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久保田 智広  KUBOTA Tomohiro

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70322683
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2015年度 – 2016年度: 東北大学, 流体科学研究所, 准教授
2011年度 – 2013年度: 東北大学, 流体科学研究所, 准教授
2009年度: 東北大, 流体科学研究所, 助教
2007年度 – 2008年度: 東北大学, 流体科学研究所, 助教
2005年度 – 2006年度: 東北大学, 流体科学研究所, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物理学一般 / プラズマエレクトロニクス / 電子・電気材料工学
研究代表者以外
薄膜・表面界面物性 / 応用物理学一般
キーワード
研究代表者
中性粒子ビーム / 第一原理計算 / 量子井戸 / バイオナノプロセス / 原子間力顕微鏡 / 量子ドット / ナノディスク / 結合次数解析 / 活性化エネルギー / 酸性度 … もっと見る / 密度汎関数法 / プラズマ・ビーム誘起錯体反応 / 第一原理理論計算 / 鉄 / 遷移金属錯体 / 遷移金属エッチング / 塩素 / 紫外光スペクトル / オージェ遷移 / 共鳴遷移 / 欠陥生成 / ワイヤレス測定 / イオンシース / 紫外光照射損傷 / オンウェハモニタリング / エッチング形状予測 / X線光電子分光法 / 積層ナノディスク / 導電性探針(プローブ) / 原子間力顕微鏡(AFM) / ケルビン力顕微鏡(KFM) / クーロン階段 / 自然酸化膜 / 電気特性 … もっと見る
研究代表者以外
エッチング / 中性粒子ビーム / nanocolumn / fin-type vertical MOSFET / low-k film / gate electrode etching / silicon oxynitride / negative ion / etching / neutral beam / 薄膜形成 / シリコン酸窒膜 / ナノ加工 / 半導体デバイス / エッチングダメージ / 起立ゲート型トランジスタ / 高誘電率膜 / 有機分子デバイス / カーボンナノチューブ / 表面改質 / ナノカラム / フィン型MOSFET / 低誘電率絶縁膜 / ゲート電極加工 / シリコン酸窒化膜 / 負イオン / マイクロマシンプローブ / Bow-tieアンテナ型 / 表面プラズモン / Bow-tieアンテナ / 近接場光 / Pbセンター / 低ダメージエッチング / フェリチン / 量子ドット 隠す
  • 研究課題

    (6件)
  • 研究成果

    (82件)
  • 共同研究者

    (5人)
  •  遷移金属の新しい低温化学反応エッチングメカニズムの提案研究代表者

    • 研究代表者
      久保田 智広
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2016
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      プラズマエレクトロニクス
    • 研究機関
      東北大学
  •  エネルギー粒子可変ビームによるプラズマプロセス表面反応機構の解明とモデリング研究代表者

    • 研究代表者
      久保田 智広
    • 研究期間 (年度)
      2011 – 2013
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      東北大学
  •  単電子デバイスのための積層量子ナノディスク構造の精密作製と量子特性制御研究代表者

    • 研究代表者
      久保田 智広
    • 研究期間 (年度)
      2008
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      東北大学
  •  単一サブ10nm微細構造のためのマルチ同時解析装置の開発研究代表者

    • 研究代表者
      久保田 智広
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2007
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      東北大学
  •  サブ10nm量子ドットの超解像近接場分光

    • 研究代表者
      寒川 誠二
    • 研究期間 (年度)
      2004 – 2005
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      東北大学
  •  低エネルギー高密度中性粒子ビームによるナノ加工と新機能物質創製

    • 研究代表者
      寒川 誠二
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      東北大学

すべて 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2008 2007 2006 2005 2004 その他

すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] 高い電流利得を有するVibrating-Body Field-Effect Transistorの提案2013

    • 著者名/発表者名
      S.Ueki, Y.Nishimori, K.Miwa, S.Nakagawa, H.Imamoto, T.Kubota, M.Sugiyama, S.Samukawa, and G.Hashiguchi
    • 雑誌名

      電気学会論文誌E(センサ・マイクロマシン部門誌)

      巻: 133 号: 11 ページ: 332-336

    • DOI

      10.1541/ieejsmas.133.332

    • NAID

      130003382688

    • ISSN
      1341-8939, 1347-5525
    • 言語
      日本語
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [雑誌論文] Energy-loss Mechanism of Single-crystal Silicon Microcantilever due to Surface Defects G.erated during Plasma Processing2013

    • 著者名/発表者名
      A.Wada, Y.Yanagisawa, B.Altansukh, T.Kubota, T.Ono, S.Yamasaki, and S.Samukawa
    • 雑誌名

      J. Micromech. Microeng.

      巻: Vol.23 号: 6 ページ: 065020-065020

    • DOI

      10.1088/0960-1317/23/6/065020

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [雑誌論文] Prediction of etching-shape anomaly due to distortion of ion sheath around a large-scale three-dimensional structure by means of on-wafer monitoring technique and computer simulation2013

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota, H.Ohtake, R.Araki, Y.Yanagisawa, T.Iwasaki, K.Ono, K.Miwa, and S.Samukawa
    • 雑誌名

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      巻: Vol.46 号: 41 ページ: 415203-415203

    • DOI

      10.1088/0022-3727/46/41/415203

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [雑誌論文] Highly Selective Silicon Nitride Etching to Si and SiO_2 for Gate Sidewall Spacer Using CF_3I/O_2/H_2 Neutral Beam2013

    • 著者名/発表者名
      D.Nakayama, A.Wada, T.Kubota, R.Bruce, R.M.Martin, M.Haass, N.Fuller, and S.Samukawa
    • 雑誌名

      Phys. D: Appl. Phys.

      巻: Vol.46 号: 20 ページ: 205203-205203

    • DOI

      10.1088/0022-3727/46/20/205203

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [雑誌論文] Low-damage silicon etching using a neutral beam2013

    • 著者名/発表者名
      K.Miwa, Y.Nishimori, S.Ueki, M.Sugiyama, T.Kubota, and S.Samukawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B

      巻: Vol.31 号: 5

    • DOI

      10.1116/1.4819973

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [雑誌論文] Numerical study on electron transfer mechanism by collision of ions at graphite surface in highly efficient neutral beam generation2012

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota, N.Watanabe, S.Ohtsuka, T.Iwasaki, K.Ono, Y.Iriye, and S.Samukawa
    • 雑誌名

      J. Physics D : Appl. Phys.

      巻: Vol.45 号: 9 ページ: 095202-095202

    • DOI

      10.1088/0022-3727/45/9/095202

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [雑誌論文] Coulomb-staircase observed in silicon-nanodisk structures fabricated by low-energy chlorine neutral beams2007

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 101

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18760049
  • [雑誌論文] Low-damage fabrication of high aspect nanocolumns by using neutral beams and ferritin-iron-core mask2007

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science and Technology B 25

      ページ: 760-766

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18760049
  • [雑誌論文] Charging and Coulomb staircase effects in silicon nanodisk structures fabricated by defect-free Cl neutral beam etching process2006

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 89・23

      ページ: 233127-233127

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18760049
  • [雑誌論文] Study of neutral-beam etching conditions for the fabrication of 7-nm-diameter nanocolumn structures using ferritin iron-core masks2005

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science and Technology B23(2)

      ページ: 534-539

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360016
  • [雑誌論文] Study of neutral-beam etching conditions for the fabrication of 7-nm-diameter nanocolumn structures using ferritin iron-core masks2005

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science and Technology B23・2

      ページ: 534-539

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360016
  • [雑誌論文] A 7-nm nanocolumn structure fabricated by using a ferritin iron-core mask and low-energy Cl neutral beams2004

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 84(9)

      ページ: 1555-1557

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360016
  • [雑誌論文] A 7-nm nanocolumn structure fabricated by using a ferritin iron-core mask and low-energy Cl neutral beams2004

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters 84・9

      ページ: 1555-1557

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360016
  • [学会発表] 中性粒子ビーム励起錯体反応による遷移金属エッチングメカニズムのTight-binding量子分子動力学法を用いた検討2016

    • 著者名/発表者名
      久保田智広, 伊藤寿, 久保百司, 寒川誠二
    • 学会等名
      第63回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • 年月日
      2016-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] Transition Metal Complex Reaction Etching with Neutral Beam and Its Mechanism Investigated by First-Principles Calculation2016

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota, Yoshiyuki Kikuchi, and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      IEEE 16th International Conference on Nanotechnology
    • 発表場所
      Sendai International Center (宮城県仙台市)
    • 年月日
      2016-08-22
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] 中性粒子ビーム励起錯体反応を用いた遷移金属エッチングにおける吸着分子の影響2016

    • 著者名/発表者名
      久保田智広、菊地良幸、伊藤寿、久保百司、寒川誠二
    • 学会等名
      第63回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学大岡山キャンパス(東京都目黒区)
    • 年月日
      2016-03-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] 中性粒子ビーム励起錯体反応を用いたCoFeBエッチング2016

    • 著者名/発表者名
      久保田 智広、美山 遼、菊地 良幸、寒川 誠二
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ (新潟県新潟市)
    • 年月日
      2016-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] 中性粒子ビーム励起錯体反応を用いた Taエッチングのメカニズム2016

    • 著者名/発表者名
      久保田智広、久保百司、寒川誠二
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ (新潟県新潟市)
    • 年月日
      2016-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] First-Principles Theoretical Investigation on Mechanism of New Transition Metal Etching Process using Oxygen and argon Neutral Beams and Ethanol Gas2015

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota, Yoshiyuki Kikuchi, and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      American Vacuum Society 62nd International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      San Jose (USA)
    • 年月日
      2015-10-20
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] Transition Metal Complex Reaction Etching for MRAM Applications using Neutral Beam and Its Mechanism Investigated by First-Principles Calculation2015

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota, Yoshiyuki Kikuchi, Toshihisa Nozawa, and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      2015 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      札幌コンベンションセンター(北海道札幌市)
    • 年月日
      2015-09-29
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] 酸素中性粒子ビームによる酸化及び錯体反応を用いた遷移金属エッチングメカニズム(3)2015

    • 著者名/発表者名
      久保田智広, 菊地良幸, 野沢俊久, 伊藤寿, 久保百司, 寒川誠二
    • 学会等名
      第72回 応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2015-09-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] A new metallic complex reaction etching for MRAM materials by a low-temperature neutral beam process2015

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      Plasma Etch and Strip in Microtechnology 2015
    • 発表場所
      Leuven (Belgium)
    • 年月日
      2015-04-27
    • 招待講演 / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K04712
  • [学会発表] オンウェハモニタリングによるプラズマエッチング形状異常予測2014

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,佐藤充男,岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      相模原
    • 年月日
      2014-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Feature Profile Evolution in Plasma Processing using On-wafer Monitoring System2014

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota and S.Samukawa
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas and 31st Symposium on Plasma Processing
    • 発表場所
      福岡
    • 年月日
      2014-02-05
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析VII2013

    • 著者名/発表者名
      渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,植木真治,額賀理,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • 年月日
      2013-03-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウェハモニタリングによるプラズマプロセスダメージ・形状予測2013

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,佐藤充男,岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • 年月日
      2013-03-27
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングの加工形状シミュレーション(4)2013

    • 著者名/発表者名
      望月俊輔,渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,三輪和弘,久保田智広,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • 年月日
      2013-03-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Core Technology Consortium for Advanced Energy Devices2013

    • 著者名/発表者名
      S.Samukawa and T.Kubota
    • 学会等名
      10th International Conference on Flow Dynamics
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      2013-11-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウェハモニタリングによるプラズマエッチング形状予測2013

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,佐藤充男,岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      京田辺
    • 年月日
      2013-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system2013

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota, M.Sato, T.Iwasaki, K.Ono, and S.Samukawa
    • 学会等名
      AVS 60th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      アメリカ・Long Beach
    • 年月日
      2013-10-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるシリコンエッチング(7)2013

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,三輪和弘,バトナサン・アルタンスック,大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,入江康郎,小野耕平,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • 年月日
      2013-03-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] On-wafer monitoring technique for highly efficient fabrication process of nano energy devices2013

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota and S.Samukawa
    • 学会等名
      10th International Conference on Flow Dynamics
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      2013-11-26
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングプロセスの総合的シミュレーション2013

    • 著者名/発表者名
      渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,望月俊輔,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      京田辺
    • 年月日
      2013-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析(3)2013

    • 著者名/発表者名
      大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,望月俊輔,三輪和弘,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • 年月日
      2013-03-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Numerical simulation of total processes of neutral beam etching from G.eration of neutral beam by collision of ions against graphite sidewall to 3-dimensional etching profile2013

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, S.Ohtsuka, S.Mochizuki, T.Kubota, T.Iwasaki, Y.Iriye, K.Ono, and S.Samukawa
    • 学会等名
      AVS 60th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      アメリカ・Long Beach
    • 年月日
      2013-10-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるシリコンエッチング(5)2012

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,三輪和弘,大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2012-03-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析2012

    • 著者名/発表者名
      大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,望月俊輔,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2012-03-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 3-Dimensional and Defect-free Etching by Neutral Beam for MEMS Applications2012

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota, A.Wada, Y.Yanagisawa, B.Altansukh, K.Miwa, T.Ono, and S.Samukawa
    • 学会等名
      2012 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2012-09-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウエハーモニタリングとシミュレーションの融合によるプラズマプロセス中の表面イオンシース形状と入射イオン軌道予測2012

    • 著者名/発表者名
      荒木良亮,久保田智広,岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2012-03-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングの加工形状シミュレーション(3)2012

    • 著者名/発表者名
      望月俊輔,渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,三輪和弘,久保田智広,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      松山
    • 年月日
      2012-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析(2)2012

    • 著者名/発表者名
      大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,望月俊輔,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      松山
    • 年月日
      2012-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Numerical study on electron transfer mechanism by collision of ions at graphite surface in highly-efficient neutral beam Generation2012

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, T.Kubota, and S.Samukawa
    • 学会等名
      The 8th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    • 発表場所
      奈良
    • 年月日
      2012-01-17
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングの加工形状シミュレーション(2)2012

    • 著者名/発表者名
      望月俊輔,大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,久保田智広,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2012-03-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングモデルと加工形状解析2012

    • 著者名/発表者名
      大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,望月俊輔,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
    • 発表場所
      北九州
    • 年月日
      2012-10-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Prediction of ion sheath shape and ion trajectory during plasma etching processing using on-wafer monitoring technique and simulation2012

    • 著者名/発表者名
      R.Araki, T.Kubota, and S.Samukawa
    • 学会等名
      The 8th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    • 発表場所
      奈良
    • 年月日
      2012-01-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Theoretical calculation of neutralization efficiency of positive and negative chlorine ions with consideration of excited states2012

    • 著者名/発表者名
      S.Ohtsuka, N.Watanabe, T.Kubota, T.Iwasaki, Y.Iriye, K.Ono, and S.Samukawa
    • 学会等名
      AVS 59th International Symposium and Exhibition
    • 発表場所
      アメリカ・Tampa
    • 年月日
      2012-11-01
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるシリコンエッチング(6)2012

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,三輪和弘,バトナサン・アルタンスック,大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      松山
    • 年月日
      2012-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using Wireless On-Wafer Monitoring System2012

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota and S.Samukawa
    • 学会等名
      Ninth International Conference on Flow Dynamics
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      2012-09-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 形状シミュレーションによる塩素中性粒子ビームエッチングの加工形状の検討2012

    • 著者名/発表者名
      望月俊輔,大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,三輪和弘,久保田智広,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第29回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
    • 発表場所
      北九州
    • 年月日
      2012-10-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビーム生成におけるアパーチャ構造とエッチング特性解析2011

    • 著者名/発表者名
      大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,植木真治,額賀理,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形
    • 年月日
      2011-08-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Damage-free silicon etching using large diameter neutral beam source2011

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      International Conference on Electronics Packaging
    • 発表場所
      奈良
    • 年月日
      2011-04-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Energy and Angular Distribution Analysis for Neutral Beam and Application for Etching Simulation2011

    • 著者名/発表者名
      S.Ohtsuka, N.Watanabe, T.Iwasaki, K.Ono, Y.Iriye, Osamu Nukaga, S.Ueki, T.Kubota, M.Sugiyama, and S.Samukawa
    • 学会等名
      AVS 58th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      アメリカ・Nashville
    • 年月日
      2011-11-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるシリコンエッチング(4)2011

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,大塚晋吾,渡辺尚貴,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,杉山正和,大竹浩人,寒川誠二
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形
    • 年月日
      2011-08-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] High-aspect-ratio silicon etching using large-diameter neutral beam source2011

    • 著者名/発表者名
      T.Kubota, N.Watanabe, S.Ohtsuka, K.Ono, H.Ohtake, S.Ueki, Y.Nishimori, G.Hashiguchi, and S.Samukawa
    • 学会等名
      AVS 58th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      アメリカ・Nashville
    • 年月日
      2011-11-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウエハーモニタリングとシミュレーションの融合による立体形状エッチングにおけるシース形状およびイオン軌道予測2011

    • 著者名/発表者名
      荒木良亮,久保田智広,三輪和弘,岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形
    • 年月日
      2011-08-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるエッチングの加工形状シミュレーション2011

    • 著者名/発表者名
      望月俊輔,久保田智広,大塚晋吾,小野耕平,岩崎拓也,渡辺尚貴,入江康郎,杉山正和,寒川誠二
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形
    • 年月日
      2011-08-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析V2011

    • 著者名/発表者名
      渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,植木真治,額賀理,杉山正和,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形
    • 年月日
      2011-08-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Silicon etching using large-diameter neutral beam source2011

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology
    • 発表場所
      大連、中国
    • 年月日
      2011-07-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] High-aspect-ratio silicon etching using large-diameter neutral beam source2011

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      American Vacuum Society 58th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      Nashville、米国
    • 年月日
      2011-11-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Theoretical analysis of electron transfer during the process of neutral beam G.eration2011

    • 著者名/発表者名
      N.Watanabe, S.Ohtsuka, T.Iwasaki, K.Ono, Yasuro Iriye, S.Ueki, Osamu Nukaga, T.Kubota, M.Sugiyama, and S.Samukawa
    • 学会等名
      AVS 58th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      アメリカ・Nashville
    • 年月日
      2011-11-03
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 第一原理電子状態計算による中性粒子ビーム生成メカニズムの解析2011

    • 著者名/発表者名
      渡辺尚貴, 大塚晋吾, 岩崎拓也, 小野耕平,入江康郎, 額賀理, 植木真治, 杉山正和,久保田智広, 寒川誠二
    • 学会等名
      第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2011-09-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビーム生成におけるアパーチャ構造とエッチング特性解析2011

    • 著者名/発表者名
      大塚晋吾, 渡辺尚貴, 岩崎拓也, 小野耕平,入江康郎, 額賀理, 植木真治, 杉山正和,久保田智広, 寒川誠二
    • 学会等名
      第28回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2011-09-27
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Fabrication of Diameter- And Thickness-Controlled Nanodisk by using Defect-Free Neutral Beam And Its Quantum Effect2008

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      8th International Symposium on Advanced Fluid Information and Transdiscinlinary Fluid Integration
    • 発表場所
      東北大学
    • 年月日
      2008-12-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-20560288
  • [学会発表] Coulomb-staircase Effect in Silicon-nanodisk Structures Fabricated Using Damage-free Cl Neutral Beam Etching2007

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 学会等名
      The 2007 Silicon Nanoelectronics Workshop
    • 発表場所
      リーガロイヤルホテル京都(京都府京都市)
    • 年月日
      2007-06-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18760049
  • [学会発表] Fabrication of defect-free and diameter-controlled silicon nanodisks for future quantum devices by using neutral beam etching2007

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota
    • 学会等名
      American Vacuum Society 54th International Symposium and Exhibition
    • 発表場所
      Washington State Conventi on Center(米国シアトル)
    • 年月日
      2007-10-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18760049
  • [学会発表] Feature Profile Evolution in Plasma Processing using On-wafer Monitoring System

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      8th International Conference on Reactive Plasmas and 31st Symposium on Plasma Processing
    • 発表場所
      Fukuoka Convention Center
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Fabrication and evaluation of silicon micromechanical resonator using neutral beam etching technology

    • 著者名/発表者名
      Nguyen Van Toan, Tomohiro Kubota, Halubai Sekhar, Seiji Samukawa, and Takahito Ono
    • 学会等名
      The 9th International Conference on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems
    • 発表場所
      Hyatt Regency Waikiki,アメリカ
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] On-wafer monitoring technique for highly efficient fabrication process of nano energy devices

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      10th International Conference on Flow Dynamics
    • 発表場所
      Sendai International Center
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるシリコンエッチング(6)

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      第73回 応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      松山
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Silicon micromechanical resonator with high quality factor fabricated by damage-free neutral beametching process

    • 著者名/発表者名
      Halubai Sekhar,久保田智広,Van Toan Nguyen,小野崇人,寒川誠二
    • 学会等名
      第61回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Damage-free AlGaN/GaN Recess-Gate Etching using Cl2 Neutral Beam

    • 著者名/発表者名
      Halubai Sekhar ,久保田智広,岡田 健,太田実雄,藤岡 洋,寒川誠二
    • 学会等名
      第61回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウェハモニタリングによるプラズマエッチング形状異常予測

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,佐藤充男,岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第61回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 3-Dimensional and Defect-free Etching by Neutral Beam for MEMS Applications

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      2012 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      京都
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Numerical simulation of total processes of neutral beam etching from generation of neutral beam by collision of ions against graphite sidewall to 3-dimensional etching profile

    • 著者名/発表者名
      Naoki Watanabe, Shingo Ohtsuka, Shunsuke Mochizuki, Tomohiro Kubota, Takuya Iwasaki, Yasuroh Iriye, Kohei Ono, and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      AVS 60th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      Long Beach Convention Center,アメリカ
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 塩素中性粒子ビームを用いた窒化物薄膜のエッチング特性

    • 著者名/発表者名
      太田実雄,Halubai Sekhar,久保田智広,岡田 健,寒川誠二,藤岡 洋
    • 学会等名
      第61回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] アンペロメトリックバイオイメージングプラットフォーム「バイオLSI」

    • 著者名/発表者名
      井上 久美、松平 昌昭、伊野 浩介、中野 将識、菅野 佑介、須田 篤史、國方 亮太、吉田 慎哉、早坂 丈、菊地 良幸、Xijiang Chang、久保田 智広、珠玖 仁、田中 秀治、寒川 誠二、末永 智一
    • 学会等名
      第74回分析化学討論会
    • 発表場所
      日本大学工学部
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームによるシリコンエッチング(7)

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      第60回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウェハモニタリングによるプラズマエッチング形状予測

    • 著者名/発表者名
      久保田智広,佐藤充男, 岩崎拓也,小野耕平,寒川誠二
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学京田辺キャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Damage-free AlGaN/GaN Recess-Gate Etching using Cl2 Neutral Beam for High-Performance HEMTs

    • 著者名/発表者名
      Halubai Sekhar, Tomohiro Kubota, Takeru Okada, Yosuke Tamura, ChangYong Lee, Jitsuo Ohta, Hiroshi Fujioka, and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      The 3rd International Symposiumon Next-Generation Electronics
    • 発表場所
      Chang Gung University,台湾
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] オンウェハモニタリングによるプラズマプロセスダメージ・形状予測

    • 著者名/発表者名
      久保田智広
    • 学会等名
      第60回 応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      厚木
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Kubota, Michio Sato, Takuya Iwasaki, Kohei Ono, and Seiji Samukawa
    • 学会等名
      AVS 60th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      Long Beach Convention Center,アメリカ
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • [学会発表] 中性粒子ビームエッチングプロセスの総合的シミュレーション

    • 著者名/発表者名
      渡辺尚貴,大塚晋吾,岩崎拓也,小野耕平,入江康郎,望月俊輔,久保田智広,寒川誠二
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学京田辺キャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23360040
  • 1.  寒川 誠二 (30323108)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 64件
  • 2.  羽根 一博 (50164893)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  小野 崇人 (90282095)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  熊谷 慎也 (70333888)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  近藤 道雄 (30195911)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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