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黒澤 宏  KUROSAWA Kou

ORCIDORCID連携する *注記
… 別表記

黒沢 宏  KUROSAWA Kou

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研究者番号 80109892
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2001年度 – 2004年度: 宮崎大学, 工学部, 教授
2000年度: 岡崎国立共同研究機構, 分子科学研究所, 助教授
1999年度: 岡崎国立共同研究機構, 分子科学研究所, 教授
1998年度: 宮崎大学, 工学部, 教授
1992年度 – 1996年度: 宮崎大学, 工学部, 教授
1988年度: 大阪府立大学, 工学部, 講師
1987年度: 大阪府立大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
電子デバイス・電子機器 / 電子デバイス・機器工学 / 情報通信工学
研究代表者以外
応用物理学一般 / 材料加工・処理 / 応用光学・量子光工学 / 電力工学・電気機器工学 / 電子機器工学
キーワード
研究代表者
SHG / DVD / レーザー / 波長変換 / 非線形光学 / 石英ガラス / femto-second laser / System LSI / VUV-CVD / システムLSI … もっと見る / Sip / 真空紫外 / System in Package / 半導体絶縁膜 / 光CVD / エキシマランプ / 真空紫外光 / フェムト秒レーザー / 積層型システムLSI / 真空紫外光CVD / wavelength conversion / waveguide / thermal poling / 欠陥 / 二次非線形光学性 / ポーリング / 薄膜導波路 / 熱ポーリング / Optical memory / Wagelength converter / Secon harmonic generation / Optical nonlinearity / Silica glass / 結晶欠陥 / 光メモリー / 光メモリ / 第二高調波発生 … もっと見る
研究代表者以外
真空紫外光 / 放電励起 / 希ガスエキシマ / 真空紫外レーザー / Discharge pumping / Vacuum ultraviolet / Rare gas excimer / 希ガスクラスタ / excimer / VUV lasers / Rare gas excimer lasers / 放電励起エキシマスペクトル / エキシマレーザー / エキシマスペクトル / エキシマ / 希ガスエキシマレーザー / Surface alteration / Coherent vacuum ultraviolet emission / Vacuum ultraviolet lamp / Optical field induced ionization / Photo-induced cleaning / Photo-chemical process / Rare gas excimers / 光還元 / ドライプロセス / 表面反応 / エキシマランプ / 光化学反応 / 表面改質 / コヒーレント真空紫外光 / 真空紫外ランプ / 光電界電離 / 光洗浄 / 光量子プロセス / ultrashort pulse laser / rare-gas excimer molecule / photo chemical vapor deposition / coherent control / vacuum ultraviolet laser / 非線形結晶 / 長短パルスレーザー / 高強度電子ビーム装置 / コヒーレント光 / 超短パルスレーザー / 希ガスエキシマ分子 / 光CVD / コヒーレント制御 / Lithography light source / Discharge excitation / Rare gas cluster / VUV light source / リソグラフィ光源 / Xe excimer / rare gas cluster / 真空紫外 / レーザー / 希ガスクラスター / クセノンエキシマ / ビッカース硬度 / 位相共役 / 有機非線形光学結晶 / LAP / DLAP / 誘導ブリルアン散乱 / ドライエッチング / 超精密加工 / 紫外レーザー / 有機非線形材料 / 結晶成長 / DAST / 単結晶 / 有機非線形光学材料 隠す
  • 研究課題

    (9件)
  • 研究成果

    (28件)
  • 共同研究者

    (12人)
  •  真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発研究代表者

    • 研究代表者
      亀山 晃弘, 黒澤 宏
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子デバイス・電子機器
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  希ガスエキシマランプを用いた光量子洗浄装置の開発

    • 研究代表者
      窪寺 昌一
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2003
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      材料加工・処理
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  熱ポーリング石英薄膜導波路を用いた光ディスク光源用SHGレーザの開発研究代表者

    • 研究代表者
      黒沢 宏 (黒澤 宏)
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子デバイス・機器工学
    • 研究機関
      宮崎大学
      岡崎国立共同研究機構
  •  超高出力真空紫外レーザーと物質との相互作用

    • 研究代表者
      佐々木 亘
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      応用光学・量子光工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  紫外レーザーを用いた有機材料の超精密加工と波長変換デバイス開発に関する研究

    • 研究代表者
      佐々木 孝友
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1997
    • 研究種目
      重点領域研究
    • 研究機関
      大阪大学
  •  希ガスクラスタによる真空紫外レーザー

    • 研究代表者
      佐々木 亘
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電力工学・電気機器工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  電界分極石英ガラスを用いた新しい光メモリの開発研究代表者

    • 研究代表者
      黒澤 宏
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      情報通信工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  放電励起による真空紫外希ガスエキシマレーザー

    • 研究代表者
      佐々木 亘
    • 研究期間 (年度)
      1992 – 1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子機器工学
    • 研究機関
      宮崎大学
  •  放電励起による真空紫外希ガスエキシマレーザーの開発

    • 研究代表者
      佐々木 亘
    • 研究期間 (年度)
      1987 – 1988
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      大阪府立大学

すべて 2005 2004 2003

すべて 雑誌論文 産業財産権

  • [雑誌論文] 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究2005

    • 著者名/発表者名
      亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 雑誌名

      レーザー研究第241回研究会(レーザー応用) RTM-05-32

      ページ: 5-10

    • NAID

      10016859040

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Poly-crystallized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M..Katto, K.Kurosawa, A.Yokotani, S.Kubodera, A.Kameyama, T.Higashiguchi, T.Nakayama, M.Tsukamoto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248,1

      ページ: 365-368

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Applications of OLEDs that use VUV-CVD films2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, J.Miyano, A.Yokotani, K.Kurosawa Y Matsumoto
    • 雑誌名

      Journal of the Society for Information Display 13,5

      ページ: 453-457

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Analysis of the photochemical reaction on the surface for room temperature deposition of SiO2 thin films by photo-CVD using vacuum ultraviolet light2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, K.Amari, Y.Maezono, K.Toshikawa, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44,2

      ページ: 1019-1021

    • NAID

      130004533297

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Time-resolving image analysis of drilling of thin silicon substrates with femtosecond laser ablation2005

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, T.Mukumoto, Y.Kanamitsu, H.Fukumoto, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44,11

      ページ: 7998-8003

    • NAID

      10016871257

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Amorphous silicon film deposition from SiH4 by chemical vapor deposition with argon excimer lamp2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44,11

      ページ: 7785-7788

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Poly-crystallized hydroxyapatite coating deposited by pulsed laser deposition method at room temperature2005

    • 著者名/発表者名
      M.Katto, K.Kurosawa, A.Yokotani, S.Kubodera, A.Kameyama, T.Higashiguchi, T.Nakayama, M.Tsukamoto
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 248,1

      ページ: 365-368

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 高エネルギー及び高輝度光源を用いたマテリアルプロセッシングの研究2005

    • 著者名/発表者名
      亀山 晃弘, 甲藤 正人, 横谷 篤至, 黒澤 宏
    • 雑誌名

      レーザー研究第241回研究会(レーザー応用) RTM-05-3 2

      ページ: 5-10

    • NAID

      10016859040

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Applications of OLEDs that use VUV-CVD films2005

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, J.Miyano, A.Yokotani, K.Kurosawa, Y Matsumoto
    • 雑誌名

      Journal of the Society for Information Display 13,5

      ページ: 453-457

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外エキシマランプ光CVDによるシリカ薄膜常圧形成技術の開発2004

    • 著者名/発表者名
      前園好成, 横谷篤至, 黒澤宏, 菱沼宣是, 松野博光
    • 雑誌名

      レーザー研究 32(1)

      ページ: 54-57

    • NAID

      10011982586

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] シリコン清浄表面上におけるTEOS分子の光分解過程の観測2004

    • 著者名/発表者名
      柳田英明, 上村一秀, 黒澤宏, 横谷篤至
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 124(7)

      ページ: 1410-1415

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザーを用いた半導体関連材料の加工と特性の評価2004

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至, 水野俊男, 向本徹, 川原公介, 二宮孝文, 沢田博司, 黒澤宏
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 124(11)

      ページ: 2267-2273

    • NAID

      10013713752

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Characterization of SiO_2 Films Deposited by VUV-CVD Using OMCTS Precursor2004

    • 著者名/発表者名
      K.Toshikawa, J.Miyano, Y.Yagi, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      4^<th>-International Symposium on Dry Process 2004 6(5)

      ページ: 341-346

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外光CVDを用いた半導体プロセス低温化技術2004

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至, 甘利紘一, 石村想, 黒澤宏, 歳川清彦, 宮野淳一
    • 雑誌名

      電気学会 光・量子デバイス研究会 OQD-04-34

      ページ: 13-18

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Second-order optical nonlinearity and change in refractive index in silica glasses by a combination of thermal poling and x-ray irradiation2004

    • 著者名/発表者名
      A.Kameyama, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 248,1

      ページ: 4000-4006

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] 真空紫外光CVD法による有機シロキサンを用いた酸化膜形成評価2003

    • 著者名/発表者名
      宮野淳一, 黒澤宏, 横谷篤至
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 123(5)

      ページ: 858-863

    • NAID

      130000089275

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Development of Dicing Technique for Thin Semiconductor Substrate With Femtosecond Laser2003

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, Y.Kurogi, N.Matsuo, K.Kurosawa, K.Kawahara, T.Ninomiya, H.Sawada
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 27-30

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザアブレーションにおけるレーザ発振条件の加工特性に及ぽす影響2003

    • 著者名/発表者名
      沢田博司, 川原公介, 二宮孝文, 横谷篤至, 黒澤宏
    • 雑誌名

      精密工学会誌 69(1)

      ページ: 83-88

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Second harmonic generation in high-purity silica glasses by a combination of thermal poling and UV laser pulse irradiation2003

    • 著者名/発表者名
      A.Kameyama, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 86-89

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] VUV-CVD法で生成したシリカ膜の電気特性2003

    • 著者名/発表者名
      本山理一, 黒澤宏, 横谷篤至
    • 雑誌名

      電子情報通信学会(エレクトロニクスソサイエティ C) 86(8)

      ページ: 913-919

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Atomospheric pressure deposition of silica thin films by photo-CVD using vacuum ultraviolet excimer lamp2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono, K.Nishi, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of Chemical Vapor Deposition XVI and EUROCVD 14 1

      ページ: 596-602

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Room Temperature Deposition of SiO_2 thin film by Photo-CVD using Vacuum Ultraviolet Light2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Maezono, J.Miyano, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 127-130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Characteristics of double pulsed femtosecond laser ablation on silicon2003

    • 著者名/発表者名
      T.Ninomiya, H.Sawada, A.Yokotani, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      Proc. of The Third Asian Pacific Laser Symposium 2002(APLS2002)

      ページ: 7-10

    • NAID

      10010447130

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] Growth of orienied LaF_3 thin films on Si (100) substrates by the pulsed laser deposition method2003

    • 著者名/発表者名
      A.Yokotani, T.Ito, A.Sato, K.Kurosawa
    • 雑誌名

      J. Korean Cryst. Growth and Cryst. Technol 13(4)

      ページ: 157-161

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [雑誌論文] フェムト秒レーザを用いた薄板半導体基板の切断加工技術の開発2003

    • 著者名/発表者名
      横谷篤至, 黒木泰宣, 松尾直之, 川原公介, 二宮孝文, 黒澤宏
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C 123(2)

      ページ: 216-221

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] FBG製造装置2005

    • 発明者名
      黒澤宏, 横谷篤至, 亀山晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306488
    • 出願年月日
      2005-10-25
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] FBGを用いた歪み計測システム2005

    • 発明者名
      黒澤宏, 横谷篤至, 亀山晃弘
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-306487
    • 出願年月日
      2005-10-25
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • [産業財産権] 被覆の窒化方法2005

    • 発明者名
      黒澤宏, 横谷篤至
    • 権利者名
      宮崎大学
    • 産業財産権番号
      2005-254698
    • 出願年月日
      2005-09-02
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360194
  • 1.  佐々木 亘 (30081300)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  横谷 篤至 (00183989)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 25件
  • 3.  亀山 晃弘 (00264367)
    共同の研究課題数: 5件
    共同の研究成果数: 6件
  • 4.  河仲 準二 (50264362)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  窪寺 昌一 (00264359)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  大坪 昌久 (90041011)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  福井 一俊 (80156752)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  東口 武史 (80336289)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  甲藤 正人 (80268466)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  佐々木 孝友 (50029237)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  吉田 国雄 (70029338)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  SAUERBREY Ro
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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