佐々木晋五 SASAKI Shingo

研究者番号	80225870
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2016年度 – 2017年度: 一関工業高等専門学校, その他部局等, 准教授 2012年度 – 2015年度: 一関工業高等専門学校, 講師
審査区分/研究分野	研究代表者電子・電気材料工学
キーワード	研究代表者スパッタリング / 薄膜作製プロセス / グラニュラ構造 / 薄膜材料 / 磁性材料 / 積層欠陥 / CoPt合金 / 組成変調構造 / 一軸結晶磁気異方性 / 磁気記録媒体 / グラニュラー構造 / グラニュラ組織

超高密度磁気記録媒体用の組成変調構造を有するCoPt-酸化物グラニュラ媒体の作製研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木晋五
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  一関工業高等専門学校
原子層組成変調型積層欠陥フリーＣｏＰｔ基スパッタ膜の柱状グラニュラ組織の実現研究代表者
- 研究代表者
  
  佐々木晋五
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  一関工業高等専門学校

すべて 2017 2016 2015 2013 その他

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] 垂直磁気記録媒体用CoPt基合金-酸化物グラニュラー薄膜の柱状成長臨界膜厚の評価2017
- 著者名/発表者名
  佐々木晋五、佐々木有三、斉藤伸
- 雑誌名
  
  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ
  
  巻: 60 号: 3 ページ: 112-118
- DOI
  10.3131/jvsj2.60.112
- NAID
  130005466794
- ISSN
  1882-2398, 1882-4749
- 言語
  日本語
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06001
[雑誌論文] グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制　－記録層成長初期部への高ガス圧成膜層の挿入－2013
- 著者名/発表者名
  佐々木晋五、斉藤伸、高橋　研
- 雑誌名
  
  Journal of the Vacuum Society of Japan
  
  巻: －
- NAID
  10031195261
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560387
[雑誌論文] グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制—記録層成長初期部への高ガス圧成膜層の挿入—2013
- 著者名/発表者名
  佐々木晋五、斉藤伸、高橋　研
- 雑誌名
  
  Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｖａｃｕｕｍ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｊａｐａｎ
  
  巻: 56 号: 9 ページ: 377-381
- DOI
  10.3131/jvsj2.56.377
- NAID
  10031195261
- ISSN
  1882-2398, 1882-4749
- 言語
  日本語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560387
[雑誌論文] Co-Pt-Cr-CoSi-CoO Sintered Target for Low Ar-gas-pressure Deposition of CoPtCr-SiO2 Granular Film with Stoichiometric SiO2 Phase2013
- 著者名/発表者名
  Shingo Sasaki, Shin Saito, and Migaku Takahashi
- 雑誌名
  
  IEEE Transactions on Magnetics
  
  巻: VOL. 49 号: 12 ページ: 5603-5609
- DOI
  10.1109/tmag.2013.2274050
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560387
[学会発表] CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr－SiO2グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜2016
- 著者名/発表者名
  佐々木晋五，Kim Kong Tham，日向慎太朗，斉藤伸
- 学会等名
  第57回真空に関する連合講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場（名古屋市）
- 年月日
  2016-11-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06001
[学会発表] 垂直磁気記録媒体用CoPt基合金－酸化物グラニュラー薄膜の柱状成長臨界膜厚の評価2015
- 著者名/発表者名
  佐々木晋五，佐々木有三，斉藤伸
- 学会等名
  第56回真空に関する連合講演会
- 発表場所
  つくば国際会議場（つくば市）
- 年月日
  2015-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06001
[学会発表] CoPtCrSiターゲットのリアクティブスパッタリングによるCoPtCr-SiO2グラニュラー膜の作製
- 著者名/発表者名
  佐々木晋五，日向慎太朗，斉藤伸，高橋研，Kim Kong Tham
- 学会等名
  第37回日本磁気学会学術講演会
- 発表場所
  北海道大学（札幌市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560387
[学会発表] Impurity gas analysis in the sputtering process under high Ar gas pressure
- 著者名/発表者名
  S. Sasaki, S. Ishibashi, S. Saito and M. Takahashi
- 学会等名
  The 2nd International Conference of the Asian Union of Magnetics Societies
- 発表場所
  奈良県新公会堂（奈良市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24560387

1. 齊藤伸 (50344700)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 2件

佐々木 晋五 SASAKI Shingo

研究課題

研究成果

共同研究者

超高密度磁気記録媒体用の組成変調構造を有するCoPt-酸化物グラニュラ媒体の作製研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

原子層組成変調型積層欠陥フリーＣｏＰｔ基スパッタ膜の柱状グラニュラ組織の実現研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] 垂直磁気記録媒体用CoPt基合金-酸化物グラニュラー薄膜の柱状成長臨界膜厚の評価2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

言語

データソース

[雑誌論文] グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制 －記録層成長初期部への高ガス圧成膜層の挿入－2013

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制&mdash;記録層成長初期部への高ガス圧成膜層の挿入&mdash;2013

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

言語

データソース

[雑誌論文] Co-Pt-Cr-CoSi-CoO Sintered Target for Low Ar-gas-pressure Deposition of CoPtCr-SiO2 Granular Film with Stoichiometric SiO2 Phase2013

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[学会発表] CoPtCrSiターゲットの酸素リアクティブスパッタリングによるCoPtCr－SiO2グラニュラー薄膜の低ガス圧成膜2016

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

年月日

データソース

[学会発表] 垂直磁気記録媒体用CoPt基合金－酸化物グラニュラー薄膜の柱状成長臨界膜厚の評価2015

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

年月日

データソース

[学会発表] CoPtCrSiターゲットのリアクティブスパッタリングによるCoPtCr-SiO2グラニュラー膜の作製

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

データソース

[学会発表] Impurity gas analysis in the sputtering process under high Ar gas pressure

著者名/発表者名

学会等名

発表場所

データソース

佐々木晋五 SASAKI Shingo

[雑誌論文] グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制　－記録層成長初期部への高ガス圧成膜層の挿入－2013

[雑誌論文] グラニュラー型垂直磁気記録媒体における磁気的交換結合の抑制—記録層成長初期部への高ガス圧成膜層の挿入—2013