• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

竹内 和歌奈  Takeuchi Wakana

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 90569386
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 愛知工業大学, 工学部, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2020年度 – 2023年度: 愛知工業大学, 工学部, 准教授
2016年度: 名古屋大学, 工学研究科, 助教
2014年度 – 2015年度: 名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教
2013年度: 名古屋大学, 工学研究科, 助教
2011年度 – 2012年度: 名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教
2010年度: 名古屋大学, 工学研究科, 助教
2009年度: 名古屋大学, 大学院・工学研究科, 研究員
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分28020:ナノ構造物理関連 / 物性Ⅰ
研究代表者以外
薄膜・表面界面物性 / 工学 / 理工系 / 理工系
キーワード
研究代表者
量子ドット / SiCドット / CVD / SiC/BN積層 / BN / SiC / ドーパント不活性化抑制 / 水素の効果 / 水素成長 / DLTS測定 … もっと見る / ゲルマニウムースズ / 欠陥評価 / 回復処理 / イオン注入 / 成長 / 欠陥 / MOCVD / MBE / 欠陥制御 / キャリア密度制御 / DLTS / 結晶成長 / 格子欠陥 / GeSn / Ⅳ族混晶半導体 … もっと見る
研究代表者以外
エネルギーバンド / 半導体物性 / ゲルマニウム錫 / エレクトロニクス / 結晶工学 / LSI / 欠陥 / 高キャリア移動度 / 結晶成長 / ひずみ / スズ / ゲートスタック / スズ(錫) / 表面・界面 / CMOS / エピタキシャル成長 / 歪 / 錫 / ゲルマニウム / 先端機能デバイス / ドーピング / 電子ビーム励起プラズマ / 単一架橋カーボンナノウォール / ラピッドサーマルアニール / トランスミッションライン法 / 接触抵抗 / 界面構造 / n型伝導カーボンナノウォール / 赤外吸収スペクトル測定 / ラジカル注入型プラズマCVD / n型ドープ / 抵抗値 / 形状制御 / ラジカル注入型プラズマCVD装置 / チャネルエンジニアリング / 電気特性 / カーボンナノウォール / プラズマプロセス / グラフェンシート / カーボンナノ構造体 / 自己組織化 隠す
  • 研究課題

    (5件)
  • 研究成果

    (251件)
  • 共同研究者

    (16人)
  •  多層SiC量子ドット形成とその物性評価研究代表者

    • 研究代表者
      竹内 和歌奈
    • 研究期間 (年度)
      2020 – 2023
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分28020:ナノ構造物理関連
    • 研究機関
      愛知工業大学
  •  機能融合デバイス構築に向けたSn系Ⅳ族半導体薄膜の材料設計

    • 研究代表者
      財満 鎭明
    • 研究期間 (年度)
      2014
    • 研究種目
      基盤研究(A)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  GeSn膜の低欠陥密度化及びキャリア密度の制御研究代表者

    • 研究代表者
      竹内 和歌奈
    • 研究期間 (年度)
      2014 – 2016
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      物性Ⅰ
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  省電力/超高速ナノCMOSのための電子物性設計と高移動度チャネル技術の創生

    • 研究代表者
      財満 鎭明
    • 研究期間 (年度)
      2010 – 2013
    • 研究種目
      特別推進研究
    • 審査区分
      理工系
      工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  •  低次元カーボン系チャネルエンジニアリング

    • 研究代表者
      堀 勝
    • 研究期間 (年度)
      2006 – 2009
    • 研究種目
      特定領域研究
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      名古屋大学

すべて 2017 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2010 2009 2008 2007 その他

すべて 雑誌論文 学会発表 産業財産権

  • [雑誌論文] Characterization of Shallow-and Deep-Level Defects in Undoped Ge1-xSnx Epitaxial Layers by Electrical Measurements2016

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, T. Asano, Y. Inuzuka, M. Sakashita, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 雑誌名

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 5 ページ: 3082-3086

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [雑誌論文] Characterization of crystallinity of Ge1-xSnx epitaxial layers grown using metal-organic chemical vapor deposition2016

    • 著者名/発表者名
      Y. Inuzuka, S. Ike, T. Asano, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 602 ページ: 7-12

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [雑誌論文] Impact of Hydrogen Surfactant on Crystallinity of Ge1-xSnx Epitaxial Layers2015

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, N. Taoka, K. Hozaki, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

    • NAID

      210000145039

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [雑誌論文] High hole mobility tin-doped polycrystalline germanium layers formed on insulating substrates by low-temperature solid-phase crystallization2015

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, N. Taoka, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 107 号: 2 ページ: 022103-022103

    • DOI

      10.1063/1.4926507

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261, KAKENHI-PROJECT-26220605
  • [雑誌論文] Epitaxial Ge1-xSnx Layers Grown by Metal-Organic Chemical Vapor Deposition Using Tertiary-butyl-germane and Tri-butyl-vinyl-tin2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Inuzuka, S. Ike, T. Asano, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 雑誌名

      ECS Solid State Letters

      巻: 4 号: 8 ページ: 59-61

    • DOI

      10.1149/2.0041508ssl

    • 査読あり / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261, KAKENHI-PROJECT-26220605, KAKENHI-PROJECT-14J10698, KAKENHI-PROJECT-14J10705
  • [雑誌論文] Ge1-xSnxエピタキシャル層中の欠陥へ及ぼす熱処理の効果2015

    • 著者名/発表者名
      浅野孝典, 柴山茂久, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      信学技報 IEICE Technical Report

      巻: 115 ページ: 63-68

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [雑誌論文] MOCVD法により形成した極薄GeO2を用いたAl203/GeOx/Ge構造の電気的特性および構造評価2014

    • 著者名/発表者名
      吉田 鉄兵, 加藤 公彦, 柴山 茂久, 坂下 満男, 田岡 紀之, 竹内 和歌奈, 中塚 理, 財満 鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会rゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」(第19回研究報告会)

      ページ: 131-134

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Stabilized formation of tetragonal ZrO2 thin film with high permittivity2014

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, T. Saito, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: VOL. 30 ページ: 192-196

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2014.01.031

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Impacts of AlGeO formation by post thermal oxidation of Al203/Ge structure on interfacial properties2014

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: VOL. 30 ページ: 282-287

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2013.10.084

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] 固溶限を超えるSn組成を有するGe1-xSnx層中におけるSn原子の熱安定性2014

    • 著者名/発表者名
      加藤 公彦, 浅野 孝典, 田岡 紀之, 坂下 満男, 竹内 和歌奈, 中塚 理, 財満 鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会「ゲートスタック研究会―材料. プロセス・評価の物理―」(第19回研究報告会)

      ページ: 37-40

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] 低界面準位密度を有するGe MOS構造を実現するGe表面の酸化条件2014

    • 著者名/発表者名
      柴山 茂久, 加藤 公彦, 坂下 満男, 竹内 和歌奈, 田岡 紀之, 中塚 理, 財満 鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会「ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」(第19回研究報告会)

      ページ: 13-16

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Defects Induced by Reactive Ion Etching in Ge Substrate2014

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, N. Taoka, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 雑誌名

      Advanced Materials Research

      巻: VOL. 896 ページ: 245-248

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/amr.896.241

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Importance of Control of Oxidant Partial Pressure on Structural and Electrical Properties of Pr-oxide Films2014

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 30 ページ: 276-281

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2013.10.088

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] n型Ge単結晶中におけるSnと空孔関連欠陥との相互作用2014

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      信学技報

      巻: 114 ページ: 113-118

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [雑誌論文] Effect of Gate Metal on Chemical Bonding State in Metal/Pr-oxide/Ge Gate Stack Structure2013

    • 著者名/発表者名
      Kimihiko Kato, Mitsuo Sakashita, Wakana Takeuchi, Noriyuki Taoka, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima
    • 雑誌名

      Solid State Electronics

      巻: 83 ページ: 56-60

    • DOI

      10.1016/j.sse.2013.01.029

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J06058, KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Effect of Interfacial Reactions in Radical Process on Electrical Properties of Al_2O_3/Ge Gate Stack Structure2013

    • 著者名/発表者名
      Kimihiko Kato, Mitsuo Sakashita, Wakana Takeuchi, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima
    • 雑誌名

      Journal of Physics : Conference Series

      巻: 417 ページ: 012001-012001

    • DOI

      10.1088/1742-6596/417/1/012001

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J06058, KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Development of epitaxial growth technology for Ge_<1-x>Sn_x alloy and study of its properties for Ge nanoelectronics2013

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, Y. Shimura, W. Takeuchi, N. Taoka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electron

      巻: 83 ページ: 82-86

    • DOI

      10.1016/j.sse.2013.01.040

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Al2O3/Ge構造に対する熱酸化機構の解明2013

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」(第18回研究会)

      ページ: 39-42

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Broad defect depth distribution in germanium substrates induced by CF4 plasma2013

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, N. Taoka, W. Takeuchi, M. Fukudome, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: VOL. 103 号: 3 ページ: 33511-33511

    • DOI

      10.1063/1.4815925

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Reduction of Interface States Density Due to Post Oxidation with Formation of AlGeO Layer at Al203/Ge Interface2013

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      ECS Trans.

      巻: VOL. 58 号: 9 ページ: 301-308

    • DOI

      10.1149/05809.0301ecst

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] テ トラエトキシゲルマニウムを用いた極薄Ge酸化膜の形成2013

    • 著者名/発表者名
      吉田鉄兵, 加藤公彦, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」(第18回研究会)

      ページ: 39-42

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Understanding of interface structures and reaction mechanisms induced by Ge or GeO diffusion in Al2O3/Ge structure2013

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett

      巻: 103 号: 8 ページ: 82114-82114

    • DOI

      10.1063/1.4819127

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Interfacial Reaction Mechanisms in Al_2O_3/Ge Structure by Oxygen Radical2013

    • 著者名/発表者名
      Kimihiko Kato, Shigehisa Shibayama, Mitsuo Sakashita, Wakana Takeuchi, Noriyuki Taoka, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 52 号: 4S ページ: 04CA08-04CA08

    • DOI

      10.7567/jjap.52.04ca08

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J06058, KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Effects of Light Exposure during Plasma Process on Electrical Properties of GeO_2/Ge Structures2013

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, Wakana Takeuchi, Kimihiko Kato, Shigehisa Shibayama, Mitsuo Sakashita, Noriyuki Taoka, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 52 号: 1S ページ: 01AC04-01AC04

    • DOI

      10.7567/jjap.52.01ac04

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J06058, KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Pr 酸化膜/Ge構造におけるゲート金属が界面反応に与える影響2013

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」(第18回研究会)

      ページ: 39-42

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] ラジカルプロセスによるAl2O3/Ge界面特性の改善2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」(第17回研究会)

      巻: なし ページ: 125-128

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] In-situ Ga doping of fully strained Ge1-xSnx heteroepitaxial layers grown on Ge(001) substrates2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Shimura, S. Takeuchi, O. Nakatsuka, B. Vincent, F. Gencarelli, T. Clarysse, W. Vandervorst, M. Caymax, R. Loo, A. Jensen, D.H. Petersen, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 520 号: 8 ページ: 3206-3210

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2011.10.084

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] ゲート電極の還元性がGe基板上Pr酸化膜のPr価数に与える影響2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      信学技報

      巻: 112 ページ: 37-42

    • NAID

      110009588302

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Characterization of Damage of Al2O3/Ge Gate Stack Structure Induced with Light Radiation during Plasma Nitridation2012

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, W.Takeuchi, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 51 号: 1S ページ: 01AJ01-01AJ01

    • DOI

      10.1143/jjap.51.01aj01

    • NAID

      210000071710

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Growth of Ge_<1-x>Sn_x heteroepitaxial layers with very high Sn contents on InP(001) substrates2012

    • 著者名/発表者名
      M. Nakamura, Y. Shimura, S. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Thin Solid Films

      巻: 520 号: 8 ページ: 3201-3205

    • DOI

      10.1016/j.tsf.2011.10.153

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Growth and Optical Properties of Ge1-xSnx Alloy Thin Films with a High Sn Content2012

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, M. Nakamura, W. Takeuchi, Y. Shimura, and N. Taoka
    • 雑誌名

      ECS Trans.

      巻: 50 ページ: 897-902

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Al2O3/Ge に対する酸素熱処理が電気的特性および化学結合状態に与える効果2012

    • 著者名/発表者名
      柴山 茂久, 加藤 公彦, 坂下 満男, 竹内 和歌奈, 中塚 理, 財満 鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会 「ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─」(第17回研究会)

      巻: なし ページ: 129-132

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Al2O3/Ge構造への酸素熱処理および酸素ラジカル処理による界面反応機構の解明2012

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      信学技報

      巻: 112 ページ: 27-32

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Effect of Pr Valence State on Interfacial Structure and Electrical Properties of Pr oxide/PrON/Ge Gate Stack Structure2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 50 号: 4S ページ: 04DA17-04DA17

    • DOI

      10.1143/jjap.50.04da17

    • NAID

      210000070253

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J06058, KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Characterization of GeSn materials for future Ge pMOSFETs source/drain stressors2011

    • 著者名/発表者名
      B. Vincent, Y. Shimura, S. Takeuchi, T. Nishimura, G. Eneman, A. Firrincieli, J. Demeulemeester, A. Vantomme, T. Clarysse, O. Nakatsuka, S. Zaima, J. Dekoster, M. Caymax, and R. Loo
    • 雑誌名

      Microelectron. Eng.

      巻: 88 号: 4 ページ: 342-346

    • DOI

      10.1016/j.mee.2010.10.025

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Formation of Ni(Ge_<1-x>Sn_x) Layers with Solid-Phase Reaction in Ni/Ge_<1-x>Sn_x/Ge Systems2011

    • 著者名/発表者名
      T.Nishimura, Y.Shimura, S.Takeuchi, B.Vincent, A.Vantomme, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electronics

      巻: 60 ページ: 46-52

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Characterization of GeSn materials for future Ge pMOSFETs source/drain stressors2011

    • 著者名/発表者名
      B.Vincent, Y.Shimura, S.Takeuchi, T.Nishimura, G.Eneman, A.Firrincieli, J.Demeulemeester, A.Vantomme, T.Clarysse, O.Nakatsuka, S.Zaima, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo
    • 雑誌名

      Microelectron.Eng.

      巻: 88 ページ: 342-346

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Molecular beam deposition of Al2O3 on p-Ge(001)/Ge0.95Sn0.05 heterostructure and impact of a Ge-cap interfacial layer2011

    • 著者名/発表者名
      C. Merckling, X. Sun, Y. Shimura, A. Franquet, B. Vincent, S. Takeuchi, W. Vandervorst, O. Nakatsuka, S. Zaima, R. Loo, and M. Caymax
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett.

      巻: 98 号: 19

    • DOI

      10.1063/1.3589992

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Pr酸化膜/Si構造へのAl導入による界面反応抑制効果2011

    • 著者名/発表者名
      古田和也, 竹内和歌奈, 加藤公彦, 坂下満男, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会研究報告ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)

      ページ: 51-54

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Ge1-xSnx stressors for strained-Ge CMOS2011

    • 著者名/発表者名
      S. Takeuchi, Y. Shimura, T. Nishimura, B. Vincent, G. Eneman, T. Clarysse, A. Vantomme, J. Dekoster, M. Caymax, R. Loo, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electronics

      巻: 60 号: 1 ページ: 53-57

    • DOI

      10.1016/j.sse.2011.01.022

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Pr酸化膜/PrON/Ge構造におけるPrの化学結合状態が電気的特性に及ぼす影響2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会研究報告ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)

      ページ: 99-102

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] GeSn Technology : Impact of Sn on Ge CMOS Applications2011

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, Y. Shimura, S. Takeuchi, B. Vincent, F. Gencarelli, T. Clarysse, J. Demeulemeester, K. Temst, A. Vantomme, M. Caymax, and R. Loo
    • 雑誌名

      ECS Trans

      巻: 41 号: 7 ページ: 231-238

    • DOI

      10.1149/1.3633303

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Control of Strain Relaxation Behavior of Ge_<1-x>Sn_x Layers, Solid-State Electronics2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Shimura, S.Takeuchi, N.Tsutsui, O.Nakatsuka, A.Sakai, S.Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electronics

      巻: 60 ページ: 84-88

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] 電流検出型原子間力顕微鏡を用いた欠陥に起因するPr酸化膜のリーク電流機構の解明2011

    • 著者名/発表者名
      足立正樹, 加藤雄三, 坂下満男, 竹内和歌奈, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会研究報告ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)

      ページ: 123-126

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Crystalline orientation dependence of electrical properties of Mn Germanide/Ge(111) and (001) Schottky contacts2011

    • 著者名/発表者名
      T.Nishimura, O.Nakatsuka, S.Akimoto, W.Takeuchi, S.Zaima
    • 雑誌名

      Microelectron.Eng.

      巻: 88 ページ: 605-609

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Ge_<1-x>Sn_x stressors for strained-Ge CMOS2011

    • 著者名/発表者名
      S.Takeuchi, Y.Shimura, T.Nishimura, B.Vincent, G.Eneman, T.Clarysse, A.Vantomme, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electronics

      巻: 60 ページ: 53-57

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Formation of Ni(Ge1-xSnx) Layers with Solid-Phase Reaction in Ni/Ge1-xSnx/Ge Systems2011

    • 著者名/発表者名
      T. Nishimura, Y. Shimura, S. Takeuchi, B. Vincent, A. Vantomme, J. Dekoster, M. Caymax, R. Loo, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electronics

      巻: 60 号: 1 ページ: 46-52

    • DOI

      10.1016/j.sse.2011.01.025

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Crystalline orientation dependence of electrical properties of Mn Germanide/Ge(1 1 1) and (0 0 1) Schottky contacts2011

    • 著者名/発表者名
      T. Nishimura, O. Nakatsuka, S. Akimoto, W. Takeuchi, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Microelectron. Eng.

      巻: 88 号: 5 ページ: 605-609

    • DOI

      10.1016/j.mee.2010.08.014

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Analysis of Local Leakage Current of Pr Oxide Thin Films with Conductive Atomic Force Microscopy2011

    • 著者名/発表者名
      M.Adachi, M.Sakashita, H.Kondo, W.Takeuchi, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 50

    • NAID

      210000070244

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Control of Interfacial Properties of Al2O3/Ge Gate Stack Structure using Radical Nitridation Technique2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 50 号: 10S ページ: 10PE02-10PE02

    • DOI

      10.1143/jjap.50.10pe02

    • NAID

      210000071422

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J06058, KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Al_2O_3界面層およびラジカル窒化法によるHigh-k/Ge界面構造および電気的特性の制御2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 京極真也, 坂下満男, 竹内和歌奈, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 雑誌名

      特別研究会研究報告ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)

      ページ: 55-58

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Analysis of Local Leakage Current of Pr Oxide Thin Films with Conductive Atomic Force Microscopy2011

    • 著者名/発表者名
      M. Adachi, M. Sakashita, H. Kondo, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 50 号: 4S ページ: 04DA08-04DA08

    • DOI

      10.1143/jjap.50.04da08

    • NAID

      210000070244

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Control of Strain Relaxation Behavior of Ge1-xSnx Layers2011

    • 著者名/発表者名
      Y. Shimura, S. Takeuchi, N. Tsutsui, O. Nakatsuka, A. Sakai, and S. Zaima
    • 雑誌名

      Solid-State Electronics

      巻: 60 号: 1 ページ: 84-88

    • DOI

      10.1016/j.sse.2011.01.023

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Effect of Pr Valence State on Interfacial Structure and Electrical Properties of Pr-oxide/PrON/Ge Gate Stack Structure2011

    • 著者名/発表者名
      K.Kato, M.Sakashita, W.Takeuchi, H.Kondo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 50

    • NAID

      210000070253

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [雑誌論文] Monolithic self-sustaining nanographene sheet grown using plasma-enhanced chemical vapor deposition2010

    • 著者名/発表者名
      W.Takeuchi, K.Takeda, M.Hiramatsu, Y.Tokuda, H.Kano, S.Kimura, 0.Sakata, H.Tajiri, M.Hori
    • 雑誌名

      Physical Status Solidi A 207

      ページ: 139-143

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [雑誌論文] Monolithic self-sustaining nanographene sheet grown using plasma-enhanced chemical vapor deposition2010

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, S. Kimura, O. Sakata, H. Tajiri, M. Hori
    • 雑誌名

      Physical Status Solidi A Vol.207

      ページ: 139-143

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [雑誌論文] Initial growth process of carbon nanowalls synthesized by radical injection plasma-enhanced chemical vapor deposition2009

    • 著者名/発表者名
      S.Kondo, S.Kawai, W.Takeuchi, K.Yamakawa, S.Den, H.Kano, M.Hiramatsu, M.Hori
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics 106

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [雑誌論文] Initial growth process of carbon nanowalls synthesized by radical injection plasma-enhanced chemical vapor deposition2009

    • 著者名/発表者名
      S. Kondo, S. Kawai, W. Takeuchi, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, M. Hiramatsu, M. Hori
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics Vol.106

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [雑誌論文] Electrical Conduction Control of Carbon Nanowalls2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Ura, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hori
    • 雑誌名

      Applied Physics Letter 92

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [雑誌論文] Highly Reliable Growth Process of Carbon Nanowalls using Radical Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Ura, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hori
    • 雑誌名

      Journal of Vacuum Science & Technology B Vol.26

      ページ: 1294-1300

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [雑誌論文] Electrical Conduction Control of Carbon Nanowalls2008

    • 著者名/発表者名
      W.Takeuchi, M.Ura, M.Hiramatsu, Y.Tokuda, H.Kano, M.Hori
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett. Vol.92

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [産業財産権] カーボンナノウォール及びその製造方法2008

    • 発明者名
      堀勝、竹内和歌奈、加納浩之
    • 権利者名
      堀勝、NUエコ・エンジニアリング(株)
    • 産業財産権番号
      2008-081314
    • 出願年月日
      2008-03-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [産業財産権] カーボンナノウォール及びその製造方法

    • 発明者名
      堀勝、竹内和歌奈、加納浩之
    • 権利者名
      堀勝、NUエコ・エンジニアリング(株)
    • 産業財産権番号
      2008-081314
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] In situ phosphorus doping of Ge and Ge1-xSnx epitaxial layers by low-temperature metal-organic chemical vapor deposition2017

    • 著者名/発表者名
      S. Ike, W. Takeuchi, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      10th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      2017-02-13
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] DLTS法による半導体材料へのプラズマエッチングダメージ評価2016

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, クスマンダリ, 坂下満男, 中塚理, 徳田豊, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会 特別シンポジウム「応用物理分野で活躍する女性達 -第4回 プラズマと応用技術編-」(@第63回応用物理学会春季学術講演会)
    • 発表場所
      日本
    • 年月日
      2016-03-19
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] MOCVD法を用いたin situ Pドーピングによる高濃度n型Geエピタキシャル成長2016

    • 著者名/発表者名
      池進一, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Growth of Heavily Doped n-Ge Epitaxial Layer by In situ Phosphorus-doping with Low-temperature Metal-Organic Chemical Vapor Deposition2016

    • 著者名/発表者名
      S. Ike, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      2016 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2016)
    • 発表場所
      Tsukuba, Japan
    • 年月日
      2016-09-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Sn系IV族半導体混晶薄膜の成長と物性評価2016

    • 著者名/発表者名
      志村洋介, 竹内和歌奈, 坂下満男, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM), 有機エレクトロニクス研究会(OME)共催
    • 発表場所
      沖縄県立博物館・美術館
    • 年月日
      2016-04-08
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Characterization of Deep-Level Defects in Ge1-xSnx Epitaxial Layers using Deep Level Transient Spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, Y. Inuzuka, N. Taoka, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 7th International Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials (7th JSPS Silicon Symposium)
    • 発表場所
      Hawaii, USA
    • 年月日
      2016-11-25
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Characterization of Crystallinity of Ge1-xSnx Epitaxial Layers Grown by using Metal-Organic Chemical Vapor Deposition2015

    • 著者名/発表者名
      Y. Inuzuka, S. Ike, T. Asano, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 9th International Conference On Silicon Epitaxy And Heterostructures (ICSI-9)
    • 発表場所
      カナダ
    • 年月日
      2015-05-17
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Ge1-xSnxエピタキシャル層中の欠陥へ及ぼす熱処理の効果2015

    • 著者名/発表者名
      浅野孝典, 柴山茂久, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
    • 発表場所
      日本
    • 年月日
      2015-06-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Ge1&#8722;xSnxエピタキシャル層中における欠陥形成に対する Sn 組成の影響2015

    • 著者名/発表者名
      浅野孝典, 柴山茂久, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      日本
    • 年月日
      2015-09-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Characterization of electrically active defects in epitaxial GeSn/n-Ge junctions2015

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, Y. Inuzuka, T. Asano, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Symposium on EcoTopia Science 2015 (ISETS '15)
    • 発表場所
      日本
    • 年月日
      2015-11-27
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Characterization of Deep-level Defects in Epitaxial Ge1-xSnx/Ge structure2015

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, T. Asano, Y. Inuzuka, M. Sakashita, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS International Core-to-Core Program Workshop Atomically Controlled Processing for Ultra-large Scale Integration
    • 発表場所
      フランス
    • 年月日
      2015-07-09
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Control of Electrically Active Defects in Ge1-xSnx Epitaxial Layers2015

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, S. Shibayama, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      The 9th International Conference On Silicon Epitaxy And Heterostructures (ICSI-9)
    • 発表場所
      カナダ
    • 年月日
      2015-05-17
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] 低界面準位密度を有するGe MOS構造を実現するGe表面の酸化条件2014

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 共催 特別研究会「ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」(第19回)
    • 発表場所
      ニューウェルシティー湯河原
    • 年月日
      2014-01-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Sbドープn型Ge中のSn関連欠陥の挙動2014

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第14回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋大学、日本
    • 年月日
      2014-12-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] 酸化プロセスにおけるゲート絶縁膜/Ge界面の界面準位密度を決定づける物理的要因2014

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 年月日
      2014-03-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 固溶限を超えるSn組成を有するGe1-xSnx層中におけるSn原子の熱安定性2014

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 浅野孝典, 田岡紀之, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 共催 特別研究会「ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」(第19回)
    • 発表場所
      ニューウェルシティー湯河原
    • 年月日
      2014-01-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] MOCVD法により形成した極薄GeO2を用いたAl203/GeOx/Ge構造の電気的特性および構造評価2014

    • 著者名/発表者名
      吉田鉄兵, 加藤公彦, 柴山茂久, 坂下満男, 田岡紀之, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会薄膜・表面物理分科会、シリコンテクノロジー分科会 共催 特別研究会「ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」(第19回)
    • 発表場所
      ニューウェルシティー湯河原
    • 年月日
      2014-01-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Ge単結晶中の格子欠陥へのSnの効果2014

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 年月日
      2014-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Physical Factor of Other Element Incorporation for Tetragonal ZrO2 Formation2013

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, T. Saito, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      NIMS Conference 2013 Structure Control of Atomic / Molecular Thin Films and Their Applciations
    • 発表場所
      Tsukuba, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Defects introduced in germanium substrate by reactive ion etching2013

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Al2O3/Ge interfacial structures by post oxidation technique using oxygen radical2013

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Formation of Tetragonal ZrO2 Thin Film by ALD Method2013

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, T. Saito, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      The 8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8) and the 6th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VI)
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Development of Gel-xSnx and Gel-x-ySixSny Thin Film Materials for Future Electronic Applications2013

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, K. Kato, W. Takeuchi, M. Sakashita, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Conference on THERMEC' 2013
    • 発表場所
      Las Vegas, USA
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] テトラエトキシゲルマニウムによる極薄GeO2膜の形成2013

    • 著者名/発表者名
      吉田鉄兵, 加藤公彦, 柴山茂久, 坂下満男, 田岡紀之, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
    • 発表場所
      機械振興会館
    • 年月日
      2013-06-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Crystalline Phase Control of Pr-Oxide Films by Regulating Oxidant Partial Pressure and Si Diffusion2013

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8) and the 6th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VI)
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 低温固相成長GeへのSn導入による正孔移動度の向上2013

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 田岡紀之, 黒澤昌志, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第13回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2013-12-21
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 酸化剤分圧およびSi拡散の制御によるPr酸化膜結晶構造制御2013

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭一
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
    • 発表場所
      機械振興会館
    • 年月日
      2013-06-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Impacts of AlGeO Formation by Post Thermal Oxidation of Al203/Ge Structure on Interface Properties2013

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8) and the 6th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VI)
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Interface Properties of Al203/Ge MOS Structures with Thin Ge Oxide Interfacial Layer Formed by Pulsed MOCVD2013

    • 著者名/発表者名
      T. Yoshida, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, N. Taoka, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      2013 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES-SCIENCE AND TECHNOLOGY-
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] H2O分圧によるPr価数およびPr酸化膜の結晶構造制御2013

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,田岡紀之,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Pr酸化膜/Ge構造におけるゲート金属が界面反応に与える影響2013

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─(第18回研究会)
    • 発表場所
      湯河原
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Sn-related Group-IV Semiconductor Materials for Electronic and Optoelectronic Applications2013

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, W. Takeuchi, M. Sakashita, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 3rd International Conference on Nanoteck & Expo
    • 発表場所
      Las Vegas, USA
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造に対する熱酸化機構の解明2013

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─(第18回研究会)
    • 発表場所
      湯河原
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Development of Ge_<1-x>Sn_x and Ge_<1-x-y>Si_xSn_y Thin Film Materials for Future Electronic Applications2013

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, N. Taoka, T. Asano, T. Yamaha, M. Kurosawa, K. Kato, W. Takeuchi, M. Sakashita, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Conference on THERMEC'2013
    • 発表場所
      Las Vegas, USA(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Reduction of Interface States Density Due to Post Oxidation with Formation of AlGeO Layer at Al203/Ge Interface2013

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      224th The Electrochemical Society (ECS) Meeting
    • 発表場所
      San Francisco, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al203/Ge構造の後熱酸化によるAlGeO形成にともなう界面特性の改善2013

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      応用物理学会SC東海地区学術講演会2013 (JSAP SCTS2013)
    • 発表場所
      名古屋大学
    • 年月日
      2013-11-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al203/Ge構造における酸化機構の解明と界面反応がその特性に及ぼす影響2013

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
    • 発表場所
      機械振興会館
    • 年月日
      2013-06-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Interaction of Sn atoms with Defects Introduced by Ion Implantation in Ge Substrate2013

    • 著者名/発表者名
      T. Arahira, M. Fukudome, N. Taoka, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2013)
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Interfacial Reactions in Al2O3/Ge Structures2013

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      6th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to Core Program Joint Seminar
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Stabilization for Higher-k Films with Meta-Stable Crystalline Structure2013

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, T. Saito, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS Core-to-Core Program workshop Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Frankfurt (Oder), Germany
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] テトラエトキシゲルマニウムを用いた極薄Ge酸化膜の形成2013

    • 著者名/発表者名
      吉田鉄兵, 加藤公彦, 柴山茂久, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会 ─材料・プロセス・評価の物理─(第18回研究会)
    • 発表場所
      湯河原
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造の熱酸化による界面構造変化と界面特性との相関関係2013

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久,加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,田岡紀之,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 界面反応機構に基づくAl203/Ge界面構造制御2013

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学京田辺キャンパス
    • 年月日
      2013-09-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Interaction between Sn atoms and Defects Introduced by Ion Implantation in Ge Substrate2013

    • 著者名/発表者名
      N. Taoka, M. Fukudome, T. Arahira, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS Core-to-Core Program workshop Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Frankfurt (Oder), Germany
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造へのN-O混合ラジカル処理による界面反応と電気的特性の制御 Si(110)基板上におけるGeおよびGe1-xSnxヘテロエピタキシャル成長2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明 木戸脇翔平,浅野孝典,志村洋介,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造に対する酸素熱処理温度依存性およびその界面反応機構2012

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久,加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Growth and Optical Properties of Ge1-xSnx Alloy Thin Films with a High Sn Content2012

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, M. Nakamura, W. Takeuchi, Y. Shimura, and N. Taoka
    • 学会等名
      The PRiME 2012 Joint International (222nd) ECS Meeting
    • 発表場所
      Honolulu, USA
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effect of N Radical Process on Interfacial and Electrical Properties of Al2O3/Ge Structure2012

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 5th International Conference on PLasma-NanoTechnology & Science (IC-PLANTZ2012)
    • 発表場所
      Inuyama, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Epitaxial Growth and Characterizations of Ge1-xSnx and Ge1-x-ySixSny Thin Layers for Nanoelectronic and Optoelectronic Applications2012

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, N. Taoka, M. Sakashita, W. Takeuchi, S. Zaima
    • 学会等名
      University of Vigo and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar
    • 発表場所
      Vigo, Spain
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Thermal Oxidation Mechanism of Ge through Al2O3 Layer Formed on Ge Substrate2012

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      IUMRS International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM2012)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Growth and Optical Properties of Ge_<1-x>Sn_x Alloy Thin Films with a High Sn Content2012

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, M. Nakamura, W. Takeuchi, Y. Shimura, and N. Taoka
    • 学会等名
      The PRiME 2012 Joint International (222nd) ECS Meeting
    • 発表場所
      Honolulu, USA(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effect of Gate Metal Electrode on Chemical Bonding State in Metal/Pr-oxide/Ge Gate Stack Structure2012

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 6th International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM2012)
    • 発表場所
      Barkeley, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 高Sn組成Ge1-xSnx層へのin situ Sbドーピング2012

    • 著者名/発表者名
      保崎航也,中村茉里香,志村洋介,竹内和歌奈,田岡紀之,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] テトラエトキシゲルマニウムを用いた原子層堆積法によるGe酸化膜の形成2012

    • 著者名/発表者名
      吉田鉄兵,加藤公彦,柴山茂久,坂下満男,竹内和歌奈,田岡紀之,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] ゲート金属の還元性に基づくPr酸化膜/Ge界面反応制御2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,田岡紀之,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] ラジカルプロセスによるAl2O3/Ge界面特性の改善2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第17回研究会)
    • 発表場所
      三島
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 金属電極がPr酸化膜/Ge構造の化学結合状態に与える影響2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造へのN-O混合ラジカル処理による界面反応と電気的特性の制御2012

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 超高Sn組成Ge1-xSnx層の光学特性評価2012

    • 著者名/発表者名
      中村茉里香,志村洋介,竹内和歌菜,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Interfacial Reaction Mechanism in Al2O3/Ge Structure by Oxygen Radical2012

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2012)
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] The effect of light exposure on the electrical properties of GeO2/Ge gate stack2012

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2012)
    • 発表場所
      Kasugai, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effects of Light and Air Exposures on Electrical Properties of GeO2/Ge and Al2O3/Ge Gate Stack Structures2012

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, W. Takeuchi, K. Kato, S. Shibayama, M. Sakashita, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2012)
    • 発表場所
      Naha, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Potential of GeSn Alloys for Application to Si Nanoelectronics2012

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, Y. Shimura, M. Nakamura, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka
    • 学会等名
      2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2012)
    • 発表場所
      Naha, Japan
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] In situ Sb doping in Ge1-xSnx Epitaxial Layers with High Sn Contents2012

    • 著者名/発表者名
      K. Hozaki, M. Nakamura, Y. Shimura, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      IUMRS International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM2012)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Potential of GeSn Alloys for Application to Si Nanoelectronics2012

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, Y. Shimura, M. Nakamura, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka
    • 学会等名
      2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2012)
    • 発表場所
      Naha, Japan(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Optical Properties of Ge1-xSnx Epitaxial Layers with Very High Sn Contents2012

    • 著者名/発表者名
      M. Nakamura, Y. Shimura, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 6th International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM2012)
    • 発表場所
      Barkeley, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] High Mobility Poly-GeSn Layer Formed by Low Temperature Solid Phase Crystallization2012

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, N. Taoka, M. Kurosawa, M. Fukutome, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2012)
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Material properties and applications of Ge1-xSnx alloys for Ge Nanoelectronics2012

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, Y. Shimura, W. Takeuchi, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 6th International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM2012)
    • 発表場所
      Barkeley, USA
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Geに対する酸素熱処理が電気的特性および化学結合状態に与える効果2012

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久,加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第17回研究会)
    • 発表場所
      三島
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 低温固相結晶化による高移動度poly-GeSn層の形成2012

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈,田岡紀之,黒澤昌志,福留誉司,坂下満男,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Ge単結晶中の格子欠陥への熱処理雰囲気および他元素導入の影響2012

    • 著者名/発表者名
      福留誉司,竹内和歌奈,田岡紀之,坂下満男,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Importance of Si Bandbending at Zero Bias Condition for Schottky Barrier Height Control at Metal/Si Interfaces with Ultra-thin Al2O3 Layer2012

    • 著者名/発表者名
      H. Matsushita, W. Takeuchi, M. Sakashita, N. Taoka, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      IUMRS International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM2012)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Material properties and applications of Ge_<1-x>Sn_x alloys for Ge Nanoelectronics2012

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, Y. Shimura, W. Takeuchi, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 6th International SiGe Technology and Device Meeting (ISTDM2012), No. 12.1
    • 発表場所
      Barkeley, USA(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Characterization of Damages of Al_2O_3/Ge Gate Stacks Structure Induced with Light Radiation during Plasma Nitridation2011

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, W.Takeuchi, K.Kato, M.Sakashita, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      The 3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Application for Nitrides and Nanomaterials (ISPLasma2011)
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al_2O_3界面層およびラジカル窒化法によるHigh-k/Ge界面構造2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 京極真也, 坂下満男, 竹内和歌奈, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 電流検出型原子間力顕微鏡を用いた欠陥に起因するPr酸化膜のリーク電流機構の解明2011

    • 著者名/発表者名
      足立正樹, 加藤雄三, 坂下満男, 竹内和歌奈, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Suppressive Effect of Interface Reaction and Water Absorption by Al Incorporation into Pr-oxide Film2011

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, K. Furuta, K. Kato, M. Sakashita, H. Kondo, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 15th International Conference on Thin Films (ICTF-15)
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Interfacial Properties of Al_2O_3/Ge Gate Stack Structure using Radical Nitridation Technique2011

    • 著者名/発表者名
      K.Kato, S.Kyogoku, M.Sakashita, W.Takeuchi, H.Kondo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      2011 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices : Science and Technology
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Pr酸化膜/PrON/Ge構造におけるPrの化学結合状態が電気的特性に及ぼす影響2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] InP基板上への超高Sn組成Ge_<1-x>Sn_xヘテロエピタキシャル層成長2011

    • 著者名/発表者名
      中村茉里香, 志村洋介, 竹内正太郎, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第58回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 次世代ナノCMOSにおける物性制御と不純物2011

    • 著者名/発表者名
      財満鎭明, 中塚理, 竹内正太郎
    • 学会等名
      第58回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effect of Chemical Bonding State on Electrical Properties of Al2O3/Ge Structure2011

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, M Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 15th International Conference on Thin Films (ICTF-15)
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] ラジカル窒化法によるAl2O3/Ge構造の界面特性改善2011

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦,坂下満男,竹内和歌奈,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Surface and Interfacial Structure by Radical Nitridation Technique for Ge MOS Transistors2011

    • 著者名/発表者名
      K.Kato, H.Kondo, M.Sakashita, W.Takeuchi, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      The 4th International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science
    • 発表場所
      Gifu, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Epitaxial Growth of Ge1-xSnx for Strained Ge CMOS Devices2011

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, Y. Shimura, S. Takeuchi, and O. Nakatsuka
    • 学会等名
      THERMEC' 2011 (International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials
    • 発表場所
      Quebec, Canada
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Influence of Light Radiation on Electrical Properties of Al_2O_3/Ge and GeO_2/Ge Gate Stacks in Nitrogen Plasma2011

    • 著者名/発表者名
      Kusumandari, W.Takeuchi, K.Kato, M.Sakashita, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      2011 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices : Science and Technology
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 熱処理によるAl_2O_3/Ge界面構造制御2011

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第58回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] GeSn Technology: Impact of Sn on Ge CMOS Applications2011

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, Y. Shimura, S. Takeuchi, B. Vincent, F. Gencarelli, T. Clarysse, J. Demeulemeester, K. Temst, A. Vantomme, M. Caymax, and R. Loo
    • 学会等名
      220th Electro Chemical Society Meeting
    • 発表場所
      Boston, USA
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Pr酸化膜/Si構造へのAl導入による界面反応抑制効果2011

    • 著者名/発表者名
      古田和也, 竹内和歌奈, 加藤公彦, 坂下満男, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Improvement of Al2O3 Interfacial Properties by O2 Annealing2011

    • 著者名/発表者名
      S. Shibayama, K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] In-situ Ga Doping to Fully Strained Ge1-xSnx Heteroepitaxial Layers Grown on Ge(001) Substrates2011

    • 著者名/発表者名
      Y. Shimura, S. Takeuchi, O. Nakatsuka, B. Vincent, F. Gencarelli, T. Clarysse, W. Vandervorst, M. Caymax, R. Loo, and S. Zaima
    • 学会等名
      7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] GeSn Technology : Impact of Sn on Ge CMOS Applications2011

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, Y. Shimura, S. Takeuchi, B. Vincent, F. Gencarelli, T. Clarysse, J. Demeulemeester, K. Temst, A. Vantomme, M. Caymax, and R. Loo
    • 学会等名
      220th Electro Chemical Society Meeting
    • 発表場所
      Boston, USA(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al_2O_3/Ge及びGeO_2/Geゲートスタック構造における窒素プラズマ中の光照射損傷のPAPE法による分析2011

    • 著者名/発表者名
      クスマンダリ, 竹内和歌奈, 加藤公彦, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-(第16回研究会)
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Growth of Ge1-xSnx heteroepitaxial layers with very high Sn contents on InP(001) substrates2011

    • 著者名/発表者名
      M. Nakamura, Y. Shimura, S. Takeuchi , O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures
    • 発表場所
      Leuven, Belgium
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Ni(Ge_<1-y>Sn_y)/Ge_<1-x>Sn_x/Geコンタクトの形成と結晶構造評価2010

    • 著者名/発表者名
      西村剛志, 中塚理, 志村洋介, 竹内正太郎, Benjamin Vincent, Andre Vantomme, Johan Dekoster, Matty Caymax, Roger Loo, 財満鎭明
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Ge_<1-x>Sn_xソース/ドレインストレッサーのためのNi(Ge_<1-y>Sn_y)/Ge_<1-x>Sn_x/Geコンタクト形成2010

    • 著者名/発表者名
      西村剛志, 中塚理, 志村洋介, 竹内正太郎, Benjamin Vincent, Andre Vantomme, Johan Dekoster, Matty Caymax, Roger Loo, 財満鎭明
    • 学会等名
      第10回日本表面科学会中部支部学術講演会
    • 発表場所
      名古屋工業大学(愛知県)
    • 年月日
      2010-12-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Material Assessment for uni-axial strained Ge pMOS-1 : Characterization of GeSn(B) materials2010

    • 著者名/発表者名
      B.Vincent, Y.Shimura, S.Takeuchi, T.Nishimura, J.Demeulemeester, G.Eneman, T.Clarysse, W.Vandervorst, A.Vantomme, O.Nakatsuka, S.Zaima, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo
    • 学会等名
      International Workshop of GeSn Developments and Future Applications
    • 発表場所
      Heverlee-Leuven, Belgium
    • 年月日
      2010-05-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Synchrotron X-ray diffraction anlysis of carbon nanowalls synthesized by radical-injection plasma-enhanced chemical vapor deposition system2010

    • 著者名/発表者名
      H.Kondo, W.Takeuchi, S.Kondo, K.Yamakawa, M.Hiramatsu, M.Sekine, M.Hori
    • 学会等名
      The 3rd International Conference on PLAsma-Nano Technology & Science (IC-PLANTS2010)
    • 発表場所
      名城大学(愛知県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Strain Relaxation Behavior of Ge_<1-x>Sn_x Layers : Toward Tensile-Strained Ge Layers with Strain Value over 1%2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Shimura, S.Takeuchi, N.Tsutsui, O.Nakatsuka, A.Sakai, S.Zaima
    • 学会等名
      5th International SiGe Technology Device Meeting 2010 (ISTDM2010)
    • 発表場所
      Stockholm, Sweden
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Fabrication of carbon nanomaterials synthesized by plasma enhanced chemical vapor deposition for solar cell applications2010

    • 著者名/発表者名
      T.Kino, S.Kondo, W.Takeuchi, H.Kondo, K.Ishikawa, M.Sekine, M.Hori
    • 学会等名
      2^<nd> International Symposium on Advance Plasma Science and its Application (ISPlasma2010)
    • 発表場所
      名城大学(愛知県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Growth and Characterization of GeSn and Tensile-Strained Ge Layers for High Mobility Channels of CMOS Devices2010

    • 著者名/発表者名
      O.Nakatsuka, Y.Shimura, S.Takeuchi, S.Zaima
    • 学会等名
      The 7th Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and Processing
    • 発表場所
      Cairns, Australia
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effects of Al Incorporation into Pr-oxides Formed by Atomic Layer Deposition2010

    • 著者名/発表者名
      K.Furuta, W.Takeuchi, M.Sakashita, K.Kato, H.Kondo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2010)
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Strain Relaxation Behavior of Ge_<1-x>Sn_x Layers for Tensile Strained Ge Layers2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Shimura, S.Takeuchi, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      218th ECS Meeting
    • 発表場所
      Las Vegas, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Initial Nucleation in Carbon Nnowalls Growth on Si and SiO2 Surface2010

    • 著者名/発表者名
      H.Mikuni, T.Kanda, S.Kondo, W.Takeuchi, K.Yamakawa, K.Takeda, K.Ishikawa, H.Kondo, M.Hiramastu, M.Sekine, M.Hori
    • 学会等名
      2^<nd> International Symposium on Advance Plasma Science and its Application (ISPlasma2010)
    • 発表場所
      名城大学(愛知県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Assessment of Ge_<1-x>Sn_x Alloys for Strained Ge CMOS Devices2010

    • 著者名/発表者名
      S. Takeuchi, Y. Shimura, T. Nishimura, B. Vincent, G. Eneman, T. Clarysse, J. Demeulemeester, K. Temst, A. Vantomme, J. Dekoster, M. Caymax, R. Loo, O. Nakatsuka, A. Sakai, and S. Zaima
    • 学会等名
      218th ECS Meeting
    • 発表場所
      Las Vegas, USA(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] シンクロトロンX線回折によるカーボンナノウオールの結晶構造解析2010

    • 著者名/発表者名
      近藤博基, 竹内和歌奈, 坂田修身, 田尻寛男, 木村滋, 平松美根男, 堀勝
    • 学会等名
      2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学(神奈川県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Formation of Ni(Ge_<1-x>Sn_x) Layers with Solid-Phase Reaction in Ni/Ge_<1-x>Sn_x/Ge Systems2010

    • 著者名/発表者名
      T.Nishimura, Y.Shimura, S.Takeuchi, B.Vincent, A.Vantomme, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      5th International SiGe Technology Device Meeting 2010 (ISTDM2010)
    • 発表場所
      Stockholm, Sweden
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] (Si)GeSn requirements for optical device applications and solar cells2010

    • 著者名/発表者名
      S.Takeuchi, B.Vincent, K.Temst, A.Vantomme, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      International Workshop of GeSn Developments and Future Applications
    • 発表場所
      Heverlee-Leuven, Belgium
    • 年月日
      2010-05-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 歪Ge_<1-x>Sn_xへの高濃度不純物ドーピング2010

    • 著者名/発表者名
      志村洋介, 竹内正太郎, Benjamin Vincent, Geert Eneman, Trudo Clarysse, Andre Vantomme, Johan Dekoster, Matty Caymax, Roger Loo, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Bi-axially strained Ge grown on GeSn SRBs2010

    • 著者名/発表者名
      O.Nakatsuka, S.Takeuchi, Y.Shimura, A.Sakai, S.Zaima
    • 学会等名
      International Workshop of GeSn Developments and Future Applications
    • 発表場所
      Heverlee-Leuven, Belgium
    • 年月日
      2010-05-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Tensile-Strained Ge and Ge_<1-x>Sn_x Layers for High-Mobility Channels in Future CMOS Devices2010

    • 著者名/発表者名
      S.Zaima, O.Nakatsuka, Y.Shimura, S.Takeuchi
    • 学会等名
      International Conference on Solid-state and Integrated Circuit Technology
    • 発表場所
      Shanghai, China(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Ge_<1-x>Sn_x stressors for strained-Ge CMOS2010

    • 著者名/発表者名
      S.Takeuchi, Y.Shimura, T.Nishimura, B.Vincent, G.Eneman, T.Clarysse, A.Vantomme, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      5th International SiGe Technology Device Meeting 2010 (ISTDM2010)
    • 発表場所
      Stockholm, Sweden(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] ラジカル窒化がGe-MOS特性に与える影響2010

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, クスマンダリ, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 原子層堆積方により作製したPrAlOの結晶構造および電気的特性2010

    • 著者名/発表者名
      古田和也, 竹内和歌奈, 坂下満男, 近藤博基, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      シリコンテクノロジー分科会・第125回シリコンテクノロジー研究会
    • 発表場所
      東京大学(東京都)
    • 年月日
      2010-06-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] GeSn : future applications and strategy2010

    • 著者名/発表者名
      R.Loo, M.Caymax, B.Vincent, J.Dekoster, S.Takeuchi, O.Nakatsuka, S.Zaima, K.Temst, A.Vantomme
    • 学会等名
      International Workshop of GeSn Developments and Future Applications
    • 発表場所
      Heverlee-Leuven, Belgium
    • 年月日
      2010-05-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Analysis of Local Leakage Current of Pr Oxide Thin Films with Conductive Atomic Force Microscopy2010

    • 著者名/発表者名
      M.Adachi, M.Sakashita, H.Kondo, W.Takeuchi, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2010)
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Study of Ge Surface Passivation using Radical Nitridation Technique for Ge Channel MOS Transistors2010

    • 著者名/発表者名
      K.Kato, H.Kondo, M.Sakashita, W.Takeuchi, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      The 1st Korea-Japan Symposium on Surface Technology
    • 発表場所
      Incheon, Korea
    • 年月日
      2010-11-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Material Assessment for uni-axial strained Ge pMOS-2 : Formation of Ni(GeSn) Layers with Solid-Phase Reactor2010

    • 著者名/発表者名
      T.Nishimura, Y.Shimura, S.Takeuchi, B.Vincent, A.Vantomme, J.Dekoster, M.Caymax, R.Loo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      International Workshop of GeSn Developments and Future Applications
    • 発表場所
      Heverlee-Leuven, Belgium
    • 年月日
      2010-05-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Tensile-Strained Ge and Ge_<1-x.>Sn_x Layers for High-Mobility Channels in Future CMOS Devices2010

    • 著者名/発表者名
      S. Zaima, O. Nakatsuka, Y. Shimura, S. Takeuchi
    • 学会等名
      International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology
    • 発表場所
      Shanghai, China(招待講演)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effect of Valence State of Pr on Interfacial Structure and Electrical Properties of Pr-oxide/PrON/Ge Gate Stack Structure2010

    • 著者名/発表者名
      K.Kato, M.Sakashita, W.Takeuchi, H.Kondo, O.Nakatsuka, S.Zaima
    • 学会等名
      2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2010)
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Pr酸化膜/Ge構造の界面特性に及ぼすPr酸化膜の価数の影響2010

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 竹内和歌奈, 近藤博基, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] カーボンナノウオールの電気特性評価(I)2009

    • 著者名/発表者名
      下枝弘尚、竹内和歌奈、徳田豊、平松美根男、加納浩之、関根誠、堀勝
    • 学会等名
      2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      筑波大学、茨城県
    • 年月日
      2009-03-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Synthesis of Carbon Nanowalls and Their Applications to Electrical Devices2009

    • 著者名/発表者名
      M. Kashihara, W. Takeuchi, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hiramatsu, M. Hori
    • 学会等名
      The 8^<th> International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics Joint Workshop with Plasma Application Monodzukuri
    • 発表場所
      Techno Plaza, Gifu
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Fabrication of Single Wall Carbon Nanowall Employing Electron Beam Excited Plasma2009

    • 著者名/発表者名
      H. Mikuni, W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, H. Kano, Y. Tokuda, M. Hori
    • 学会等名
      The 8^<th> International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics Joint Workshop with Plasma Application Monodzukuri
    • 発表場所
      Techno Plaza, Gifu
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] a : C-Hを用いたカーボン系太陽電池作製に関する研究2009

    • 著者名/発表者名
      木野徳重、竹内和歌奈、石川健治、近藤博基、加納裕之、関根誠、堀勝
    • 学会等名
      第3回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
    • 発表場所
      国立中央青少年交流の家(静岡県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Fabrication of Bridge-shaped Carbon Nanowall on Trench Substrates using Electron Beam Excited Plasma Enhanced CVD2009

    • 著者名/発表者名
      H. Mikuni, W. Takeuchi, M. Hiramatsu, H. Kano, Y. Tokuda, K. Takeda, M. Hori
    • 学会等名
      1 st International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications (ISPlasma 2009)
    • 発表場所
      Nagoya University, Nagoya
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 新規カーボンナノ構造体カーボンナノウォールと種々の基板界面の構造解析2009

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈、堀勝、木村滋、坂修身、田尻寛男、竹田圭吾、高成剛(招待講演)
    • 学会等名
      重点ナノテクノロジー支援課題研究成果報告会
    • 発表場所
      SPring-8放射光普及棟大講堂、兵庫県佐用郡
    • 年月日
      2009-03-12
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] カーボンナノウォールの構造及び電子状態におけるフッ素不純物の影響2009

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈、柏原雅好、三国裕之、池本夕佳、森脇太郎、加藤有香子、室隆桂之、木下豊彦、木村滋、平松美根男、加納浩之、徳田豊、関根誠、堀勝
    • 学会等名
      2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      筑波大学、茨城県
    • 年月日
      2009-03-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Electronic Structure of Carbon Nanowalls using Resonant Soft-X-Ray Emission Spectroscopy2009

    • 著者名/発表者名
      W.Takeuchi, M.Hiramatsu, Y.Tokuda, H.Kano, T.Kinoshita, Y.Kato, T.Muro, S.Kimura, M.Hori
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      仙台国際ホテル(宮城県)
    • 年月日
      2009-10-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Fabrication of Single Carbon Nanowall Using Electron Beam Excited Plasma Enhanced CVD2009

    • 著者名/発表者名
      H. Mikuni, W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, H. Kano, Y. Tokuda, M. Hori
    • 学会等名
      The 2 nd International Conference on Plasma-Nano Technology & Science
    • 発表場所
      IB Building, Nagoya University, Nagoya
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Effects of initial nuclei on carbon nanowalls density2009

    • 著者名/発表者名
      三國裕之, 近藤真悟, 竹内和歌奈, 山川晃司, 竹田圭吾, 近藤博基, 平松美根男, 関根誠, 堀勝
    • 学会等名
      第19回日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      横浜市開港記念会館(神奈川県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Growth of Carbon Nanowalls of High Graphitization Employing PECVD2009

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Hiramatsu, H. Kano, Y. Tokuda, M. Hori
    • 学会等名
      1 st International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications (ISPlasma 2009)
    • 発表場所
      Nagoya University, Nagoya
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] カーボンナノウォール成長における基板組成効果2009

    • 著者名/発表者名
      三国裕之、竹内和歌奈、山川晃司、竹田圭吾、平松美根男、加納浩之、関根誠、堀勝
    • 学会等名
      2009年秋季 第70回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      富山大学(富山県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 高輝度放射光を用いたカーボンナノウォールのバンド構造解析2009

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 木下豊彦, 加藤有香子, 室隆桂之, 池本夕佳, 森脇太郎, 木村滋, 平松美根男, 加納浩之, 徳田豊, 堀勝
    • 学会等名
      2009年秋季 第70回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      富山大学(富山県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 先進プラズマプロセスによるグラフェンマテリアルの開発2009

    • 著者名/発表者名
      堀勝、竹内和歌奈、近藤博基、平松美根男
    • 学会等名
      平成21年度日本真空協会12月研究例会
    • 発表場所
      名古屋大学(愛知県)((招待講演))
    • 年月日
      2009-12-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 新規カーボンナノ構造体カーボンナノウォールと種々の基板界面の構造解析2009

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 堀勝, 木村滋, 坂田修身, 田尻寛男、竹田圭吾, 高島成剛
    • 学会等名
      重点ナノテクノロジー支援課題研究成果報告会
    • 発表場所
      SPring-8放射光普及棟大講堂(兵庫県)
    • 年月日
      2009-03-12
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Fabrication of Bridge-shaped Carbon Nanowall by Using Patterned Template2009

    • 著者名/発表者名
      三國裕之、竹内和歌奈、平松美根男、加納浩之、徳田豊、竹田圭吾、堀勝
    • 学会等名
      プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会
    • 発表場所
      古屋大学豊田講堂・シンポジオン、名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 先進プラズマプロセスによるグラフェンマテリアルの開発2009

    • 著者名/発表者名
      堀勝, 竹内和歌奈, 近藤博基, 平松美根男
    • 学会等名
      平成21年度日本真空協会12月研究例会
    • 発表場所
      名古屋大学(愛知県)
    • 年月日
      2009-12-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 低次元カーボン系チャネルエンジニアリング, 科学研究費補助金特定領域研究「シリコンナのエレクトロニクスの新展開」2009

    • 著者名/発表者名
      堀勝、竹田圭吾、竹内和歌奈、近藤真悟、柏原雅好、三国裕之、下枝弘尚
    • 学会等名
      ポストスケーリングテクノロジー第5回全体会議
    • 発表場所
      名古屋大学(愛知県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 単一橋架けカーボンナノウォールの作製制御2009

    • 著者名/発表者名
      三國裕之、竹内和歌奈、竹田圭吾、平松美根男、加納浩之、徳田豊、堀勝
    • 学会等名
      2009年春季第56回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      筑波大学、茨城県
    • 年月日
      2009-03-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 低次元カーボン系チャネルエンジニアリング2009

    • 著者名/発表者名
      堀勝、竹田圭吾、竹内和歌奈、近藤真悟、柏原雅好、三国裕之、下枝弘尚(招待講演)
    • 学会等名
      科学研究費補助金特定領域研究「シリコンナのエレクトロニクスの新展開」-ポストスケーリングテクノロジー第5回全体会議
    • 発表場所
      Nagoya University, Nagoya
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Semiconductor Behavior of Carbon Nanowalls Grown by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition2009

    • 著者名/発表者名
      W.Takeuchi, M.Hiramatsu, Y.Tokuda, H.Kano, M.Hori
    • 学会等名
      New Diamond and Nano Carbons Conference 2009
    • 発表場所
      Grand Traverse Resort And Spa, Michigan, USA
    • 年月日
      2009-06-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Effect of Oxygen Gas Addition to C_2F_6/H_2 Plasma on the Structure of Carbon Nanowalls2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hori
    • 学会等名
      4 th International Nanotechnology Conference on Communication and Cooperation
    • 発表場所
      Hitotsubashi Memorial Hall, Tokyo
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Structure and Electrical Properties of Carbon Nanowalls : Effect of N_2/O_2 Addition to Fluorocarbon Plasma CVD with H Radical Injection2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hori
    • 学会等名
      2008 International Conference on Solid State Device and Materials
    • 発表場所
      Tsukuba International Congress Center, Tsukuba
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Structure of Carbon Nanowalls Synthesized by Fluorocarbon Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      M. Hori, W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano (Invited)
    • 学会等名
      ICPP 2008 Satellite Meeting on Plasma Physics and Advanced Applications in ASO
    • 発表場所
      阿蘇憩いの村、阿蘇
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of the Structures and the Electrical Conduction of Carbon Nanowalls using Additional Gas2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi
    • 学会等名
      先進プラズマナノ科学ワークショップ
    • 発表場所
      名古屋大学(愛知県)
    • 年月日
      2008-05-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] On the Growth Mechanism of Carbon Nanowalls using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      M. Hori, W. Takeuchi, S. Kondo, M. Hiramatsu (Invited)
    • 学会等名
      11 th International Conference on Plasma Surface Engineering
    • 発表場所
      Kongresshaus (Congress Center), Garmisch-Partenkirchen, Germany
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] カーボンナノウォールデバイス応用に向けたグラファイト構造制御2008

    • 著者名/発表者名
      竹内 和歌奈
    • 学会等名
      科学研究費補助金特定領域研究「シリコンナノエレクトロニクスの新展開」-ポストスケーリングテクノロジー-第二回成果報告会
    • 発表場所
      東京都
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of the Structures and the Electrical Conduction of Carbon Nanowalls using Additional Gas2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi (Invited)
    • 学会等名
      先進プラズマナノ科学ワークショップ
    • 発表場所
      名古屋大学、名古屋
    • 年月日
      2008-05-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] On the Growth Mechanism of Carbon Nanowalls using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      M.Hori, W.Takeuchi, S.Kondo, M.Hiramatsu (Invited)
    • 学会等名
      11th International Conference on Plasma Surface Engineering
    • 発表場所
      Kongresshaus (Congress Center), Garmisch-Partenkirchen, Germany
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 酸素添加ガスによるカーボンナノウォールの構造制御II2008

    • 著者名/発表者名
      竹内 和歌奈
    • 学会等名
      2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      千葉県
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] On the Growth Mechanism of Carbon Nanowalls using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      M. Hori, W. Takeuchi, S. Kondo, M. Hiramatsu
    • 学会等名
      11th International Conference on Plasma Surface Engineering
    • 発表場所
      Kongresshaus(Congress Center) (ドイツ)
    • 年月日
      2008-09-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Structures and Electrical Properties of Carbon Nanowalls Using Plasma Enhanced CVD Employing N_2/O_2 Addition to C_2F_6/H_2 Gases2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hori
    • 学会等名
      AVS 55^<th> International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      Hynes Convention Center, Boston, MA, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Structural Control of Carbon Nanowalls Using Oxygen Gas Addition to C_2F_6/H_2 Plasma2008

    • 著者名/発表者名
      Wakana Takeuchi
    • 学会等名
      The 1st International Conference on Plasma-nanotechnology & Science
    • 発表場所
      Nagoya, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 単一橋架けカーボンナノウォールの作製D2008

    • 著者名/発表者名
      三國裕之, 竹内和歌奈, 平松美根男, 加納浩之, 徳田豊, 堀勝
    • 学会等名
      第2回プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール
    • 発表場所
      マキノパークホテル&セミナーハウス、滋賀
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Graphene Sheet Structure Using Oxygen Gas Addition to C_2F_6/H_2 Plasma2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M. Hori
    • 学会等名
      7 th Korea-Japan Workshop on Plasma Technology
    • 発表場所
      Sungkyunkwan University, Suwon, Korea
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] カーボンナノウォール/Si接合における電気特性評価2008

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 徳田豊, 加納浩之, 平松美根男, 堀勝
    • 学会等名
      2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      中部大学、愛知県
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Structural Control of N-doped Carbon Nanowalls using O_2 Effect2008

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, M, Hori
    • 学会等名
      2 nd International Conference on New Diamond and Nano Carbons
    • 発表場所
      Grand Hotel, Taipei, Taiwan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] ラジカル注入プラズマCVD法で作製したカーボンナノウォール構造における酸素ガス添加の効果2008

    • 著者名/発表者名
      竹内 和歌奈
    • 学会等名
      第25回プラズマプロセシング研究会
    • 発表場所
      山口県
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Structure of Carbon Nanowalls Synthesized by Fluorocarbon Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition2008

    • 著者名/発表者名
      M. Hori, W. Takeuchi, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano
    • 学会等名
      ICPP2008 Satellite Meeting on Plasma Physics and Advanced Applications in ASO
    • 発表場所
      阿蘇憩いの村(熊本県)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Structures of Carbon Nanowalls in Plasma Enhanced CVD2007

    • 著者名/発表者名
      Wakana Takeuchi
    • 学会等名
      60th Annual Gaseous Electronics Conference
    • 発表場所
      Arlington, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] The Structure and Electric Conduction of Carbon Nanowalls using Radical Injection Plasma Enhanced CVD2007

    • 著者名/発表者名
      Wakana Takeuchi
    • 学会等名
      18th International Symposium on Plasma Chemistry
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Growth and Properties of Carbon Nono Walls (CNW) Using Radical Injection PECVD2007

    • 著者名/発表者名
      Wakana Takeuchi
    • 学会等名
      5th International Symposium on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & lst International Symposium on Flexible Electronics Technology
    • 発表場所
      Suwon, Korea
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] 酸素添加ガスによるカーボンナノウォールの構造制御2007

    • 著者名/発表者名
      竹内 和歌奈
    • 学会等名
      2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      札幌市
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Effect of Doped Carbon Nanowalls by Nitrogen Addition2007

    • 著者名/発表者名
      竹内 和歌奈
    • 学会等名
      第20回プラズマ材料科学シンポジウム
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Control of Electric Conduction of Carbon Nanowalls2007

    • 著者名/発表者名
      Wakana Takeuchi
    • 学会等名
      2007 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Tsukuba, Japan
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] Evaluation and Control of Electric Conduction of Carbon Nanowalls Fabricated by Plasma-Enhanced CVD2007

    • 著者名/発表者名
      Wakana Takeuchi
    • 学会等名
      American Vacuum Society 54th International Symposium & Exhibition
    • 発表場所
      Seattle, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18063011
  • [学会発表] InP基板上への超高Sn組成Ge1-xSnx層のヘテロエピタキシャル成長

    • 著者名/発表者名
      中村茉里香, 志村洋介, 竹内正太郎, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第11回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Behaviors of tin related defects in Sb doped n-type germanium

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, N. Taoka, M. Sakashita, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      8th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Japan
    • 年月日
      2015-01-29 – 2015-01-30
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Ge1-xSnxエピタキシャル層中の電気的活性な欠陥の挙動

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 浅野孝典, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス、日本
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] ゲート電極の還元性がGe基板上Pr酸化膜のPr価数に与える影響

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Al2O3/Geゲートスタック構造に対する酸素熱処理の化学結合状態および界面特性に与える効果

    • 著者名/発表者名
      Al2O3/Geゲートスタック構造に対する酸素熱処理の化学結合状態および界面特性に与える効果 柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第11回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Ge結晶中の格子欠陥への水素及びSn導入の影響

    • 著者名/発表者名
      福留誉司、竹内和歌奈、坂下満男、田岡紀之、中塚理、財満鎭明
    • 学会等名
      第12回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      東京
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Transformation of Defects Structure in Germanium by Sn Ion Implantation

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, N. Taoka, M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      International Union of Materials Research Societies - International Conference in Asia 2014 (IUMRS-ICA 2014)
    • 発表場所
      Fukuoka,Japan
    • 年月日
      2015-08-24 – 2015-08-30
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Electrically-Active Defects in Ge1-xSnx Epitaxtial Layer

    • 著者名/発表者名
      W. Takeuchi, T. Asano, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      ISPlasma 2015 / IC-PLANTS 2015
    • 発表場所
      Japan
    • 年月日
      2015-03-26 – 2015-03-31
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Pr酸化膜/Ge構造におけるPrの価数制御に基づく界面反応制御

    • 著者名/発表者名
      加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Electrically Active Defects in Ge1-xSnx Epitaxial Layers

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, S. Shibayama, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      The 9th International Conference On Silicon Epitaxy And Heterostructures (ICSI-9)
    • 発表場所
      Canada
    • 年月日
      2015-05-17 – 2015-05-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Evaluation of Light Induced Damages in Plasma Process on Electrical Properties of Al2O3/Ge Gate Stack Structure

    • 著者名/発表者名
      Evaluation of Light Induced Damages in Plasma Process on Electrical Properties of Al2O3/Ge Gate Stack Structure クスマンダリ,竹内和歌奈,加藤公彦,柴山茂久,坂下満男,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Effects of Light Exposure during Plasma Process on Electrical Properties of Au/Al2O3/Ge MOS Capacitor

    • 著者名/発表者名
      Evaluation of Light Induced Damages in Plasma Process on Electrical Properties of Al2O3/Ge Gate Stack Structure クスマンダリ,竹内和歌奈,加藤公彦,柴山茂久,坂下満男,中塚理,財満鎭明
    • 学会等名
      第11回日本表面科学会中部支部 学術講演会
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] n型Ge単結晶中におけるSnと空孔関連欠陥との相互作用

    • 著者名/発表者名
      竹内和歌奈, 田岡紀之, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会(SDM),電子デバイス研究会(ED),電子部品・材料研究会(CPM)共催
    • 発表場所
      名古屋大学、日本
    • 年月日
      2014-05-28 – 2014-05-29
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Ge1-xSnxエピタキシャル成長における水素サーファクタント導入の効果

    • 著者名/発表者名
      浅野孝典, 田岡紀之, 保崎航也, 竹内和歌奈, 坂下満男, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      北海道大学、日本
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Al2O3/Ge構造への酸素熱処理および酸素ラジカル処理による界面反応機構の解明

    • 著者名/発表者名
      柴山茂久, 加藤公彦, 坂下満男, 竹内和歌奈, 田岡紀之, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
    • 発表場所
      名古屋
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Control of Interfacial and Electrical Properties of Metal/Pr-oxide/Ge Gate Stack Structures

    • 著者名/発表者名
      K. Kato, M. Sakashita, W. Takeuchi, N. Taoka, O. Nakatsuka, S. Zaima
    • 学会等名
      CNSE and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar
    • 発表場所
      Albany, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] Impact of Hydrogen Surfactant Epitaxy and Annealing on Crystallinity of Epitaxial Ge1-xSnx Layers

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, N. Taoka, K. Hozaki, W. Takeuchi, M. Sakashita, O. Nakatsuka and S. Zaima
    • 学会等名
      2014 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2014)
    • 発表場所
      Tsukuba, Japan
    • 年月日
      2014-09-08 – 2014-09-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Characterization of Crystallinity of Ge1-xSnx Epitaxial Layers Grown by using Metal-Organic Chemical Vapor Deposition

    • 著者名/発表者名
      Y. Inuzuka, S. Ike, T. Asano, W. Takeuchi, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      The 9th International Conference On Silicon Epitaxy And Heterostructures (ICSI-9)
    • 発表場所
      Canada
    • 年月日
      2015-05-17 – 2015-05-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] Hydrogen Surfactant Epitaxy of Ge1-xSnx Layers

    • 著者名/発表者名
      T. Asano, N. Taoka, K. Hozaki, W. Takeuchi,M. Sakashita, O. Nakatsuka, and S. Zaima
    • 学会等名
      JSPS Core-to-Core Program Workshop "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"
    • 発表場所
      Belgium
    • 年月日
      2014-11-13 – 2014-11-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • [学会発表] GeSn Alloy for Nanoelectronic and Optoelectronic Devices

    • 著者名/発表者名
      O. Nakatsuka, Y. Shimura, W. Takeuchi, N. Taoka and S. Zaima
    • 学会等名
      CNSE and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar
    • 発表場所
      Albany, USA
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22000011
  • [学会発表] 有機金属化学気相蒸着法によるGe1-xSnx薄膜成長

    • 著者名/発表者名
      犬塚雄貴, 池進一, 浅野孝典, 竹内和歌奈, 中塚理, 財満鎭明
    • 学会等名
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      北海道大学、日本
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26870261
  • 1.  財満 鎭明 (70158947)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 155件
  • 2.  坂下 満男 (30225792)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 105件
  • 3.  堀 勝 (80242824)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 44件
  • 4.  高島 成剛 (80397471)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 5.  竹田 圭吾 (00377863)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 14件
  • 6.  竹中 充 (20451792)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  田中 信夫 (40126876)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  中塚 理 (20334998)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 155件
  • 9.  高木 信一 (30372402)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  五島 敬史郎 (00550146)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  岩田 博之 (20261034)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  浅野 孝典
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 19件
  • 13.  池 進一
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 8件
  • 14.  犬塚 雄貴
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 9件
  • 15.  鷲津 智也
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 16.  加藤 公彦
    共同の研究課題数: 0件
    共同の研究成果数: 4件

URL: 

この研究者とORCID iDの連携を行いますか?
※ この処理は、研究者本人だけが実行できます。

Are you sure that you want to link your ORCID iD to your KAKEN Researcher profile?
* This action can be performed only by the researcher himself/herself who is listed on the KAKEN Researcher’s page. Are you sure that this KAKEN Researcher’s page is your page?

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi