新海聡子 Shinkai Satoko

研究者番号	90374785
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2020年度 – 2024年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授 2020年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授 2012年度 – 2019年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 准教授 2007年度 – 2008年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 講師
審査区分/研究分野	研究代表者小区分21010:電力工学関連 / 小区分21050:電気電子材料工学関連 / 応用物性・結晶工学研究代表者以外小区分21010:電力工学関連 / 電力工学・電力変換・電気機器 / 小区分21050:電気電子材料工学関連
キーワード	研究代表者トレンチ / ドライエッチング / 酸化ガリウム / コーナー / ウエットエッチング / 熱処理 / Ga2O3 / BCl3 / Cl2 / β-Ga2O3 … もっと見る / GaN / ICP-RIE / ICP電力 / プロセス圧力 / バイアス電力 / 三塩化ホウ素 / 塩素 / エッチングレート / 表面形態 / 表面粗さ / エッチング / Si / スパッタ / タンタル / 銅 / 配線 / LSI / 拡散バリア / エピタキシャル成長 … もっと見る研究代表者以外パワーSoC / 集積化電源 / GaN / ３次元IC / パワーIC / ウエハー接合技術 / バンド構造制御 / シリコン光エレクトロニクス / シリサイド半導体 / ヘテロジニアスインテフレーション / ３次元集積回路 / 3次元パワーIC / GaNパワーデバイス / ヘテロジニアスインテグレーション / 3DIC / 3D パワーIC / サーマルマネージメント / 小型化 / ｈ－BN / ２次元物質 / 排熱・抜熱技術 / 表面活性化接合 / グラファイト薄膜 / マルチレイヤーグラフェン / h-BN / ３次元パワーSoC / 3次元集積化 / 高周波スイッチング電源 / 異種デバイス集積化 / 集積システム / 3次元パワーSoC / ノイズ遮蔽 / ３次元構造 / 集積化 / スイッチング電源 / パワーSupply on Chip / パワーエレクトロニクス / 電力工学 / DCーDCコンバーター / 小型電源 / POL / DCーDCコンバータ / 実装 / 高温動作 / パワーMOSFET / パワーSOC / 集積化パワーシステム / DC-DCコンバータ / SOD / SOD基板 / 抜熱 / 排熱 / Si on Diamond 隠す

サイト選択元素置換によるシリサイド半導体の光学機能創出
- 研究代表者
  
  寺井慶和
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  九州工業大学
酸化ガリウムの表面および界面処理技術の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  新海聡子
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21010:電力工学関連
- 研究機関
  九州工業大学
高電力パワーIC実現に向けたヘテロジニアスインテグレーション技術の研究
- 研究代表者
  
  松本聡
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21010:電力工学関連
- 研究機関
  九州工業大学
酸化ガリウムのトレンチ形状作製のための新製造プロセスの確立研究代表者
- 研究代表者
  
  新海聡子
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2020
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  九州工業大学
３次元Power supply on chip用プラットフォームの構築
- 研究代表者
  
  松本聡
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2020
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分21010:電力工学関連
- 研究機関
  九州工業大学
高排熱と電磁ノイズ遮蔽を実現するパワーSupply on Chip用基板の研究
- 研究代表者
  
  松本聡
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電力工学・電力変換・電気機器
- 研究機関
  九州工業大学
超高密度パワーＳＯＣ（Ｓｕｐｐｌｙ　ｏｎ　Ｃｈｉｐ）用集積回路基板の研究
- 研究代表者
  
  松本聡
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電力工学・電力変換・電気機器
- 研究機関
  九州工業大学
タンタル拡散バリアの有用性探索研究代表者
- 研究代表者
  
  新海聡子
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  応用物性・結晶工学
- 研究機関
  九州工業大学

すべて 2022 2021 2020 2019 2018 2017 2009 2008 2007 その他

すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] Crystal Orientation of Epitaxial (110)α-Ta Thin Films Grown on (100) and (111)Si Substrates by Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  M. Kudo, S. Shinkai, H. Yanagisawa, K. Sasaki, and Y. Abe
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics vol.47
  
  ページ: 5608-5612
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[雑誌論文] Crystal Orientation of Epitaxial α-Ta(110) Thin Films Grown on Si(100) and Si(111) Substrates by Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  Masahiro Kudo, Satoko Shinkai, Hideto Yanagisawa, Katsutaka Sasaki, and Yoshio Abe
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 47
  
  ページ: 5608-5612
- NAID
  40016161803
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[雑誌論文] Crystal Orientation of Epitaxial (110)α -Ta Thin Films Grown on(100)and (lll) Si Substrates by Sputtering
- 著者名/発表者名
  M. Kudo, S. Shinkai, H. Yanagisawa, K. Sasaki, and Y. Abe
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 47(印刷中)
  
  ページ: 5608-5612
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[産業財産権] 基板の表面処理方法、表面処理装置および表面処理溶液2021
- 発明者名
  新海聡子
- 権利者名
  新海聡子
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2021-211935
- 出願年月日
  2021
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] アルコール希釈TMAHを用いた窒化ガリウムのウエットエッチング2022
- 著者名/発表者名
  濵屋有志，岡本萌，新海聡子
- 学会等名
  第69回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01314
[学会発表] エッチング条件によるβ-Ga2O3表面形態への影響2020
- 著者名/発表者名
  森山裕貴，新海聡子
- 学会等名
  第67 回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04239
[学会発表] Cl2を用いた低バイアスドライエッチングで出現するGaNの異方性2020
- 著者名/発表者名
  濱屋有志，岡本萌，新海聡子
- 学会等名
  第67 回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] Cl2を用いたGaNエッチングに及ぼす装置からの影響2020
- 著者名/発表者名
  岡本萌，濱屋有志，森山裕貴，新海聡子
- 学会等名
  第67 回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] 低バイアスエッチング後の GaN on GaN 表面形態2019
- 著者名/発表者名
  宇崎滉太，新海聡子
- 学会等名
  第 66 回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] 3次元Power Supply on chip実現のためのプロセス技術開発2019
- 著者名/発表者名
  横井雅志，小野晃太，石戸降希，新海聡子，松本聡
- 学会等名
  電気学会　電子デバイス/半導体電力変換合同研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] AlGaN/GaN/Buffer (111)SiとSiO2/(100)Siウエハのドライエッチング2019
- 著者名/発表者名
  横井雅志，森山裕貴，新海聡子
- 学会等名
  第80 回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] ドライエッチング後のn-GaN/i-GaN on Siにおける表面形態2019
- 著者名/発表者名
  岡本萌，森山裕貴，新海聡子
- 学会等名
  第80 回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] β-Ga2O3ドライエッチングにおけるドープ種の影響2019
- 著者名/発表者名
  森山裕貴，新海聡子
- 学会等名
  第80 回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04239
[学会発表] 走査型電子顕微鏡を用いたエッチング後のGaN表面観察2018
- 著者名/発表者名
  林卓矢，宇崎滉太，新海聡子
- 学会等名
  平成30年度応用物理学会九州支部学術講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] 各種 GaN 基板におけるエッチング依存性2018
- 著者名/発表者名
  宇崎滉太，新海聡子
- 学会等名
  平成30年度応用物理学会九州支部学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] 希釈溶媒を変化させたTMAHによるGaN表面処理2018
- 著者名/発表者名
  今熊豪，宇崎滉太，新海聡子
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03965
[学会発表] Cl2およびBCl3を用いたICP-RIEによるGaN表面粗さへの影響2018
- 著者名/発表者名
  宇崎滉太，今熊豪，新海聡子
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03965
[学会発表] 低バイアスドライエッチングによる多結晶β-Ga2O3の表面粗さ評価2018
- 著者名/発表者名
  森山裕貴，西山和輝，宇崎滉太，川棚湧貴，新海聡子
- 学会等名
  平成30年度応用物理学会九州支部学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04239
[学会発表] 低バイアスICP-RIEによるn-GaN表面粗さ評価2018
- 著者名/発表者名
  宇﨑滉太, 新海聡子, 大槻秀夫
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04239
[学会発表] ICP-RIEを使用したスキャロップ削減方法の検討2018
- 著者名/発表者名
  宇崎滉太，穴井宏樹，川棚湧貴，新海聡子
- 学会等名
  平成30年度　日本表面真空学会　九州支部学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04239
[学会発表] ミストCVD法によって成膜したGa2O3の結晶性評価2018
- 著者名/発表者名
  西山和輝，森山裕貴，新海聡子
- 学会等名
  平成30年度応用物理学会九州支部学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K04239
[学会発表] 低バイアスICP-RIEによるn-GaN表面粗さ評価2018
- 著者名/発表者名
  宇崎滉太，新海聡子，大槻秀夫
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H01430
[学会発表] TMAH溶液のエッチングによるGaNの表面粗さの改善2017
- 著者名/発表者名
  今熊豪，宇崎滉太，新海聡子
- 学会等名
  平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03965
[学会発表] ICP-RIEを施したGaN表面のエッチングダメージ評価2017
- 著者名/発表者名
  宇崎滉太，今熊豪，新海聡子
- 学会等名
  平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03965
[学会発表] 同時スパッタで作製したNb-Hf合金膜による陽極酸化膜キャパシタの損失特性2009
- 著者名/発表者名
  君崎英史,柴田智晴,本間康之,新海聡子,佐々木克孝,山根美佐雄,阿部良夫
- 学会等名
  2009年(平成21年)春季第56回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  筑波大学
- 年月日
  2009-04-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[学会発表] Hfを添加したNb合金による陽極酸化膜キャパシタの損失特性2008
- 著者名/発表者名
  柴田智晴,君崎英史,佐々木克孝,山根美佐雄,阿部良夫,新海聡子
- 学会等名
  2008年(平成20年)秋季第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- 年月日
  2008-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[学会発表] TiNゲートAlGaN/GaN HFETの特性評価2007
- 著者名/発表者名
  敖金平,澤田剛一,新海聡子,岡田政也,胡成余,廣瀬和之,河合弘治,大野泰夫
- 学会等名
  2007年(平成19年)秋季第68回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道工業大学
- 年月日
  2007-09-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[学会発表] n-GaNへの高温処理ZrN電極ショットキー特性2007
- 著者名/発表者名
  澤田剛一, 新海聡子, 敖金平, 岡田政也, 胡成余, 廣瀬和之, 河合弘治, 大野泰夫
- 学会等名
  第68回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道工業大学
- 年月日
  2007-09-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[学会発表] n-GaNへの高温処理ZrN電極ショットキー特性2007
- 著者名/発表者名
  澤田剛一,新海聡子,敖金平,岡田政也,胡成余,廣瀬和之,河合弘治,大野泰夫
- 学会等名
  2007年(平成19年)秋季第68回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道工業大学
- 年月日
  2007-09-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015
[学会発表] TiNゲートAIGaN/GaN HFETの特性評価2007
- 著者名/発表者名
  敖金平, 澤田剛一, 新海聡子, 岡田政也, 胡成余, 廣瀬和之, 河合弘治, 大野泰夫
- 学会等名
  第68回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道工業大学
- 年月日
  2007-09-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19760015

1. 松本聡 (10577282)

共同の研究課題数: 6件

共同の研究成果数: 1件
2. 馬場昭好 (80304872)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
3. 長谷川雅考 (20357776)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 西澤伸一 (40267414)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 小金丸正明 (20416506)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 寺井慶和 (90360049)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

新海 聡子 Shinkai Satoko

研究課題

研究成果

共同研究者

サイト選択元素置換によるシリサイド半導体の光学機能創出

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

酸化ガリウムの表面および界面処理技術の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

高電力パワーIC実現に向けたヘテロジニアスインテグレーション技術の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

酸化ガリウムのトレンチ形状作製のための新製造プロセスの確立研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

３次元Power supply on chip用プラットフォームの構築

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

高排熱と電磁ノイズ遮蔽を実現するパワーSupply on Chip用基板の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

超高密度パワーＳＯＣ（Ｓｕｐｐｌｙ ｏｎ Ｃｈｉｐ）用集積回路基板の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

タンタル拡散バリアの有用性探索研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Crystal Orientation of Epitaxial (110)α-Ta Thin Films Grown on (100) and (111)Si Substrates by Sputtering2008

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Crystal Orientation of Epitaxial α-Ta(110) Thin Films Grown on Si(100) and Si(111) Substrates by Sputtering2008

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Crystal Orientation of Epitaxial (110)α -Ta Thin Films Grown on(100)and (lll) Si Substrates by Sputtering

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[産業財産権] 基板の表面処理方法、表面処理装置および表面処理溶液2021

発明者名

権利者名

産業財産権種類

産業財産権番号

出願年月日

データソース

[学会発表] アルコール希釈TMAHを用いた窒化ガリウムのウエットエッチング2022

著者名/発表者名

学会等名

データソース

[学会発表] エッチング条件によるβ-Ga2O3表面形態への影響2020

著者名/発表者名

学会等名

データソース

新海聡子 Shinkai Satoko

超高密度パワーＳＯＣ（Ｓｕｐｐｌｙ　ｏｎ　Ｃｈｉｐ）用集積回路基板の研究