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斉藤 光史  Saito Mitsufumi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70452092
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 東京都立大学, システムデザイン研究科, 助教
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2018年度: 首都大学東京, システムデザイン研究科, 助教
2017年度: 首都大学東京, 理工学研究科, 助教
2008年度: 富山大学, 地域連携推進機構・産学連携部門, 研究員
2008年度: 富山大学, 地域連携推進機構・産業連携部門, 研究員
2007年度: 富山大学, ベンチャービジネスラボラトリー, 非常勤研究員
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物性・結晶工学
研究代表者以外
応用物理物性およびその関連分野
キーワード
研究代表者
Si / InSb / MBE / シリコン(Si) / インジウムアンチモン(InSb) / ヘテロエピタキシャル成長
研究代表者以外
キャリアドープ / デバイス化 / 輸送測定 / 強磁場測定 … もっと見る / 超伝導 / 異方性 / ネマティック超伝導 / デバイス / 超薄膜化 / 量子振動 / 磁気抵抗 / 微細加工 / 薄膜 / へき開法 / 単結晶 / BiCh2系層状化合物 / 層状化合物 隠す
  • 研究課題

    (2件)
  • 研究成果

    (21件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  RO1-xFxBiCh2超薄膜における巨大ラシュバ効果の探索

    • 研究代表者
      水口 佳一
    • 研究期間 (年度)
      2017 – 2018
    • 研究種目
      挑戦的研究(萌芽)
    • 研究分野
      応用物理物性およびその関連分野
    • 研究機関
      首都大学東京
  •  Si(001)基板上での傾斜(111)面と単分子層を利用した薄膜形成研究代表者

    • 研究代表者
      斉藤 光史
    • 研究期間 (年度)
      2007 – 2008
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物性・結晶工学
    • 研究機関
      富山大学

すべて 2009 2008 2007 その他

すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] High quality InSb films grown on Si(111) substrate via InSb bi-layer2009

    • 著者名/発表者名
      M. Mori, M. Saito, K. Nagashima, K. Ueda, T. Yoshida, C. Tatsuyama, K. Maezawa
    • 雑誌名

      e-Journal of Surface Science and Nano Technology Vol.7

      ページ: 145-148

    • NAID

      130004439133

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [雑誌論文] Heteroepitaxial InSb films grown via Si(111)-7x3-In surface reconstruction2008

    • 著者名/発表者名
      M. Mori, M. Saito, K. Nagashima, K. Ueda, Y. Yamashita, C. Tatsuyama, T. Tambo, K. Maezawa
    • 雑誌名

      Phys. Stat. Sol (c)5, No.9

      ページ: 2772-2774

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [雑誌論文] Effect of In and Sb monolayers to form rotated InSb films on Si(111) substrate2008

    • 著者名/発表者名
      Mitsufumi SAITO
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 254

      ページ: 6052-6054

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [雑誌論文] Effect of In and Sb monolayers to form rotated InSb films on Si(111) substrate2008

    • 著者名/発表者名
      M. Saito, M. Mori, K. Maezawa Appl
    • 雑誌名

      Surf. Sci 254

      ページ: 6052-6054

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [雑誌論文] Heteroepitaxial growth of rotated AlInSb layer mediated by InSb bi-layer on Si(111)substrate

    • 著者名/発表者名
      M. Saito, M. Mori, K. Ueda, K. Maezawa
    • 雑誌名

      Phys. Stat. Sol.(c)(accepted) : Refereed

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [雑誌論文] Heteroepitaxial growth of InSb films on V-grooved Si(001)substrate

    • 著者名/発表者名
      M. Mori, M. Saito, H. Igarashi, T. Iwasugi, N. B. Ahmad, K. Murata, K. Maezawa
    • 雑誌名

      e-Journal of Surface Science and Nano Technology (accepted) : Refereed

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Si(111)基板上での30°回転InSb薄膜層形成に対するIn及びSb層の効果2008

    • 著者名/発表者名
      斉藤 光史
    • 学会等名
      電気通信学会 電子デバイス研究会
    • 発表場所
      石川県金沢市・金沢大学角間キャンパス
    • 年月日
      2008-06-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Inprovement of rotated InSb films by additional In adsorption onto initial InSb bi-layer2008

    • 著者名/発表者名
      Mitsufumi SAITO
    • 学会等名
      8^<th> Japan-Russia Seminar on Semiconductor Surfaces (TRSSS-8)
    • 発表場所
      Tohoku University, Sendai, Japan
    • 年月日
      2008-10-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] InSb単分子層を介したSi(111)基板上のAlInSb薄膜成長2008

    • 著者名/発表者名
      斉藤 光史
    • 学会等名
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      千葉県船橋市・日本大学理工学部 船橋キャンパス
    • 年月日
      2008-03-29
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Heteroepitaxial growth of InSb films on V-grooved Si(001)substrate2008

    • 著者名/発表者名
      M. Mori, M. Saito, H. Igarashi, T. Iwasugi, N. B. Ahmad, K. Maezawa
    • 学会等名
      5th International Symposium on Surface Science and Nanotechnology (ISSS-5)
    • 発表場所
      Waseda University, Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] High quality InSb films grown on Si(111) substrate via InSb bi-layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Mori, M. Saito, K. Nagashima, K. Ueda, T. Yoshida, C. Tatsuyama, K. Maezawa
    • 学会等名
      8th Japan-Russia Seminar on Semiconductor Surfaces (JRSSS-8)
    • 発表場所
      Tohoku University, Sendai, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Si(111)基板上での30°回転InSb薄膜層形成に対するIn及びSb層の効果2008

    • 著者名/発表者名
      斉藤光史、森雅之、上田広司、前澤宏一
    • 学会等名
      電気通信学会 電子デバイス研究会
    • 発表場所
      石川県金沢市・金沢大学
    • 年月日
      2008-06-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Heteroepitaxial growth of rotated AlInSb layer mediated by InSb bi-layer on Si(111) substrate2008

    • 著者名/発表者名
      Mitsufumi SAITO
    • 学会等名
      35^<th> International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2008)
    • 発表場所
      Europa-Park, Rust, Germany
    • 年月日
      2008-09-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Heteroepitaxial growth of InSb films on a Si(111) substrate via InSb bi-layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Mori, M. Saito, K. Nagashima, K. Ueda, T. Yoshida, Y. Shinmura, K. Maezawa
    • 学会等名
      15th International Conference on Molecular Beam Epitaxy (MBE2008)
    • 発表場所
      Univ. of British Columbia, Vancouver, Canada
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] (111)面パターンを形成したSi(100)基板上へのInSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長2008

    • 著者名/発表者名
      五十嵐弘樹、森雅之、斉藤光史、岩杉達矢、ノルスルヤティ ビンティ アハマド、前澤宏一
    • 学会等名
      秋季第69回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛知県春日井市・中部大学
    • 年月日
      2008-09-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] InSb単分子層を介したSi(111)基板上のAlInSb薄膜の成長2008

    • 著者名/発表者名
      斉藤光史、森雅之、上田広司、吉田達雄、新村康成、前澤宏一
    • 学会等名
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      千葉県船橋市・日本大学 理工学部
    • 年月日
      2008-03-29
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] InSb単分子層を介したSi(111)基板上のAlInSb薄膜のヘテロエピタキシャル成長2008

    • 著者名/発表者名
      中谷公彦、斉藤光史、上田広司、森雅之、前澤宏一
    • 学会等名
      秋季第69回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛知県春日井市・中部大学
    • 年月日
      2008-09-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Heteroepitaxial growth of rotated AlInSb layer mediated by InSb bi-layer on Si(111) substrate2008

    • 著者名/発表者名
      M. Saito, M. Mori, K. Ueda, K. Nakatani, K. Maezawa
    • 学会等名
      35th International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS2008)
    • 発表場所
      Europa-Park, Rust, Germany
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Inprovement of rotated InSb films by additional In adsorption onto initial InSb bi-layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Saito, M. Mori, C. Tatsuyama, K. Maezawa
    • 学会等名
      8th Japan-Russia Seminar on Semiconductor Surfaces (JRSSS-8)
    • 発表場所
      Tohoku University, Sendai, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Effect of In and Sb monolayers to form rotated InSb films on Si(111) substrate2007

    • 著者名/発表者名
      M. Saito, M. Mori, K. Maezawa
    • 学会等名
      5th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-5)
    • 発表場所
      Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • [学会発表] Effects of In and Sb momo-layers to form rotated InSb films on a Si (111) substrate2007

    • 著者名/発表者名
      Mitsufumi SAITO
    • 学会等名
      Fifth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      東京都八王子市・首都大学東京
    • 年月日
      2007-11-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19569003
  • 1.  水口 佳一 (50609865)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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