研究者番号 |
80414548
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その他のID |
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所属 (現在) |
2025年度: 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 大洗原子力工学研究所 戦略推進部, 研究副主幹
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2023年度: 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構, 高速炉・新型炉研究開発部門 プラント技術イノベーション推進室, 研究副主幹
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審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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小区分28050:ナノマイクロシステム関連
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キーワード |
- 研究代表者
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界面反応場の形成 / リポソームの改質 / 機能性マイクロカプセル / ゾル-ゲル法 / ナノ成膜 / 熱分解 / 界面反応場 / リポソーム / ゾルゲル法
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