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平井 正明  HIRAI Masaaki

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 80093681
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1993年度 – 1994年度: 岡山大学, 理学部, 助手
1990年度: 岡山大学, 理学部, 助手
1986年度: 岡山大学, 理学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者以外
材料加工・処理
キーワード
研究代表者以外
SXES-IEV / SXES-IAV / 軟X線分光 / 非破壊分析 / SOFT X-RAY EMISSION SPECTROSCOPY / NON-DESTRUCTIVE ANALYSIS / TRANSITION METAL SILICIDE / ULTRA-THIN CONTACT / コンタクト / 非破壊分析法 … もっと見る / 軟X線分光法 / 遷移金属シリサイド / 超微細コンタクト / 合金化 / 低温界面反応 / ヘテロ接合 / ヘテロ界面構造 / 金属-半導体接合 / 高速イオン / 金属シリサイド / 光電子分光 / 電子状態 / 界面構造 / シリコン界面 / シリサイド 隠す
  • 研究課題

    (4件)
  • 共同研究者

    (4人)
  •  軟X線分光法の新しい応用による超微細コンタクト形成

    • 研究代表者
      岩見 基弘
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      試験研究(B)
    • 研究分野
      材料加工・処理
    • 研究機関
      岡山大学
  •  電子・光子分光法による金属ー半導体界面合金化過程および電子状態の研究

    • 研究代表者
      岩見 基弘
    • 研究期間 (年度)
      1990
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      岡山大学
  •  チャンネリング-ブロッキング法による金属-半導体界面の原子的構造の精密決定

    • 研究代表者
      岩見 基弘
    • 研究期間 (年度)
      1986
    • 研究種目
      特定研究
    • 研究機関
      岡山大学
  •  混晶半導体ヘテロ接合界面の原子的構造と電子状態の解明とその関連

    • 研究代表者
      岩見 基弘
    • 研究期間 (年度)
      1986
    • 研究種目
      特定研究
    • 研究機関
      岡山大学
  • 1.  岩見 基弘 (80029123)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  日下 征彦 (60032827)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  谷口 雅樹 (10126120)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  渡部 宏邦
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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