| 研究者番号 |
90357880
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| その他のID |
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| 所属 (現在) |
2025年度: 慶應義塾大学, 理工学部(矢上), 教授
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| 所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 |
2020年度 – 2024年度: 慶應義塾大学, 理工学部(矢上), 教授
2019年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 上級主任研究員
2018年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, ナノエレクトロニクス研究部門, 上級主任研究員
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| 審査区分/研究分野 |
- 研究代表者
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小区分30010:結晶工学関連
- 研究代表者以外
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小区分28030:ナノ材料科学関連 /
小区分13020:半導体、光物性および原子物理関連 /
ナノ材料化学
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| キーワード |
- 研究代表者
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カルコゲナイド / 層状物質 / X線吸収 / アモルファス / 結晶化 / スパッタリング法 / 遷移金属ダイカルコゲナイド / テルライド / 層状カルコゲナイド
- 研究代表者以外
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第一原理計算
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/ ファンデルワールス / 半導体 / ファンデルワールス力 / 準安定層状結晶 / 電子デバイス / 結晶化 / アモルファス / 層状テルライド / フェムト秒 / 逆ファラデー効果 / ワイル半金属 / フェムト秒レーザー / トポロジカル物質 / スピン / 電子・電気材料 / 計算物理 / ナノ材料 / heterostrictures / dichalcogenides / topological insulators / van der Waals / superlattices / strain control / electronic structure / van der Waals solids / chalcogenides / 応力制御 / ヘテロ構造 / 超格子 / 密度汎関数理論 / 電子状態 / 層状カルコゲナイド
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