大坂藍 OSAKA AI

研究者番号	70868299
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 兵庫県立大学, 工学研究科, 助教
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2023年度 – 2024年度: 兵庫県立大学, 工学研究科, 助教 2020年度 – 2022年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教(常勤)
審査区分/研究分野	研究代表者小区分29020:薄膜および表面界面物性関連 / 小区分28030:ナノ材料科学関連 / 小区分28020:ナノ構造物理関連研究代表者以外中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
キーワード	研究代表者表面処理 / 薄膜 / ニッケル酸化物 / 水素貯蔵材料 / マルチセンサ / ナノ構造体 / 金属絶縁体相転移 / VO2 / 相転移 / 二酸化バナジウム … もっと見る / 強相関電子系材料 / 表面加工 / Fe3O4 / 研磨 / Verwey transition / マグネタイト / 欠陥 / 相変化 / 強相関酸化物 / 完全結晶表面 … もっと見る研究代表者以外化学機械研磨 / 水素貯蔵隠す

基板表面性状制御によるニッケル酸化物薄膜の高濃度水素貯蔵性能の創出研究代表者
- 研究代表者
  
  大坂藍
- 研究期間 (年度)
  2024 – 2026
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
- 研究機関
  兵庫県立大学
化学機械研磨反応を利用したフラーレンへの高濃度水素貯蔵の挑戦
- 研究代表者
  
  服部梓
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  挑戦的研究(萌芽)
- 審査区分
  
  中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
高精度ナノ-マイクロVO2立体構造支配によるマルチガスセンサ性能の創出研究代表者
- 研究代表者
  
  大坂藍
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2023
- 研究種目
  
  若手研究
- 審査区分
  
  小区分28030:ナノ材料科学関連
- 研究機関
  兵庫県立大学
   大阪大学
完全結晶表面基板上でのFe3O4極薄膜の巨大相転移特性の創出研究代表者
- 研究代表者
  
  大坂藍
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2021
- 研究種目
  
  若手研究
- 審査区分
  
  小区分28020:ナノ構造物理関連
- 研究機関
  大阪大学

すべて 2023 2022 2021 2020

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Strain effect on proton-memristive NdNiO3 thin film devices2023
- 著者名/発表者名
 Sidik Umar、Hattori Azusa N.、Li Hao-Bo、Nonaka Shin、Osaka Ai I.、Tanaka Hidekazu
- 雑誌名
 
 Applied Physics Express
 
 巻: 16 号: 1 ページ: 014001-014001
- DOI
 10.35848/1882-0786/acae53
- 査読あり
- データソース
 KAKENHI-PROJECT-22K18757, KAKENHI-PROJECT-23K22633
[雑誌論文] 完全結晶成長による金属酸化物ナノ構造体での潜在的巨大応答性の実現2022
- 著者名/発表者名
  OSAKA Ai I.、HATTORI Azusa N.
- 雑誌名
  
  表面と真空
  
  巻: 65 号: 7 ページ: 321-326
- DOI
  10.1380/vss.65.321
- ISSN
  2433-5835, 2433-5843
- 年月日
  2022-07-10
- 言語
  日本語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K18757, KAKENHI-PROJECT-21H04534, KAKENHI-PROJECT-23K22633
[雑誌論文] Nondeteriorating Verwey Transition in 50 nm Thick Fe3O4 Films by Virtue of Atomically Flattened MgO Substrates: Implications for Magnetoresistive Devices2021
- 著者名/発表者名
 Osaka Ai I、Toh Daisetsu、Yamauchi Kazuto、Hattori Ken、Shi Xiaoqian、Guo Fangzhun、Tanaka Hidekazu、Hattori Azusa N
- 雑誌名
 
 ACS Applied Nano Materials
 
 巻: 4 号: 11 ページ: 12091-12097
- DOI
 10.1021/acsanm.1c02634
- 査読あり
- データソース
 KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] VO2マイクロチャネルで顕在化した結晶配向に依存した特異な相転移特性2023
- 著者名/発表者名
  大坂藍、Liliany N. Pamsi、服部賢、郭方准、田中秀和、服部梓
- 学会等名
  材料WEEKワークショップ
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K14567
[学会発表] Metal-insulator transition property modulation of strongly correlated VO2 by strain gradient2023
- 著者名/発表者名
  S. S. MANE, A. N. HATTORI, A. I. OSAKA, H. TANAKA
- 学会等名
  The 26th SANKEN International Symposium
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K14567
[学会発表] First-principles calculations for the etching of Si in pure water assisted due to the catalysis of Pt2023
- 著者名/発表者名
  A. I. Osaka, D. Toh, K. Kayao, K. Itagaki, H. Yamasaki, Y. Morikawa, K. Yamauchi, Y. Sano
- 学会等名
  International Conference of Numerical Analysis and Applied Mathematics
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K14567
[学会発表] First-principles calculations for the etching mechanism of function materials in pure water assisted by Pt catalyst2022
- 著者名/発表者名
  A. I. Osaka, D. Toh, K. Itagaki, H. Yamasaki, Y. Morikawa, A. N. Hattori and K. Yamauchi
- 学会等名
  18th International Conference of Computational Methods in Sciences and Engineering
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K14567
[学会発表] Si基板上のVO2マイクロチャネルにおける金属相の不均一分布が導く非線形THz電場増強2022
- 著者名/発表者名
  大坂藍，永井正也, 玄地真悟, 任慧, 田中秀和, 服部梓
- 学会等名
  第8回材料WEEK「材料シンポジウムワークショップ」
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K14567
[学会発表] Realization of Verwey Transition in 50 nm Fe3O4 Ultrathin Film Grown on Atomically Smooth Substrate2021
- 著者名/発表者名
  A. I. Osaka, D. Toh, K. Yamauchi, K. Hattori, X.Q. Shi, F.Z. Guo, H. Tanaka, A. N. Hattori
- 学会等名
  The 9th International Symposium on Surface Science (ISSS-9)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] 完全結晶表面を作製した成長用単結晶基板上での50 nmVO2極薄の相転移特性の評価2021
- 著者名/発表者名
  大坂藍，Bui Van Pho, 山内和人，田中秀和，服部梓
- 学会等名
  2021年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] MgO(001)完全表面基板上でのFe3O4 極薄膜の金属絶縁体相転移特性向上 / Improvement of metal-insulator transition properties for Fe3O4 ultra-thin films on the atomically ordered and flat MgO(001) substrate2021
- 著者名/発表者名
  大坂藍，山内和人，服部賢，田中秀和，服部梓
- 学会等名
  2021年度第68回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] MgO(001)完全表面基板上でのFe3O4 極薄膜の金属絶縁体相転移特性向上2021
- 著者名/発表者名
  大坂藍、藤大雪、山内和人、佐野泰久、服部賢、田中秀和、服部梓
- 学会等名
  プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会第190回研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] Enhanced Verwey Transition in 50 nm Fe3O4 Ultrathin Film Grown on Atomically Smooth Substrate2021
- 著者名/発表者名
  A. I. Osaka, D. Toh, K. Yamauchi, K. Hattori, X.Qi. Shi, F.Z. Guo, A. N. Hattori
- 学会等名
  MRM2021（Materials Research Meeting）
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] 触媒表面基準エッチング法で平滑化したMgO基板上に成長させたFe3O4極薄膜における金属/絶縁体相転移特性の向上2020
- 著者名/発表者名
  大坂藍，藤大雪，山内和人，佐野泰久，田中秀和，服部梓
- 学会等名
  2020年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] 完全結晶基板を利用した強相関電子系Fe3O4極薄膜の金属-絶縁体相転移特性の向上2020
- 著者名/発表者名
  服部梓、大坂藍、藤大雪、山内和人、佐野泰久、田中秀和
- 学会等名
  第5回材料WEEK
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116
[学会発表] Realization of high quality Fe3O4 thin film on atomically flat and high crystallinity MgO substrate surface2020
- 著者名/発表者名
  Ai I. Osaka, D. Toh, K. Yamauchi, Y. Sano, H. Tanaka, A. N. Hattori
- 学会等名
  18th International Conference on Precision Engineering.
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15116

1. 服部梓 (80464238)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件

大坂 藍 OSAKA AI

研究課題

研究成果

共同研究者

基板表面性状制御によるニッケル酸化物薄膜の高濃度水素貯蔵性能の創出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

化学機械研磨反応を利用したフラーレンへの高濃度水素貯蔵の挑戦

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

高精度ナノ-マイクロVO2立体構造支配によるマルチガスセンサ性能の創出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

完全結晶表面基板上でのFe3O4極薄膜の巨大相転移特性の創出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

[雑誌論文] Strain effect on proton-memristive NdNiO<sub>3</sub> thin film devices2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] 完全結晶成長による金属酸化物ナノ構造体での潜在的巨大応答性の実現2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Nondeteriorating Verwey Transition in 50 nm Thick Fe<sub>3</sub>O<sub>4</sub> Films by Virtue of Atomically Flattened MgO Substrates: Implications for Magnetoresistive Devices2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[学会発表] VO2マイクロチャネルで顕在化した結晶配向に依存した特異な相転移特性2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Metal-insulator transition property modulation of strongly correlated VO2 by strain gradient2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] First-principles calculations for the etching of Si in pure water assisted due to the catalysis of Pt2023

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] First-principles calculations for the etching mechanism of function materials in pure water assisted by Pt catalyst2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Si基板上のVO2マイクロチャネルにおける金属相の不均一分布が導く非線形THz電場増強2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] Realization of Verwey Transition in 50 nm Fe3O4 Ultrathin Film Grown on Atomically Smooth Substrate2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] 完全結晶表面を作製した成長用単結晶基板上での50 nmVO2極薄の相転移特性の評価2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] MgO(001)完全表面基板上でのFe3O4 極薄膜の金属絶縁体相転移特性向上 / Improvement of metal-insulator transition properties for Fe3O4 ultra-thin films on the atomically ordered and flat MgO(001) substrate2021

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] MgO(001)完全表面基板上でのFe3O4 極薄膜の金属絶縁体相転移特性向上2021

著者名/発表者名

大坂藍 OSAKA AI