ＹｏｕｎＳｕｎｇーＷｏｎ Youn Sung-Won

… 別表記

Youn SungーWon Youn Sung-Won

研究者番号	80510065
所属 (現在)	2025年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2017年度 – 2021年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 2016年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 集積マイクロシステム研究センター, 主任研究員
審査区分/研究分野	研究代表者生産工学・加工学研究代表者以外小区分18020:加工学および生産工学関連
キーワード	研究代表者ナノマイクロ加工 / モールド設計技術 / 凝縮性ガス / 残膜均一化 / モールド設計 / ナノインプリントリソグラフィ研究代表者以外飽和蒸気圧 / ナノパターン / 充填 / 光ナノインプリント … もっと見る / リソグラフィ / 微小液滴 / 凝縮性ガス / スループット / NIL / ナノインプリント隠す

混合凝縮性ガスと微小液滴を用いた超高速光ナノインプリントに関する研究
- 研究代表者
  
  鈴木健太
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2021
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分18020:加工学および生産工学関連
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
ナノインプリント領域全域での高速充填と均一残膜を実現するモールド設計技術の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  Youn SungーWon
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2018
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所

すべて 2022 2019 2018 2017 2016

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Droplet-Dispensed Ultraviolet Nanoimprint Lithography in Mixed Condensable Gas of Trans-1,3,3,3-Tetrafluoropropene and Trans-1-Chloro-3,3,3-Trifluoropropene2022
- 著者名/発表者名
  Kenta Suzuki, Tatsuya Okawa, and Sung-Won Youn
- 雑誌名
  
  JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY
  
  巻: 35
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H02046
[雑誌論文] ナノインプリント技術の配線応用に向けたプロセスとモールド設計2019
- 著者名/発表者名
  尹成圓、鈴木健太、廣島洋
- 雑誌名
  
  エレクトロニクス実装学会誌
  
  巻: 22 号: 2 ページ: 158-163
- DOI
  10.5104/jiep.22.158
- NAID
  130007606390
- ISSN
  1343-9677, 1884-121X
- 年月日
  2019-03-01
- 言語
  日本語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035, KAKENHI-PROJECT-19H02046
[雑誌論文] Fabrication of high-aspect-ratio micropatterns in soluble block-copolymer polyimides by a UV-assisted thermal imprint process2019
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Takagi Hideki、Hiroshima Hiroshi、Kinoshita Yoshinori、Hayashi Katsuhiro
- 雑誌名
  
  Journal of Mechanical Science and Technology
  
  巻: 33 号: 8 ページ: 3755-3760
- DOI
  10.1007/s12206-019-0718-y
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H02046
[雑誌論文] Fabrication of High-Aspect-Ratio Micropatterns in Soluble Block-Copolymer Polyimides by an UV-assisted Thermal Imprint Process2019
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, Takagi Hideki, Hiroshi Hiroshima, Yoshinori Kinoshita, Katsuhiro Hayashi
- 雑誌名
  
  Journal of Mechanical Science and Technology
  
  巻: 印刷中
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[雑誌論文] Solubility Property of Condensable Gases of Trans-1-Chloro-3,3,3-Trifluoropropene and Trans-1,3,3,3-Tetrafluoropropene in UV Nanoimprint2019
- 著者名/発表者名
  Suzuki Kenta、Youn Sung-Won、Hiroshima Hiroshi
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 32 号: 1 ページ: 123-130
- DOI
  10.2494/photopolymer.32.123
- NAID
  130007744312
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2019-06-24
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H02046
[雑誌論文] Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography2018
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, Hiroshi Hiroshima
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 57 号: 6S1 ページ: 06HG03-06HG03
- DOI
  10.7567/jjap.57.06hg03
- NAID
  210000149171
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035, KAKENHI-PROJECT-17K14575
[雑誌論文] Filling Behavior and Mold Release Force in UV Nanoimprinting Using PDMS Mold in Different Atmosphere2018
- 著者名/発表者名
  Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, Hiroshi Hiroshima
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 31 ページ: 295-300
- NAID
  130007481515
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[雑誌論文] Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography2018
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 印刷中
- NAID
  210000149171
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[雑誌論文] Automated Pattern Modification Method to Equalize Residual Layer Thickness in Nanoimprint Lithography2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 雑誌名
  
  Conference Proceedings of NNT2017
  
  巻: 1 ページ: 53-54
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[雑誌論文] Basic Verification of Automated Design Method of Capacity-equalized Mold for Nanoimprint Lithography2017
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn (尹成圓), Kenta Suzuki, and Hiroshi Hiroshima
- 雑誌名
  
  Journal of Nanoscience and Nanotechnology
  
  巻: 印刷中
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[雑誌論文] Basic Verification of Method for Automated Design of Capacity-Equalized Mold for Nanoimprint Lithography2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 雑誌名
  
  Journal of Nanoscience and Nanotechnology
  
  巻: 17 号: 11 ページ: 8475-8479
- DOI
  10.1166/jnn.2017.15153
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[雑誌論文] Fabrication of a Holographic Pattern by UV-NIL Using PFP Gas2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 雑誌名
  
  Program book of the 8th Japan-China-Korea MEMS/NEMS 2017
  
  巻: 1 ページ: 28-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Filling Behavior and Mold Release Force in UV Nanoimprinting Using PDMS Mold in Different Atmosphere2018
- 著者名/発表者名
  Kenta Suzuki, Sung-Won Youn, and Hiroshi Hiroshima
- 学会等名
  The 35th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Fabrication of High Aspect Ratio Micropatterns in Soluble Block-copolymer Polyimide by UV-assisted Thermal Imprint Process2018
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, and Hiroshi Hiroshima
- 学会等名
  The 1st Emerging Technologies in Mechanical Engineering (ETME 2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Fabrication of wafer-level mold for nanoimprint lithography using STAMP program and self-alignment etching process2018
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, and Hiroshi Hiroshima
- 学会等名
  International Symposium on Precision and Engineering and Sustainable Manufacturing
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Control of pattern capacity in nanoimprint mold by adding 2D/2.5D patterns to obtain uniform residual layer2018
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 学会等名
  The 5th International Conference & Exhibition for Nanotechnology　(NANOPIA2018)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Fabrication of Flexible Replica Mold with 2D and 2.5D Structures Designed by STAMP Program2018
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn, Kenta Suzuki, and Hiroshi Hiroshima
- 学会等名
  9th Japan-China-Korea Joint Conf. on MEMS/NEMS
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Fabrication of a Holographic Pattern by UV-NIL Using PFP Gas2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 学会等名
  8th Japan-China-Korea MEMS/NEMS 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Automated Pattern Modification Method to Equalize Residual Layer Thickness in Nanoimprint Lithography2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 学会等名
  The 16th International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT2017)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 学会等名
  30st International Microprocesses and Nanotechnology Conferences
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] A Mold Pattern Design Method for Wafer-level Nanoimprint Lithography2017
- 著者名/発表者名
  Youn Sung-Won、Suzuki Kenta、Hiroshima Hiroshi
- 学会等名
  1st International Workshop on MEMS and Sensor System 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Mold Pattern Design for Control of Residual Layer Uniformity in Nanoimprint Lithography2016
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn (尹成圓)
- 学会等名
  The 7th Japan-China-Korea Joint Conference on MEMS/NEMS 2016
- 発表場所
  Sapporo Education and Culture Hall, Hokkaido, Japan
- 年月日
  2016-09-21
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Prototype of Complementary Pattern Generator for Control of Residual Layer Uniformity in Nanoimprint Lithography2016
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn (尹成圓)
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-11-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035
[学会発表] Basic Verification of Automated Design Method of Capacity-equalized Mold for Nanoimprint Lithography2016
- 著者名/発表者名
  Sung-Won Youn (尹成圓)
- 学会等名
  International Conference Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment 2016 (ENGE 2016)
- 発表場所
  Ramada Plaza Jeju Hotel, Jeju, Korea
- 年月日
  2016-11-06
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06035

1. 鈴木健太 (60709509)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 19件
2. 廣島洋

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 17件

Ｙｏｕｎ ＳｕｎｇーＷｏｎ Youn Sung-Won

Youn SungーWon Youn Sung-Won

研究課題

研究成果

共同研究者

混合凝縮性ガスと微小液滴を用いた超高速光ナノインプリントに関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

ナノインプリント領域全域での高速充填と均一残膜を実現するモールド設計技術の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Droplet-Dispensed Ultraviolet Nanoimprint Lithography in Mixed Condensable Gas of Trans-1,3,3,3-Tetrafluoropropene and Trans-1-Chloro-3,3,3-Trifluoropropene2022

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] ナノインプリント技術の配線応用に向けたプロセスとモールド設計2019

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Fabrication of high-aspect-ratio micropatterns in soluble block-copolymer polyimides by a UV-assisted thermal imprint process2019

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Fabrication of High-Aspect-Ratio Micropatterns in Soluble Block-Copolymer Polyimides by an UV-assisted Thermal Imprint Process2019

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Solubility Property of Condensable Gases of Trans-1-Chloro-3,3,3-Trifluoropropene and Trans-1,3,3,3-Tetrafluoropropene in UV Nanoimprint2019

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography2018

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

データソース

[雑誌論文] Filling Behavior and Mold Release Force in UV Nanoimprinting Using PDMS Mold in Different Atmosphere2018

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography2018

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Automated Pattern Modification Method to Equalize Residual Layer Thickness in Nanoimprint Lithography2017

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Basic Verification of Automated Design Method of Capacity-equalized Mold for Nanoimprint Lithography2017

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Basic Verification of Method for Automated Design of Capacity-Equalized Mold for Nanoimprint Lithography2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Fabrication of a Holographic Pattern by UV-NIL Using PFP Gas2017

著者名/発表者名

雑誌名

ＹｏｕｎＳｕｎｇーＷｏｎ Youn Sung-Won