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フォードマン、チャールズ マイケル  FORTMANN C.M.

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

フォートマン チャールズ・マイケル  FORTMANN C.M.

フォートマン チャールズ  フォートマン チャールズ マイケル

マイケル チャールズ・フ  マイケル チャールズ・フォートマン

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研究者番号 70293066
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1997年度 – 1999年度: 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 教授
1997年度: 東京工業大学, 大学院・総合理工学研究所, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者以外
応用物性・結晶工学
キーワード
研究代表者以外
リーク電流 / ブロッキング電流 / 非線形現象 / 中距離構造 / ビディコン型撮像素子 / アバランシェ増倍効果 / a-Si:H膜 / 化学アニーリング法 / solar cell / SiFィイD24ィエD2 … もっと見る / VHF plasma / high mobility / structure control / atomic hydrogen / 分光エリプソメトリーその場観察法 / layer-by-layer法 / 二段階成長法 / 表面反応制御 / 水素原子メディエータ / 半導体ヘテロ成長 / II-VI半導体薄膜 / 多結晶シリコン薄膜 / 太陽電池 / SiF_4 / VHFプラズマ / 高移動度 / 構造制御 / 原子状水素 / ビジコン型撮像デバイス / アバランシェ倍増効果 / ナロ-ギャップアモルファスシリコン / ワイドギャップアモルファスシリコン / バンドギャップ制御 / 中距離構造制御 / ケミカルアニーリング法 / 光電流 / 薄膜 / アバランシェ増幅 / アモルファス・シリコン / ブロッキング電極 / 撮像デバイス / アモルファスシリコン / アバランシェ増幅効果 / ワイドギャップシリコン / 化学アニーリング 隠す
  • 研究課題

    (5件)
  • 共同研究者

    (2人)
  •  アモルファス・シリコンの中距離構造の制御と新機能創成

    • 研究代表者
      清水 勇
    • 研究期間 (年度)
      1999
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  アモルファス・シリコンの中距離構造の制御と光電流増倍効果

    • 研究代表者
      清水 勇
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  アモルファス・シリコンの中距離構造の制御と新機能創成

    • 研究代表者
      清水 勇
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  「水素原子」をメディエータとする半導体物質接合界面構造制御

    • 研究代表者
      清水 勇
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  アモルファス・シリコン薄膜における低ノイズ・アバランシェ増幅機能の発現

    • 研究代表者
      清水 勇
    • 研究期間 (年度)
      1996 – 1997
    • 研究種目
      萌芽的研究
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      東京工業大学
  • 1.  清水 勇 (40016522)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  神谷 利夫 (80233956)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 0件

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