磯村雅夫 ISOMURA Masao

研究者番号	70365998
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2017年度 – 2019年度: 東海大学, 工学部, 教授 2008年度 – 2013年度: 東海大学, 工学部, 教授
審査区分/研究分野	研究代表者応用物理学一般研究代表者以外プラズマ科学
キーワード	研究代表者ゲルマニウム / 熱光発電 / プラズマ / 光電変換 / バイアス電圧 / 薄膜 / イオンダメージ / カソードバイアス / プラズマ電位 / スパッター … もっと見る / 結晶性 / イオン衝撃 / 水素 / 不活性ガス / ナノ結晶 / 反応性スパッター … もっと見る研究代表者以外プラズマ・核融合 / プラズマ加工 / プラズマ土壌改質 / 航空機翼材表面処理 / マイクロ波大気圧プラズマ / 大規模直線型マイクロ波照射源 / 大規模直線型プラズマ / 大規模表面処理 / 大面積プラズマ / 大規模直線型マイクロ波放射源 / 大規模プラズマ表面処理 / マイクロ波直線プラズマ / 大規模直線型大気圧プラズマ / FPDプロセス / 半導体プロセス / 大気圧プラズマ / 大面積プラズマ処理 / 大規模直線型マイクロ波プラズマ隠す

大規模直線型マイクロ波大気圧プラズマの生成技術に関する研究
- 研究代表者
  
  進藤春雄
- 研究期間 (年度)
  2017 – 2019
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマ科学
- 研究機関
  株式会社プラズマ理工学研究所
ナノ結晶ゲルマニウム薄膜を用いた熱光発電素子に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  磯村雅夫
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2013
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物理学一般
- 研究機関
  東海大学
ナノ結晶ゲルマニウム薄膜を用いた熱光発電素子に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  磯村雅夫
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用物理学一般
- 研究機関
  東海大学

すべて 2020 2018 2017 2014 2013 2012 2011 2010 2009 2008 その他

すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] Development of flexible perovskite solar cells by the low-temperature fabrication of TiO2 electron transport layers2020
- 著者名/発表者名
  Mohammed Alshemeili, Arthur Nnadi, Sem Visal, Tetsuya Kaneko, Masao Isomura, Tetsuhiro Katsumata, Koji Tomita, Md. Shahiduzzaman
- 雑誌名
  
  J. Advanced Science
  
  巻: 32
- NAID
  130007815450
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K05736
[雑誌論文] 大規模表面処理のための直線型マイクロ波プラズマ2018
- 著者名/発表者名
  進藤春雄　桑畑周司　磯村雅夫
- 雑誌名
  
  自動車技術（招待論文）
  
  巻: 72 ページ: 74-80
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K05736
[雑誌論文] 表面処理のための大気圧直線型マイクロ波プラズマ2017
- 著者名/発表者名
  進藤春雄、桑畑周司、磯村雅夫
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Technologies of Japan
  
  巻: 60 ページ: 105-111
- NAID
  130005466792
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K05736
[雑誌論文] Generation of microwave-excited atmospheric-pressure line plasma and its application2017
- 著者名/発表者名
  Hiroshi Kuwahata, Hiroshi Miyata, Masao Isomura and Haruo Shindo
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 56 号: 12 ページ: 126201-126201
- DOI
  10.7567/jjap.56.126201
- NAID
  210000148462
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K05736
[雑誌論文] A new Floating-Probe for Measurement of Insulated Plasma Produced by Radio-Frequency Power2012
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Taniuch, Toshinori Yamada, Takanori Tokieda, Michiaki Utsumi, Masao Isomura and Haruo Shindo
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 51
- NAID
  210000141592
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[雑誌論文] 反応性スパッタ法による微結晶ゲルマニウム薄膜における不純物添加効果2011
- 著者名/発表者名
  山田利宜、片岡拓朗、畑野雄太、磯村雅夫
- 雑誌名
  
  東海大学紀要工学部
  
  巻: 51 ページ: 77-82
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[雑誌論文] 反応性スパッタ法による微結晶ゲルマニウム薄膜における不純物添加効果2011
- 著者名/発表者名
  山田利宜、片岡拓朗、畑野雄太、磯村雅夫
- 雑誌名
  
  東海大学紀要工学部
  
  巻: Vol.51、No. 1 ページ: 77-82
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering2010
- 著者名/発表者名
  N.Yoshida, Y.Hatano, M.Isomura
- 雑誌名
  
  Sol.Energy Mater.& Sol.Cells 95
  
  ページ: 175-178
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering2010
- 著者名/発表者名
  N.Yoshida, Y.Hatano, M.Isomura
- 雑誌名
  
  Sol.Energy Mater & Sol.Cells
  
  巻: 95 ページ: 175-178
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[雑誌論文] Microcrystalline Silicon thin films deposited by the reactive RF magnetron sputtering system2009
- 著者名/発表者名
  Yuki Tomita, Masao Isomura
- 雑誌名
  
  Sol.Energy Mater.& Sol.Cells 93
  
  ページ: 816-819
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared by the Reactive RF Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  M.Sugita, Y.Sano, Y.Tomita, M.Isomura
- 雑誌名
  
  Method J.Non-Cryst Solids 354
  
  ページ: 2113-2116
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[雑誌論文] 反応性スパッター法による微結晶シリコンゲルマニウム半導体薄膜の作製2008
- 著者名/発表者名
  磯村雅夫、中村勲
- 雑誌名
  
  J.Vac.Soc.Jpn. 51
  
  ページ: 663-667
- NAID
  10024407181
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[雑誌論文] Microcrystalline Silicon-Germanium Thin Films Prepared by the Chemical Transport Process Using Hydrogen Radicals2008
- 著者名/発表者名
  H.Kawauchi, M.Isomura, T.Matsui, M.Kondo
- 雑誌名
  
  J.Non-Cryst.Solids 354
  
  ページ: 109-2112
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[産業財産権] 多結晶ゲルマニウムおよび多結晶シリコンゲルマニウム2010
- 発明者名
  磯村雅夫
- 権利者名
  学校法人東海大学
- 出願年月日
  2010-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[産業財産権] 多結晶ゲルマニウムおよび多結晶シリコンゲルマニウム2010
- 発明者名
  磯村雅夫
- 権利者名
  学校法人東海大学
- 出願年月日
  2010-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 直線型マイクロ波プラズマ生成のための導波管内電磁界2018
- 著者名/発表者名
  宮翔真, 亀山高範, 内海倫明, 桑畑周司, 磯村雅夫, 進藤春雄
- 学会等名
  応用物理学会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17K05736
[学会発表] Effect of Applying Negative DC Cathode Bias in RF Magnetron Sputtering2014
- 著者名/発表者名
  K. Osuga, T. Yamada, H. Shindo, M. Isomura
- 学会等名
  8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing
- 発表場所
  Fukuoka International Congress Center
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] Amorphous silicon-nitride films prepared by reactive sputtering2013
- 著者名/発表者名
  Makoto Nozawa and Masao Isomura
- 学会等名
  25rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
- 発表場所
  Trornto Univ., Canada
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] Amorphous silicon-nitride films prepared by reactive sputtering2013
- 著者名/発表者名
  M. Nozawa and M. Isomura
- 学会等名
  25rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
- 発表場所
  Toronto, Canada
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] Effect of applying negative DC cathode bias in RF magnetron sputtering2013
- 著者名/発表者名
  K. Osuga, T. Yamada, H. Shindo, M. Isomura
- 学会等名
  MJIIT-JUC joint international symposium 2013
- 発表場所
  東海大学　湘南校舎
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] Effect of applying negative DC cathode bias in RF magnetron sputtering2013
- 著者名/発表者名
  K. Osuga, T. Yamada, H. Shindo, M. Isomura
- 学会等名
  Proc. the MJIIT-JUC joint international symposium 2013
- 発表場所
  Tokai Univ., Hiratsuka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] RFマグネトロンスパッタにおける負のDCカソードバイアス印加の効果2013
- 著者名/発表者名
  大須賀康平、山田利宜、進藤春雄、磯村雅夫
- 学会等名
  第60回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性スパッタ法を用いたアモルファスシリコン系ワイドバンドギャップ薄膜作製に関する検討2012
- 著者名/発表者名
  野澤慎、鈴木亮祐、磯村雅夫
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学・松山大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性RFスパッタ法におけるターゲット電極への負の直流バイアス印加によるイオンダメージ低減の検討2012
- 著者名/発表者名
  大須賀康平,山田利宜,進藤春雄,磯村雅夫
- 学会等名
  第4回薄膜太陽電池セミナー
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホ-ル
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] Effect of negative cathode bias voltage in reactive sputtering of microcrystalline silicon2012
- 著者名/発表者名
  T. Yamada, Y. Taniuti, H.Sindo , M. Isomura
- 学会等名
  2th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
- 発表場所
  Hangzhou, China
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] Effect of negative cathode bias voltage in reactive sputtering of microcrystalline silicon2012
- 著者名/発表者名
  T. Yamada, Y. Taniuti, H.Sindo , M. Isomura
- 学会等名
  22th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
- 発表場所
  Hangzhou, China
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 新エミッシブプロープ法による高周波プラズマの診断2012
- 著者名/発表者名
  山田利宜, 谷内康行, 内海倫明、磯村雅夫, 進藤春雄
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合演会
- 発表場所
  早稲田大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性RFスパッタ法におけるターゲット電極への負の直流バイアス印加によるイオンダメージ低減の検討2012
- 著者名/発表者名
  大須賀康平，山田利宜，進藤春雄，磯村雅夫
- 学会等名
  第４回薄膜太陽電池セミナー
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホ－ル
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 微結晶SiGe太陽電池の現状と展望2011
- 著者名/発表者名
  磯村雅夫、近藤道夫、松井卓也
- 学会等名
  表面技術協会材料機能ドライプロセス部会第86回例会
- 発表場所
  大田区産業プラザPiO
- 年月日
  2011-01-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 容量結合型プラズマにおける負の直流カソードバイアス印加の効果2011
- 著者名/発表者名
  山田利宜, 谷内康行,磯村雅夫, 進藤春雄
- 学会等名
  第７２回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 容量結合型プラズマにおける負の直流カソードバイアス印加の効果2011
- 著者名/発表者名
  山田利宜,谷内康行,磯村雅夫,進藤春雄
- 学会等名
  第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性スパッタ法による微結晶Si_<1->XGe_XにおけるCH_4ガス添加効果2011
- 著者名/発表者名
  齋藤浩央、磯村雅夫
- 学会等名
  第3回薄膜太陽電池セミナー
- 発表場所
  ラフレさいたま
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性スパッタ法を用いたSiO薄膜作製に関する検討2011
- 著者名/発表者名
  鈴木亮祐、磯村雅夫
- 学会等名
  第３回薄膜太陽電池セミナー
- 発表場所
  ラフレさいたま
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性スパッタ法による微結晶Si1-XGeXにおけるCH4ガス添加効果2011
- 著者名/発表者名
  齋藤浩央、磯村雅夫
- 学会等名
  第３回薄膜太陽電池セミナー
- 発表場所
  ラフレさいたま
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 高圧水蒸気処理による多結晶Ge薄膜の膜質改善に関する検討2011
- 著者名/発表者名
  鷺坂建, 高津貴大, 磯村雅夫
- 学会等名
  第58回応用物理学関係連合演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2011-03-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 反応性スパッタ法を用いたSiO薄膜作製に関する検討2011
- 著者名/発表者名
  鈴木亮祐、磯村雅夫
- 学会等名
  第3回薄膜太陽電池セミナー
- 発表場所
  ラフレさいたま
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057
[学会発表] 反応性スパッタ法によって作製した微結晶Ge薄膜におけるCO_2添加効果2010
- 著者名/発表者名
  片岡拓郎、江川淳一、畑野雄太、吉田直広、磯村雅夫
- 学会等名
  第57回応用物理学関係連合演会
- 発表場所
  東海大学湘南校舎
- 年月日
  2010-03-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] Effects of CO_2 introduction to the reactive RF sputtering processes for micro-crys talline Ge thin films2010
- 著者名/発表者名
  Y.Hatano, N.Yoshida, M.Isomura
- 学会等名
  5th World Conference on Photovoftaic Energy Conversion
- 発表場所
  Valencia, Spain
- 年月日
  2010-09-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] Effects of CO_2 introduction to the reactive RF sputtering processes for micro-crystalline Ge thin films2010
- 著者名/発表者名
  Y.Hatano, N.Yoshida, M.Isomura
- 学会等名
  25th European Photovoltaic Solar Energy Conference and 5th World Conference on Photovoltaic Energy Conversion
- 発表場所
  Valencia
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 反応性スパッタ法によって作製した微結晶Ge薄膜におけるCO_2添加効果2010
- 著者名/発表者名
  片岡拓郎、江川淳一、畑野雄太、吉田直広、磯村雅夫
- 学会等名
  第57回応用物理学関係連合演会
- 発表場所
  東海大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 水素と不活性ガスの混合ガスを用いた反応性RFスパッタ法により作製した微結晶Ge薄膜2009
- 著者名/発表者名
  畑野雄太、吉田直弘、磯村雅夫
- 学会等名
  第56回応用物理学関係連合演会
- 発表場所
  筑波大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering2009
- 著者名/発表者名
  N.Yoshida, Y.Hatano, M.Isomura
- 学会等名
  19th International Photovoltaic Science and Engineering
- 発表場所
  Jeju, Korea
- 年月日
  2009-11-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering2009
- 著者名/発表者名
  N.Yoshida, Y.Hatano, M.Isomura
- 学会等名
  19th International Photovoltaic Science and Engineering Conference
- 発表場所
  Jeju, Korea, Nov.
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] Crystalline growth of Ge on single crystal Si substrates by solid phase crystallization2009
- 著者名/発表者名
  T.Nishimura, M.Isomura
- 学会等名
  23rd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
- 発表場所
  Utrecht, Netherlands
- 年月日
  2009-08-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 単結晶Si基板上に形成した非晶質Ge薄膜の固相成長による結晶成長2009
- 著者名/発表者名
  井口正太郎、西村友秀、磯村雅夫
- 学会等名
  第70回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  富山大学
- 年月日
  2009-09-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] 化学輸送堆積法により作製した微結晶SiGe薄膜における不活性ガス添加効果2008
- 著者名/発表者名
  上坂祐介、川内弘美、磯村雅夫
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20560047
[学会発表] Effect of Applying Negative DC Cathode Bias in RF Magnetron Sputtering
- 著者名/発表者名
  K. Osuga, T. Yamada, H. Shindo, M. Isomura
- 学会等名
  8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing (Fukuoka International Congress Center
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560057

1. 進藤春雄 (20034407)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件

磯村 雅夫 ISOMURA Masao

研究課題

研究成果

共同研究者

大規模直線型マイクロ波大気圧プラズマの生成技術に関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

ナノ結晶ゲルマニウム薄膜を用いた熱光発電素子に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

ナノ結晶ゲルマニウム薄膜を用いた熱光発電素子に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Development of flexible perovskite solar cells by the low-temperature fabrication of TiO2 electron transport layers2020

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] 大規模表面処理のための直線型マイクロ波プラズマ2018

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] 表面処理のための大気圧直線型マイクロ波プラズマ2017

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Generation of microwave-excited atmospheric-pressure line plasma and its application2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

データソース

[雑誌論文] A new Floating-Probe for Measurement of Insulated Plasma Produced by Radio-Frequency Power2012

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] 反応性スパッタ法による微結晶ゲルマニウム薄膜における不純物添加効果2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] 反応性スパッタ法による微結晶ゲルマニウム薄膜における不純物添加効果2011

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering2010

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared By Reactive RF Sputtering2010

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Microcrystalline Silicon thin films deposited by the reactive RF magnetron sputtering system2009

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Microcrystalline Germanium Thin Films Prepared by the Reactive RF Sputtering2008

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] 反応性スパッター法による微結晶シリコンゲルマニウム半導体薄膜の作製2008

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Microcrystalline Silicon-Germanium Thin Films Prepared by the Chemical Transport Process Using Hydrogen Radicals2008

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

磯村雅夫 ISOMURA Masao