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日下 一也  kusaka kazuya

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70274256
その他のID
外部サイト
所属 (現在) 2025年度: 徳島大学, 大学院社会産業理工学研究部(理工学域), 講師
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2020年度 – 2023年度: 徳島大学, 大学院社会産業理工学研究部(理工学域), 講師
2010年度 – 2011年度: 徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 講師
2009年度: 徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 助教
2006年度: 徳島大学, 大学院ソシオテクノサイエンス研究部, 助手
2006年度: 徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 助手 … もっと見る
2005年度: 徳島大学, 工学部, 助手
2002年度 – 2003年度: 徳島大学, 工学部, 助手
1998年度 – 2000年度: 徳島大学, 工学部, 助手 隠す
審査区分/研究分野
研究代表者
機械材料・材料力学 / 機械材料・材料力学
研究代表者以外
小区分18010:材料力学および機械材料関連 / 機械材料・材料力学 / 機械材料・材料力学
キーワード
研究代表者
X線回折 / アルミニウム合金 / 圧縮残留応力 / レーザーピーニング / 微小領域 / 入射X線角度 / カバレージ / レーザパワー密度 / 表面観察 / X繰回折 … もっと見る / 内部応力 / レーザピーニング / 薄膜 / スパッタリング / ガラス基板 / 残留応力 / c軸配向 / アパッタリング / 窒化ガリウム / 窒化アルミニウム / 窒化物半導体 … もっと見る
研究代表者以外
残留応力 / Thermal stress / Thin film / 熱応力 / 薄膜 / 膜厚比 / アークイオンプレーティング / エロージョン / 多層膜 / Residual stress / Cu薄膜 / Cu膜 / ストレスマイグレーション / X線応力測定 / アークイオンプレティング / Thermal cycle test / Cu film / Al film / Nano-size / 保護膜 / Al薄膜 / 熱サイクル試験 / Al膜 / ナノサイズ / Synchrotron radiations / X-ray measurement / 高温その場測定 / エレクトロマイグレーション / Al配線 / シンクロトロン放射光 / X線測定 / X-ray stress measurement / Preferred orientation / Stress migration / Surface morphology / In-situ observation / Internal stress / ストレスマグレーション / 熱サイクル / 優先方位 / 表面形態 / その場観察 / 内部応力 / 変形拘束 / 双結晶変形 / 3重結晶 / アルミニウム / 単結晶応力測定 / 中性子応力測定 / 放射光応力測定 / 微視的残留応力 / 結晶粒界 / アルミニウム3重結晶 / 銅双結晶 隠す
  • 研究課題

    (8件)
  • 研究成果

    (14件)
  • 共同研究者

    (7人)
  •  高いき裂進展抑制効果を発現する耐エロージョン性Cr/CrN多層コーティング膜の開発

    • 研究代表者
      米倉 大介
    • 研究期間 (年度)
      2023 – 2025
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分18010:材料力学および機械材料関連
    • 研究機関
      徳島大学
  •  Cr/CrN多層コーティング膜を利用した耐エロージョン材料の開発

    • 研究代表者
      米倉 大介
    • 研究期間 (年度)
      2020 – 2022
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分18010:材料力学および機械材料関連
    • 研究機関
      徳島大学
  •  ミクロな視点から覗く結晶界面の変形拘束

    • 研究代表者
      英 崇夫
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2011
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      徳島大学
  •  微小領域にレーザピーニング処理したアルミニウム合金の内部応力評価研究代表者

    • 研究代表者
      日下 一也
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      徳島大学
  •  ナノサイズ薄膜の強度支配因子は何か?

    • 研究代表者
      英 崇夫
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2006
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      徳島大学
  •  X線およびシンクロトロン放射光による薄膜の高温挙動その場観察

    • 研究代表者
      英 崇夫
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      徳島大学
  •  スパッタリング窒化物半導体薄膜の作製とX線回折を用いた特性評価研究代表者

    • 研究代表者
      日下 一也
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2000
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      徳島大学
  •  薄膜および配線構造体の内部応力と原子輸送

    • 研究代表者
      英 嵩夫 (英 崇夫)
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      機械材料・材料力学
    • 研究機関
      徳島大学

すべて 2022 2021 2010 2006 2005

すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] Measurement of Micro Residual Stress Near The Grain Boundary in Copper Bycrystal2010

    • 著者名/発表者名
      Ayumi Shiro, Takao Hanabusa, Tatsuya Okada, Masayuki Nishida, Kazuya Kusaka, Osami Sakata
    • 雑誌名

      Advanced Materials Research

      巻: Vols. 89-91 ページ: 515-520

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560095
  • [雑誌論文] Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films2006

    • 著者名/発表者名
      T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata
    • 雑誌名

      International Journal of Modern Physics B Vol. 20 No. 25, 26 & 27

      ページ: 4691-4696

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [雑誌論文] Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films2006

    • 著者名/発表者名
      T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata
    • 雑誌名

      International Journal of Modern Physics B Vol.20 No.25,26&27

      ページ: 4691-4696

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [雑誌論文] Thermal stress behavior in nano-size thin aluminum films2006

    • 著者名/発表者名
      T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata
    • 雑誌名

      International Journal of Modern Physics B 20-25 26 & 27

      ページ: 4691-4696

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [雑誌論文] Residual stress measurement in sputtered copper thin films by synchrotron radiation and ordinary X-rays2005

    • 著者名/発表者名
      M.Hataya, T.Hanabusa, K.Kusaka, K.Tominaga, T.Matsue, O.Sakata
    • 雑誌名

      Materials Science Forum Vol. 490-491

      ページ: 661-666

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [雑誌論文] In-situ observation of thermal stress in nano-size thin aluminum films2005

    • 著者名/発表者名
      T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata
    • 雑誌名

      Materials Science Forum Vol.490-491

      ページ: 577-582

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [雑誌論文] Residual stress measurement in sputtered copper thin films by synchrotron radiation and ordinary X-rays2005

    • 著者名/発表者名
      M.Hataya, T.Hanabusa, K.Kusaka, K.Tominaga, T.Matsue, O.Sakata
    • 雑誌名

      Materials Science Forum Vol.490-491

      ページ: 661-666

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [雑誌論文] レーザーピーニング処理したアルミニウム合金の残留応力のレーザーパワー密度および走査速度依存性2005

    • 著者名/発表者名
      日下一也
    • 雑誌名

      材料 54巻,7号

      ページ: 672-678

    • NAID

      110006266558

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17760085
  • [雑誌論文] In-situ observation of thermal stress in nano-size thin aluminum films2005

    • 著者名/発表者名
      T.Hanabusa, K.Kusaka, S.Shingubara, O.Sakata
    • 雑誌名

      Materials Science Forum Vol. 490-491

      ページ: 577-582

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17560071
  • [学会発表] 膜厚を統一したCrN薄膜の残留応力とドロップレット密度の関係2022

    • 著者名/発表者名
      日下一也 ,川崎森生,坂崎拓海,米倉大介
    • 学会等名
      日本材料学会 第71期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K04160
  • [学会発表] Relationship between droplet density and internal stress in CrNfilms deposited by AIP method2022

    • 著者名/発表者名
      Kazuya Kusaka, Morio Kawasaki and Daisuke Yonekura
    • 学会等名
      THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC-22
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K04160
  • [学会発表] AIP法で生成したCrN膜内のドロップレットが圧縮残留応力に及ぼす影響2022

    • 著者名/発表者名
      川﨑 森生, 坂崎 拓海, 日下 一也, 米倉 大介
    • 学会等名
      第56回X線材料強度に関するシンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K04160
  • [学会発表] アークイオンプレーティング法で形成した窒化クロム薄膜の圧縮残留応力と表面性状の関係2021

    • 著者名/発表者名
      川崎森生,岡 翼,日下一也,米倉大介
    • 学会等名
      日本材料学会 第70期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K04160
  • [学会発表] AIP 法により生成した窒化クロム薄膜のドロップレット量の残留応力および基板設置位置依存性2021

    • 著者名/発表者名
      川崎森生,岡 翼,日下一也 ,米倉大介
    • 学会等名
      日本材料学会,第55回X線材料強度に関するシンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20K04160
  • 1.  英 崇夫 (20035637)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 8件
  • 2.  西田 真之 (80332047)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 1件
  • 3.  米倉 大介 (70314846)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 5件
  • 4.  岡田 達也 (20281165)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 5.  城 鮎美
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 6.  文屋 宏友
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  河野 智哉
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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