- 学会等名
  第64回応用物理学会春季学術講演会（東京）
- 発表場所
  パシフィコ横浜，神奈川県
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] A p-n Junction Study for nMOS FET Fabrication using Alignment-less Lithography2017
- 著者名/発表者名
  高垣信巨，長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston,清水共，鹿間共一
- 学会等名
  NANO-SciTech2017, International Conference on Nanoscience & Nanotechnology 2017
- 発表場所
  Institute of Business Excellence (IBE), Universiti Teknologi MARA (UiTM),Malaysia
- 年月日
  2017-02-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] A Boron Selective Thermal Impurity Diffusion Method that Support a Simplified pMOS FET Fabrication Process2017
- 著者名/発表者名
  西園寺嶺，長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston,清水共，鹿間共一
- 学会等名
  NANO-SciTech2017, International Conference on Nanoscience & Nanotechnology 2017
- 発表場所
  Institute of Business Excellence (IBE), Universiti Teknologi MARA (UiTM),Malaysia
- 年月日
  2017-02-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] Measurement of Rate of Photoresist Removal by Hydrogen Radicals using Thin Film Interference2017
- 著者名/発表者名
  山本雅史，長岡史郎，鹿間共一，堀邊英夫，清水共
- 学会等名
  NANO-SciTech2017, International Conference on Nanoscience & Nanotechnology 2017
- 発表場所
  Institute of Business Excellence (IBE), Universiti Teknologi MARA (UiTM), Malaysia
- 年月日
  2017-02-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] 水素ラジカルを用いたレジスト除去における酸素添加の効果2016
- 著者名/発表者名
  山本雅史,梅本宏信,大平圭介,鹿間恭一,長岡史郎,西山聖,堀邊英夫
- 学会等名
  2016年度応用物理学会中四国支部若手半導体研究会
- 発表場所
  加計学園前島研修所, 岡山県
- 年月日
  2016-07-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] A Study of the Simplified IC FAB for the Science and Technical Education2016
- 著者名/発表者名
  高垣信巨，長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston,清水共，鹿間共一
- 学会等名
  the 6th International Symposium on Technology for Sustainability (ISTS2016) & 2nd International Students Seminar on Leadership and Networking (ISSLN 2016)
- 発表場所
  Vocational College Universitas Gadjah MADA, Indonesia
- 年月日
  2016-10-04
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] A feasibility study of the selective and simultaneous thermal impurity diffusion process on the silicon substrate2016
- 著者名/発表者名
  西園寺嶺，長岡史郎，辻琢人，山本雅史，R.W.Johnston,清水共，鹿間共一
- 学会等名
  The 6th International Symposium on Technology for Sustainability (ISTS2016) & 2nd International Students Seminar on Leadership and Networking (ISSLN 2016)
- 発表場所
  Vocational College Universitas Gadjah MADA, Indonesia
- 年月日
  2016-10-04
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992
[学会発表] A proposal of the Simplified IC Fab Establishied in the Average Science Laboratory for Cultivating Scientific Mind2016
- 著者名/発表者名
  長岡史郎，辻琢人，鹿間共一，山本雅史，R.W.Johnsotn，清水共
- 学会等名
  The 10th International Symposium on Advances in Technology Education
- 発表場所
  School of Engineering, TOHOKU University, Miyagi Japan
- 年月日
  2016-09-13
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K00992

1. 須崎嘉文 (60206456)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
2. 鯉沼秀臣 (70011187)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
3. 長岡史郎 (30300635)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 22件
4. 堀邊英夫 (00372243)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 14件
5. 下川房男 (90580598)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
6. 山本雅史 (60733821)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 22件
7. 清水共 (40455168)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 9件
8. JOHNSTON ROBERT (60743698)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件

鹿間 共一 SHIKAMA Tomokazu

研究課題

研究成果

共同研究者

理科室で構築するナノテクプラットフォーム

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

大気圧低温プラズマを用いたZnO薄膜における成膜速度の高速化研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Removal of Polymers for KrF and ArF Photoresist Using Hydrogen Radicals Containing a Small Amount of Oxidizing Radicals2018

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Proposal for Reducing Pattern Position Alignment Error of A Simplified Photo Lithography Method for Education2018

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Pressure Dependence of Photoresist Removal Rate Using Hydrogen Radicals2017

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Fundamental Study of the Simplified Micro Diffusion Bipolar Transistor as the Educational Resource2017

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] A feasibility study of the selective and simultaneous thermal impurity diffusion process on the silicon substrate2016

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] A proposal of the Simplified IC Fab Establishied in the Average Science Laboratory for Cultivating Scientific Mind2016

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] A Study of the Simplified IC FAB for the Science and Technical Education2016

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[学会発表] ffect of Oxygen Addition on Rate of Photoresist Removal Using Hydrogen Radicals Produced by a Tungsten Hot-Wire Catalyst2019

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Photoresist Removal Using Hydrogen Radicals Produced by Tantalum Hot- Wire Catalyst2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 酸素を微量添加した水素ラジカルを用いたKrF/ArFレジスト用ベースポリマーの除去2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] A Proposal of Totally Simplified Educational Semiconductor Device Fabrication Process under Normal Air Environment2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Product of the Decomposition in Photoresist Removal using Hydrogen Radicals2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Products Of The Decomposition In Photoresist Removal Using Hydrogen Radicals2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Flow Rate Dependence of Resist Removal Rate Using Hydrogen Radicals2018

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 水素ラジカルを用いたレジスト除去における除去速度の圧力依存性2017

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

年月日

データソース

鹿間共一 SHIKAMA Tomokazu