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小川 大輔  ogawa daisuke

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 80752740
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 技術支援本部技術支援部計測分析技術グループ, 主任研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2024年度 – 2025年度: 地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター, 技術支援本部技術支援部計測分析技術グループ, 副主任研究員
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
研究代表者以外
小区分26030:複合材料および界面関連
キーワード
研究代表者
リサイクル / パターニング / ウェットプロセス / 二酸化スズ系透明導電膜
研究代表者以外
炭酸カルシウム / 真珠層 / 無機有機積層技術 / 湿式積層法
  • 研究課題

    (2件)
  • 共同研究者

    (4人)
  •  湿式積層法による立体表面への無機有機積層技術の開発

    • 研究代表者
      吉野 徹
    • 研究期間 (年度)
      2025 – 2027
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分26030:複合材料および界面関連
    • 研究機関
      地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
  •  二酸化スズ透明導電膜の新規パターニング・リサイクル技術の機構解明と精密制御研究代表者

    • 研究代表者
      小川 大輔
    • 研究期間 (年度)
      2024 – 2026
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
    • 研究機関
      地方独立行政法人東京都立産業技術研究センター
  • 1.  吉野 徹 (90614545)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  磯田 和貴 (80633031)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  瀧本 悠貴 (80733758)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  齋藤 庸賀 (90806001)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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