佐々木克孝 SASAKI Katsutaka

… 別表記

佐々木克考ササキカツタカ

研究者番号	80091552
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2006年度 – 2008年度: 北見工業大学, 工学部, 教授 1998年度 – 2004年度: 北見工業大学, 工学部, 教授 1994年度 – 1995年度: 北見工業大学, 工学部, 教授 1990年度: 北見工業大学, 工学部, 教授 1987年度 – 1989年度: 北見工業大学, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野	研究代表者電子・電気材料工学 / 電子材料工学研究代表者以外電子・電気材料工学 / 電子・電気材料工学 / 材料加工・処理
キーワード	研究代表者耐熱性 / 薄膜キャパシタ / 界面反応 / 拡散バリヤ / 漏れ電流特性 / 陽極酸化膜キャパシタ / 低損失特性 / 高誘電率化 / 陽極酸化膜 / メタライゼ-ション技術 … もっと見る / アルミニウム金属間化合物 / Auger electron spectroscopy / Interface reaction / Interdiffusion / Diffusion barrier / Intermetallic compound film / 表面のキャラクタリゼーション / 結晶構造 / 金属関化合物膜 / SiLSI薄膜技術 / キャラクタリゼーション / オージェ電子分光分析 / VLSI薄膜技術 / 相互拡散 / 金属間化合物膜 / high heat - proof capacitor / high permittivity / Poole-Frenkl conduction / Schottky effect / thin film capacitor / Ta - Zr anodized capacitor / Zr anodized film / Hf anodized film / Ta-Zr合金膜 / 電気伝導機構 / 高耐熱キャパシタ / Poole-Frenkel伝導 / Schottky伝導 / Ta-Zr合金陽極酸化膜 / Zr陽極酸化膜 / Hf陽極酸化膜 / low loss property / high permitivity / heat-proof property / Al_3Ta compound / Al_3Zr compound / Al_3Hf compound / anodized film / high reliable capacitor / アルミ-遷移金属の金属間化合物 / 低損失化 / 周波数特性 / 酸化膜厚の薄層化 / 容量低減の抑制 / Al_3Ta金属間化合物 / Al_3Zr金属間化合物 / Al_3Hf金属間化合物 / 高信頼性薄膜キャパシタ / Reduction of oxide thickness / tan delta / Heat-proof property / Anodized capacitor / Ta_2N compound film / 漏れ電流 / 誘電損 / 陽極酸化 / 窒化タンタル化合物膜 / 薄膜コンデンサ / tanδ / Ta_2N化合物膜 / SiーLSIコンタクト構造 / シリコンLSIコンタクト構造 … もっと見る研究代表者以外 RuO_2 / reactive sputtering / 反応性スパッタリング / electrochromic / solid-electrolyte / NiOOH thin film / hydrated Ta_2O_5 thin film / スーパーキャパシタ / 電気化学 / 固体電解質薄膜 / 水酸化物 / 水和酸化物 / Ta_2O_5固体電解質 / エレクトロクロミック / 固体電解質 / NiOOH薄膜 / 水和Ta_2O_5薄膜 / Ta_2O_5 / DRAM capacitor / surfactant / sputtering / surface roughness / c-axis single oriented / Ru thin film / 表面および界面の平坦性 / Ta_2O_5薄模 / Ta_2O_5薄膜 / DRAMキャパシタ / サーファクタント / スパッタリング / 表面粗さ / c軸単配向 / Ru薄膜 / semiconductor / thermal decomposition / capacitor electrode / metallic conduction / conducting oxide thin film / 熱分解 / 半導体 / 熱的分解 / キャパシタ電極 / 金属伝導 / 導電性酸化物薄膜 / 材料加工・処理 / 電子・電気材料 / 表面・界面物性 / 原子間力顕微鏡 / 角度分解光電子分光 / 電極 / 銀薄膜 / 電気抵抗 / 自己組織化 / 表面・界面 / 金属物性隠す

自己集合単分子膜を利用した銀薄膜の安定化
- 研究代表者
  
  川村みどり
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  北見工業大学
スパッタリング法による電気化学的に活性な水和酸化物及び水酸化物薄膜の作製
- 研究代表者
  
  阿部良夫
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2007
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  北見工業大学
サーファクタントを用いた貴金属スパッタ薄膜の構造制御
- 研究代表者
  
  阿部良夫
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  北見工業大学
タンタル系固溶体合金の陽極酸化膜による薄膜コンデンサの作製とその信頼性の評価研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木克孝
- 研究期間 (年度)
  2001 – 2002
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  北見工業大学
反応性スパッタリング法による導電性Rh酸化物薄膜の作製とその物性
- 研究代表者
  
  阿部良夫
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  北見工業大学
アルミー遷移金属系金属間化合物の陽極酸化膜による高信頼性薄膜キャパシタの実現研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木克孝
- 研究期間 (年度)
  1998 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  北見工業大学
窒化タンタル陽極酸化膜による耐熱性に優れた薄膜コンデンサの作製研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木克孝
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1995
- 研究種目
  
  試験研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  北見工業大学
超LSIメタライゼ-ション技術へのアルミニウム金属間化合物膜の適用に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木克孝
- 研究期間 (年度)
  1990
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  北見工業大学
超LSIメタライゼ-ション技術へのアルミニウム金属間化合物膜の適用に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木克考
- 研究期間 (年度)
  1989
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  北見工業大学
高融点金属間化合物薄膜の作成とその電子材料への応用に関する基礎的検討研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木克孝
- 研究期間 (年度)
  1987 – 1988
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  電子材料工学
- 研究機関
  北見工業大学

すべて 2008 2007 2005 2004 その他

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 雑誌名
  
  Vacuum (掲載决定)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[雑誌論文] Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 雑誌名
  
  Vacuum (掲載決定)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[雑誌論文] Preparation of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas2007
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 46
  
  ページ: 777-779
- NAID
  10018545797
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[雑誌論文] Preparation of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas2007
- 著者名/発表者名
  Y.Abe, N.Itadani, M.Kawamura, K.Sasaki, H.Itoh
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 46・2
  
  ページ: 777-779
- NAID
  10018545797
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[雑誌論文] Preparation of hydrogen-containing Ta_2O_5 thin films by reactive sputtering using 0_2+H_2O mixed gas2007
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics vol.46
  
  ページ: 777-779
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[雑誌論文] Oxidation and Morphology Change of Ru Films Caused by Sputter Deposition of Ta_2O_5 Films2005
- 著者名/発表者名
  Y.Abe, M.Kawamura, K.Sasaki
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics (印刷中)
- NAID
  10015470926
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560268
[雑誌論文] Improvement of the Crystal Orientation and Surface Roughness of Ru Thin Films by Introducing Oxygen during Sputtering2004
- 著者名/発表者名
  Y.Abe, S.Shinkai, K.Sasaki, J.Yan, K.Maekawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol43, No.1
  
  ページ: 277-280
- NAID
  10011949443
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560268
[雑誌論文] Improvement of the Crystal Orientation and Surface Roughness of Ru Thin Films by Introducing Oxygen During Sputtering2004
- 著者名/発表者名
  Y.Abe, S.Shinkai, K.Sasaki, J.Yah, K.Maekawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics Vol.43, No.1
  
  ページ: 277-280
- NAID
  10011949443
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560268
[雑誌論文] Oxidation and Morphology Change of Ru Films Caused by Sputter Deposition of Ta_2O_5 Films
- 著者名/発表者名
  Y.Abe, M.Kawamura, K.Sasaki
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics (in print)
- NAID
  10015470926
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560268
[雑誌論文] Ion conducting properties of hydrogen-containing Ta_2O_5 thin films prepared by reactive sputtering
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 雑誌名
  
  Vacuum (In press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] 水素添加Ta_2O_5スパッタ薄膜のイオン伝導性に対する膜中水素量の影響2008
- 著者名/発表者名
  彭〓、滝口康弘、阿部良夫、川村みどり、佐々木克孝、伊藤英信、鈴木勉
- 学会等名
  第55回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  船橋市
- 年月日
  2008-03-29
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Effects of substrate cooling on the ionic conductivity of Ta_2O_5 solid-electrolyte thin films prepared by reactive sputtering using H_2O gas2008
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, F. Peng, Y. Takiguchi, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh, T. Suzuki
- 学会等名
  The 213th Meeting of the Electrochemical Society
- 発表場所
  Phoenix (USA)
- 年月日
  2008-05-20
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] 表界面層を導入した銀薄膜の熱的安定性2008
- 著者名/発表者名
  川村みどり、筆井晃正、阿部良夫、佐々木克孝
- 学会等名
  日本化学会北海道支部夏季研究発表会
- 発表場所
  北見工業大学
- 年月日
  2008-07-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19656185
[学会発表] 銀薄膜の凝集抑制と表界面層の影響2008
- 著者名/発表者名
  川村、井波、阿部、佐々木
- 学会等名
  (社)表面技術協会第117回講演大会
- 発表場所
  日本大学津田沼校舎
- 年月日
  2008-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19656185
[学会発表] Ion conducting properties of hydrogen-containing Ta_2O_5 thin films prepared by reactive sputtering2008
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 9th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes
- 発表場所
  Kanazawa
- 年月日
  2008-06-07
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Effects of substrate temperature on the ion-conducting properties of hydrogen-containing Ta_2O_5 thin films2008
- 著者名/発表者名
  Y. Takiguchi, F. Peng, Y. Abe, K. Sasaki, M. Kawamura, H. Itoh, T. Suzuki
- 学会等名
  Hokkaido Branch Meeting of the Electrochemical Society of Japan, Japan Society of Corrosion Engineering, and the Surface Finishing Society of Japan
- 発表場所
  Sapporo
- 年月日
  2008-01-30
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Al/Ag/Al積層膜の耐熱性に対する膜厚依存性2008
- 著者名/発表者名
  福田、井波、川村、・阿部、佐々木
- 学会等名
  2007年度応用物理学会北海道支部学術講演会
- 発表場所
  北海道大学学術交流会館
- 年月日
  2008-01-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19656185
[学会発表] 水素添加Ta_2O_5スパッタ薄膜のイオン伝導性に及ぼす基板温度の影響2008
- 著者名/発表者名
  滝口康弘、彭〓、阿部良夫、佐々木克孝、川村みどり、伊藤英信、鈴木勉
- 学会等名
  三学協会北海道支部会
- 発表場所
  札幌市
- 年月日
  2008-01-30
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Effects of hydrogen content in Ta_2O_5 thin films on their ion conductivity2008
- 著者名/発表者名
  F. Peng, Y. Takiguchi, Y. Abe, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh, T. Suzuki
- 学会等名
  The 55th Spring Meeting of the Japan Society of Applied Physics and Related Societies
- 発表場所
  Funabashi
- 年月日
  2008-03-29
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Ag薄膜/SiO_2層界面へのMPTMS-SAMの導入による密着性の向上2008
- 著者名/発表者名
  筆井晃正、川村みどり、阿部良夫、佐々木克孝
- 学会等名
  応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  筑波大学
- 年月日
  2008-03-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19656185
[学会発表] Electrochromic devices based on nickel oxyhydroxide thin film2007
- 著者名/発表者名
  H. Ueta, Y. Abe, F. Peng, K. Kato, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 14th International Display Workshops
- 発表場所
  Sapporo
- 年月日
  2007-12-05
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Nickel oxyhydroxide thin films prepared by reactive sputtering using water vapor2007
- 著者名/発表者名
  H. Ueta, Y. Abe, M. Kawamura, K. Kato, K. Sasaki
- 学会等名
  The 68 the Autumn Meeting of the Japan Society of Applied Physics
- 発表場所
  Sapporo
- 年月日
  2007-09-07
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] 水蒸気を用いた反応性スパッタリングによるオキシ水酸化ニッケル薄膜の作製2007
- 著者名/発表者名
  上田英明、阿部良夫、川村みどり、加藤清彦、佐々木克孝
- 学会等名
  第68回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  札幌市
- 年月日
  2007-09-07
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Electrochromic Devices Based on Nickel Oxyhydroxide Thin Film2007
- 著者名/発表者名
  H. Ueta, Y. Abe, F. Peng, K. Kato, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 14th International Display Workshops
- 発表場所
  札幌市
- 年月日
  2007-12-05
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Nickel Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering UsingO_2+H_2O Mixed Gas2007
- 著者名/発表者名
  H. Ueta, Y. Abe, K. Kato, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 212th Meeting of the Electrochemical Society
- 発表場所
  アメリカ合衆国、ワシントン
- 年月日
  2007-10-08
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering2007
- 著者名/発表者名
  Y. Abe, N. Itadani, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 9th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes
- 発表場所
  金沢市
- 年月日
  2007-06-07
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Effects of Substrate Temperature on Hydrogen Content of Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering in an Atmosphere of Water Vapor2007
- 著者名/発表者名
  F. Peng Y. Abe, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh, T. Suzuki
- 学会等名
  第68回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  札幌市
- 年月日
  2007-09-07
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Effects of substrate temperature on hydrogen content of Ta_2O_5 thin films prepared by reactive sputtering in an atmosphere of water vapor2007
- 著者名/発表者名
  F. Peng Y. Abe, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh, T. Suzuki
- 学会等名
  The 68 the Autumn Meeting of the Japan Society of Applied Physics
- 発表場所
  Sapporo
- 年月日
  2007-09-07
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Nickel Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas2007
- 著者名/発表者名
  H. Ueta, Y. Abe, K. Kato, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 212th Meeting of The Electrochemical Society
- 発表場所
  アメリカ合衆国、ワシントン
- 年月日
  2007-10-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297
[学会発表] Nickel oxyhydroxide thin films prepared by reactive sputtering using O_2+H_2O mixed gas2007
- 著者名/発表者名
  H. Ueta, Y. Abe, K. Kato, M. Kawamura, K. Sasaki, H. Itoh
- 学会等名
  The 212th Meeting of the Electrochemical Society
- 発表場所
  Washington DC (USA)
- 年月日
  2007-10-08
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18560297

1. 阿部良夫 (20261399)

共同の研究課題数: 7件

共同の研究成果数: 30件
2. 川村みどり (70261401)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 28件
3. 野矢厚 (60133807)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 0件
4. 土橋剛 (50123956)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 柳沢英人 (70158020)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 白重道弘

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

佐々木 克孝 SASAKI Katsutaka

佐々木 克考 ササキ カツタカ

研究課題

研究成果

共同研究者

自己集合単分子膜を利用した銀薄膜の安定化

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

スパッタリング法による電気化学的に活性な水和酸化物及び水酸化物薄膜の作製

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

サーファクタントを用いた貴金属スパッタ薄膜の構造制御

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

タンタル系固溶体合金の陽極酸化膜による薄膜コンデンサの作製とその信頼性の評価研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

反応性スパッタリング法による導電性Rh酸化物薄膜の作製とその物性

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

アルミー遷移金属系金属間化合物の陽極酸化膜による高信頼性薄膜キャパシタの実現研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

窒化タンタル陽極酸化膜による耐熱性に優れた薄膜コンデンサの作製研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

超LSIメタライゼ-ション技術へのアルミニウム金属間化合物膜の適用に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

超LSIメタライゼ-ション技術へのアルミニウム金属間化合物膜の適用に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

高融点金属間化合物薄膜の作成とその電子材料への応用に関する基礎的検討研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering2008

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Ion conducting Properties of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films Prepared by Reactive Sputtering2008

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Preparation of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas2007

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

説明

データソース

[雑誌論文] Preparation of Hydrogen-Containing Ta_2O_5 Thin Films by Reactive Sputtering Using O_2+H_2O Mixed Gas2007

著者名/発表者名

佐々木克孝 SASAKI Katsutaka

佐々木克考ササキカツタカ