江崎ひろみ EZAKI Hiromi

研究者番号	90213545
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 東京工芸大学, 工学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2003年度 – 2006年度: 東京工芸大学, 工学部, 助教授 2004年度: 東京工芸大学, 助教授 1999年度: 東京工芸大学, 工学部, 講師 1997年度: 東京工芸大学, 工学部, 講師 1989年度 – 1992年度: 東京大学, 工学部, 教務職員
審査区分/研究分野	研究代表者以外応用光学・量子光工学 / 固体物性Ⅰ(光物性・半導体・誘電体)
キーワード	研究代表者 2光子吸収 / 励起子 / 微小共振器 / 光子数スクイージング / サブ・ポアッソン光研究代表者以外位相共役波 / メゾスコピックな双極子 / 励起子 / 量子光学 / 不純物効果 … もっと見る / 弱局在 / 励起子光非線形性 / アンダ-ソン局在 / Optical Lithography / Quantum Optics / Super Resolution / 光リソグラフィー / 超解像 / ランダムポテンシャル / Polarization / Higher order interference / リソグラフィー / 偏光 / 高次の干渉 / 光リソグラフィ / 素子設計 / 能動素子 / 国際共同研究 / フォトニック結晶 / アンダーソン局在 / ランダム系 / 光線線形性 / 易動度端 / 超放射 / 非線形分極率隠す

波動関数の偏光量子干渉を利用した極限超解像光リソグラフィー
- 研究代表者
  
  渋谷眞人
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2006
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  東京工芸大学
光量子干渉効果を利用した極限超解像光リソグラフィー
- 研究代表者
  
  渋谷眞人
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  東京工芸大学
微小構造体の量子光学
- 研究代表者
  
  迫田和彰
- 研究期間 (年度)
  1999
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  固体物性Ⅰ(光物性・半導体・誘電体)
- 研究機関
  北海道大学
微小共振器中の励起子系による光子数スクイージング研究代表者
- 研究代表者
  
  江崎ひろみ
- 研究期間 (年度)
  1997
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  東京工芸大学
励起子のアンダーソン局在に伴う光非線形応答の異常
- 研究代表者
  
  花村榮一
- 研究期間 (年度)
  1992
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  東京大学
励起子のアンダ-ソン局在に伴う光非線形応答の異常
- 研究代表者
  
  花村榮一
- 研究期間 (年度)
  1990 – 1992
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  東京大学
励起子のアンダ-ソン局在に伴う光非線形応答の異常
- 研究代表者
  
  花村榮一
- 研究期間 (年度)
  1990 – 1992
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  東京大学
化合物半導体におけるアンダ-ソン局在と巨大非線形光学効果
- 研究代表者
  
  花村榮一
- 研究期間 (年度)
  1988 – 1989
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  東京大学

すべて 2007 2006 2004 その他

すべて雑誌論文

[雑誌論文] Classification of undulated wavefront aberration in projection optics by considering its physical effect2007
- 著者名/発表者名
  M.Shibuya, N, Watanabe, M.Yamamoto, T.Fukui, H.Ezaki, T.Kiire, S.Nakadate
- 雑誌名
  
  Optical Engineering Vol.46 (in press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038
[雑誌論文] Classification of undulated wavefront aberration in projection optics by considering its physical effect2007
- 著者名/発表者名
  M.Shibuya, N, Watanabe, M.Yamamoto, T.Fukui, H.Ezaki, T.Kiire, S.Nakadate
- 雑誌名
  
  Optical Engineering 46巻5号(in press)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038
[雑誌論文] Classification of undulated wavefront aberration in projection optics by considering its physical effect2007
- 著者名/発表者名
  M.Shibuya, N, Watanabe, M.Yamamoto, T.Fukui, H.Ezaki, T.Kiire, S.Nakadate
- 雑誌名
  
  Optical Engineering 46巻5号(In press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038
[雑誌論文] Second-order coherence in an exciton-polariton laser : A quantum Monte carlo wavefunction approach2006
- 著者名/発表者名
  H.Ezaki, Y.Yamamoto
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics and Quantum Optics Vol.35
  
  ページ: 313-329
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038
[雑誌論文] Second-order coherence in an exciton-polariton laser : A quantum monte carlo wavefunction approach2006
- 著者名/発表者名
  H.Ezaki, Y.Yamamoto
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics and Quantum Optics 35巻
  
  ページ: 313-329
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038
[雑誌論文] Second-order Coherence in an Exciton-Polariton Laser : A Quantum Monte Carlo Wavefunction Approach2006
- 著者名/発表者名
  Hiromi EZAKI, Yoshihisa YAMAMOTO
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics and Quantum Optics, 35巻
  
  ページ: 313-329
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038
[雑誌論文] Super-resolution by polarization-dependent two-photon absorption in optical lithography2004
- 著者名/発表者名
  H.Ezaki, M.Shibuya
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics、Quantum Optics 32巻4号
  
  ページ: 211-220
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560036
[雑誌論文] Super-Resolution by Polarization-Dependent Two-Photon Absorption in Optical Lithography2004
- 著者名/発表者名
  H.Ezaki, M.Shibuya
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics, Quantum Optics 32巻4号
  
  ページ: 211-220
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560036
[雑誌論文] super-resolution by polarization-dependenttwo-photon absorption in optical lithography2004
- 著者名/発表者名
  H.Ezaki, M.Shibuya
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics Quantum Optics Vol.32
  
  ページ: 211-220
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15560036
[雑誌論文] Second-order Coherence in Exciton-polariton lasers : Quantum Monte Calro Wavefunction Approach
- 著者名/発表者名
  H.Ezaki, Y.Yamamoto
- 雑誌名
  
  Nonlinear Optics, Quantum Optics (In press)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560038

1. 花村榮一 (70013472)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 0件
2. 谷口伸彦 (70227221)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 0件
3. 尾松孝茂 (30241938)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 渋谷眞人 (10339799)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 6件
5. 五神真 (70161809)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
6. 住篤子 (20114522)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 小川哲生 (50211123)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 永長直人 (60164406)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
9. 迫田和彰 (90250513)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
10. 大高一雄 (40010946)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
11. 大木裕史

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

江崎 ひろみ EZAKI Hiromi

研究課題

研究成果

共同研究者

波動関数の偏光量子干渉を利用した極限超解像光リソグラフィー

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

光量子干渉効果を利用した極限超解像光リソグラフィー

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

微小構造体の量子光学

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

微小共振器中の励起子系による光子数スクイージング研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

励起子のアンダーソン局在に伴う光非線形応答の異常

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

励起子のアンダ-ソン局在に伴う光非線形応答の異常

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

励起子のアンダ-ソン局在に伴う光非線形応答の異常

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

化合物半導体におけるアンダ-ソン局在と巨大非線形光学効果

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

[雑誌論文] Classification of undulated wavefront aberration in projection optics by considering its physical effect2007

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Classification of undulated wavefront aberration in projection optics by considering its physical effect2007

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Classification of undulated wavefront aberration in projection optics by considering its physical effect2007

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Second-order coherence in an exciton-polariton laser : A quantum Monte carlo wavefunction approach2006

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Second-order coherence in an exciton-polariton laser : A quantum monte carlo wavefunction approach2006

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

[雑誌論文] Second-order Coherence in an Exciton-Polariton Laser : A Quantum Monte Carlo Wavefunction Approach2006

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Super-resolution by polarization-dependent two-photon absorption in optical lithography2004

著者名/発表者名

雑誌名

説明

データソース

江崎ひろみ EZAKI Hiromi