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青山 隆  AOYAMA Takashi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 80363737
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2012年度: 秋田県立大学, システム科学技術学部, 教授
2005年度 – 2007年度: 秋田県立大学, システム科学技術学部, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者以外
構造・機能材料
キーワード
研究代表者以外
LSI / 配線抵抗率 / TEG / 抵抗率 / Cu配線 / Oxygen / Cu Plating / High-purity Plating Material / Cu Interconnects / Grain Size … もっと見る / Low Resistivity / 配線の密着性向上 / 配線の低抵抗化 / 技術ノード35nm / エレクトロマイグレーション / ナノスクラッチ試験 / 標準偏差 / 平均結晶粒径 / 硫酸銅純度 / Cu配線形成 / LSI用Cu配線 / 耐エレクトロマイグレーション性 / 密着性 / 結晶粒径 / 分子動力学法 / めっき材料 / 酸素濃度 / 高純度プロセス / 均一・大粒径 / 高純度めっき材 / 模擬デバイス / 配線評価用TEG / パルスめっき技術 / 添加剤フリーめつき技術 / 超高純度めっき材料 / ULSI / 微細構造 / 微量不純物 / Cuの高純度化 / 分子動力学シミュレーション / 革新的高導電性 / 超高純度めっき材 / 添加剤フリー / Cu 配線 / 収差補正STEM / クレヴァス / Ru膜 / 添加剤フリーめっき / 収差補正TEM / 粒界不純物 / 超高純度硫酸銅 / 情報材料 / 電子 隠す
  • 研究課題

    (2件)
  • 研究成果

    (3件)
  • 共同研究者

    (15人)
  •  極限高純度めっきプロセスによるCu配線ナノ構造制御と次世代ナノLSIへの展開

    • 研究代表者
      大貫 仁
    • 研究期間 (年度)
      2008 – 2012
    • 研究種目
      基盤研究(S)
    • 研究分野
      構造・機能材料
    • 研究機関
      茨城大学
  •  20nm技術LSI用Cu配線材料の研究

    • 研究代表者
      大貫 仁
    • 研究期間 (年度)
      2005 – 2007
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      構造・機能材料
    • 研究機関
      茨城大学

すべて 2006 その他

すべて 雑誌論文

  • [雑誌論文] Filling 80nm-ide and High-Aspect-Ratio-Trench with Pulse Wave Copper Electroplating and Observation of Microstructure2006

    • 著者名/発表者名
      Y. Chonan, J. Onuki, T. Nagano, K. P. Khoo, T. Aoyama, H. Akahoshi, T. Haba and T. Saitou
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. Vol.45

      ページ: 8604-8607

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17206071
  • [雑誌論文] Filling 80nm-ide and High-Aspect-Ratio-Trench with Pulse Wave Copper Electroplating and Observation of Microstructure2006

    • 著者名/発表者名
      Y., Chonan・J., Onuki・T., Nagano・K.P., Khoo・T., Aoyama・H., Akahoshi・T., Haba・T., Saitou
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 45

      ページ: 8604-8607

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17206071
  • [雑誌論文] Filling 80nm wide and high aspect-ration trench by pulse wave electro-Cu plating and observation of microstructure

    • 著者名/発表者名
      Y.Chonan, J.Onuki, T.Nagano, H.Akahoshi, K.P.Khoo, T.Aoyama, H.Akahoshi
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. (掲載決定)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17206071
  • 1.  大貫 仁 (70315612)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 3件
  • 2.  篠嶋 妥 (80187137)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  三村 耕司 (00091752)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  石川 信博 (00370312)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  近藤 和夫 (50250478)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  稲見 隆 (20091853)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  長南 安紀 (30363740)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  伊藤 真二 (50370317)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  打越 雅仁 (60447191)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  太田 弘道 (70168946)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  永野 隆敏 (70343621)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  木村 隆 (70370319)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 13.  田代 優 (90272111)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 14.  友田 陽 (90007782)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 15.  一色 実 (20111247)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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