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小幡 誠司  Obata Seiji

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 90616244
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2019年度 – 2023年度: 岡山大学, 異分野融合先端研究コア, 特任准教授
2016年度 – 2018年度: 東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 特任助教
2013年度 – 2015年度: 東京大学, 新領域創成科学研究科, 助教
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分28030:ナノ材料科学関連 / ナノ材料化学 / ナノ構造化学
研究代表者以外
結晶工学
キーワード
研究代表者
グラフェン / 酸化グラフェン / STM / 局所構造観察 / 立方晶窒化ホウ素 / edge structure / hexagonal boron nitride / graphene oxide / graphene / 六方晶窒化ホウ素 … もっと見る / プラズマ / 分子ネットワーク / 結晶成長 / モアレ / モアレ構造 … もっと見る
研究代表者以外
単一ドメイン / 成長機構 / 熱放射顕微鏡 / 核形成 / その場観察 / 熱放射 / 化学気相成長 / グラフェン 隠す
  • 研究課題

    (4件)
  • 研究成果

    (51件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  端構造を制御したナノグラフェンの成長と局所構造解析研究代表者

    • 研究代表者
      小幡 誠司
    • 研究期間 (年度)
      2018 – 2023
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分28030:ナノ材料科学関連
    • 研究機関
      岡山大学
      東京大学
  •  酸化グラフェンを利用した種々の積層構造を持つ二層グラフェンの作製と局所構造解析研究代表者

    • 研究代表者
      小幡 誠司
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2017
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      ナノ材料化学
    • 研究機関
      東京大学
  •  黒体輻射を利用したCVD成長その場観察法の開発

    • 研究代表者
      斉木 幸一朗
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2016
    • 研究種目
      挑戦的萌芽研究
    • 研究分野
      結晶工学
    • 研究機関
      東京大学
  •  モアレ構造を雛形とした分子ネットワークの作製研究代表者

    • 研究代表者
      小幡 誠司
    • 研究期間 (年度)
      2013 – 2015
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      ナノ構造化学
    • 研究機関
      東京大学

すべて 2024 2022 2021 2019 2018 2017 2016 2015 2014 2013

すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] Synergic effect of graphene oxide and boron nitride on the mechanical properties of polyimide composite films2022

    • 著者名/発表者名
      YK Cheng, B.D.L. Campeon, S Obata, Y Nishina
    • 雑誌名

      Nanoscale Advances

      巻: 10 号: 10 ページ: 2329-2345

    • DOI

      10.1039/d2na00078d

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] Tunable Chemical Coupling in Two-Dimensional van der Waals Electrostatic Heterostructures2019

    • 著者名/発表者名
      Taniguchi Takaaki、Li Shisheng、Nurdiwijayanto Leanddas、Kobayashi Yu、Saito Tetsuki、Miyata Yasumitsu、Obata Seiji、Saiki Koichiro、Yokoi Hiroyuki、Watanabe Kenji、Taniguchi Takashi、Tsukagoshi Kazuhito、Ebina Yasuo、Sasaki Takayoshi、Osada Minoru
    • 雑誌名

      ACS Nano

      巻: 13 号: 10 ページ: 11214-11223

    • DOI

      10.1021/acsnano.9b04256

    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881, KAKENHI-PROJECT-19K22104, KAKENHI-PROJECT-19K15399, KAKENHI-PROJECT-15H02004, KAKENHI-PROJECT-17H03395, KAKENHI-PROJECT-17K05008, KAKENHI-PROJECT-17K19187
  • [雑誌論文] Real-time observation on hot-filament-assisted CVD growth of graphene2019

    • 著者名/発表者名
      T. Taira, T. Shinohara, S. Obata, and K. Saiki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 印刷中

    • NAID

      210000156683

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] The effect of growth condition on graphene growth via Cu-assisted plasma reduction and restoration of graphene oxide2019

    • 著者名/発表者名
      S. Obata, and K. Saiki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 58

    • NAID

      210000135253

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] Work Function Lowering of Graphite by Sequential Surface Modifications: Nitrogen and Hydrogen Plasma Treatment2019

    • 著者名/発表者名
      Akada Keishi、Obata Seiji、Saiki Koichiro
    • 雑誌名

      ACS Omega

      巻: 4 号: 15 ページ: 16531-16535

    • DOI

      10.1021/acsomega.9b02208

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] Effect of hydrogen on chemical vapor deposition growth of graphene on Au substrates2019

    • 著者名/発表者名
      T. Terasawa, T. Taira, S. Yasuda, S. Obata, K. Saiki, and H. Asaoka
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 印刷中

    • NAID

      210000156561

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] Size Separation of Graphene Oxide using Alternating Current Electric Field2019

    • 著者名/発表者名
      K. Morimoto, S. Obata, K. Saiki
    • 雑誌名

      Chem. Lett.

      巻: 印刷中

    • NAID

      130007674953

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] Analysis of the low-temperature restoration process of graphene oxide based on in-situ conductivity measurement2019

    • 著者名/発表者名
      T. Shinohara, S. Obata, and K. Saiki
    • 雑誌名

      J. Mater. Chem. C

      巻: 7 号: 9 ページ: 2583-2588

    • DOI

      10.1039/c8tc06577b

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] High degree reduction and restoration of graphene oxide on SiO2 at low temperature via remote Cu-assisted plasma treatment2018

    • 著者名/発表者名
      S. Obata, M. Sato, K. Akada and K. Saiki.
    • 雑誌名

      Nanotechnology

      巻: 29 号: 24 ページ: 245603-245603

    • DOI

      10.1088/1361-6528/aab73e

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [雑誌論文] Growth Temperature Dependence of Nitrogen Doped Graphene Structure on Pt (111) and Analysis of Its Reactivity with Oxygen2018

    • 著者名/発表者名
      S. Obata, and K. Saiki
    • 雑誌名

      RSC Advances

      巻: 8 号: 60 ページ: 34309-34313

    • DOI

      10.1039/c8ra06962j

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] High Degree Reduction and Restoration of Graphene Oxide on SiO2 at low temperature via remote Cu-assisted Plasma Treatment2018

    • 著者名/発表者名
      S. Obata, M. Sato, K. Akada and K. Saiki
    • 雑誌名

      Nanotechnology

      巻: 29

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [雑誌論文] 酸化グラフェン塗布膜の高次還元と高移動度化2017

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 佐藤 稔, 斉木 幸一朗
    • 雑誌名

      Journal of the Vacuum Society of Japan

      巻: 60 号: 8 ページ: 300-306

    • DOI

      10.3131/jvsj2.60.300

    • NAID

      130005995439

    • ISSN
      1882-2398, 1882-4749
    • 言語
      日本語
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [雑誌論文] Nucleation site in CVD graphene growth investigated by radiation-mode optical microscopy2017

    • 著者名/発表者名
      Takanobu Taira, Seiji Obata, Koichiro Saiki
    • 雑誌名

      Applied. Physics Express

      巻: 10 号: 5 ページ: 055502-055502

    • DOI

      10.7567/apex.10.055502

    • NAID

      210000135853

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K13346, KAKENHI-PLANNED-25107002
  • [雑誌論文] 酸化グラフェンからの高結晶性グラフェン生成2016

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司
    • 雑誌名

      炭素

      巻: 2016 号: 275 ページ: 171-181

    • DOI

      10.7209/tanso.2016.171

    • NAID

      130005250241

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 六方晶窒化ホウ素粉末を用いた薄膜形成と酸化グラフェンとの複合膜形成2024

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司、仁科 勇太
    • 学会等名
      第71回 応用物理学会 春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] 酸化グラフェン/六方晶窒化ホウ素積層構造の大量合成法の確立2021

    • 著者名/発表者名
      小幡誠司、仁科勇太
    • 学会等名
      酸化グラフェン研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] 電界による酸化グラフェンナノリボンの集積化とその高結晶化2019

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 仁科 勇太
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋季学術講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] 酸化グラフェン修復過程における六方晶窒化ホウ素の触媒作用2019

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 渡邊 賢司, 谷口 尚, 斉木幸一朗
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] 酸化グラフェンを感応膜とした膜型表面応力センサ(MSS)のガス応答特性2019

    • 著者名/発表者名
      今村 岳, 南 皓輔, 柴 弘太, 小幡誠司, 吉川 元起, 斉木幸一朗
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋季学術講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] Selective deposition of monolayer graphene oxide (GO) on hexagonal boron nitride (h-BN) and restoration of GO using catalytic properties of h-BN2019

    • 著者名/発表者名
      SeijiObata, Kazuhito Tsukagoshi, Kenji Watanabe, Takashi Taniguchi,Yuta Nishina, Koichiro Saiki
    • 学会等名
      Recent progress in graphene and 2D materials research 2019
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] 酸化グラフェン修復過程における六方晶窒化ホウ素の触媒作用2018

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司、谷口 尚、渡邊 賢司、斉木幸一朗
    • 学会等名
      第十回酸化グラフェン研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] 六方晶窒化ホウ素上での高結晶性グラフェンナノリボン大量合成2018

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 谷口 尚, 渡邊 賢司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 電気泳動法によるNano Graphene Oxideの成膜Ⅱ2018

    • 著者名/発表者名
      森本 健太, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] ホットフィラメントを利用した、酸化グラフェン還元・修復の低温化と その活性化エネルギーの導出2018

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司、篠原 拓也、斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第九回酸化グラフェン研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-18K04881
  • [学会発表] In-situ電気伝導度測定を用いた酸化グラフェン還元過程の解析Ⅲ2018

    • 著者名/発表者名
      篠原 拓也, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 電気泳動法によるNano Graphene Oxideの成膜2017

    • 著者名/発表者名
      森本 健太, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第九回酸化グラフェンシンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 六方晶窒化ホウ素上での酸化グラフェンからのグラフェン直接成長2017

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 谷口 尚, 渡邊 賢司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 電気泳動法によるNano Graphene Oxide の成膜2017

    • 著者名/発表者名
      森本 健太, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] High degree reduction and restoration of graphene oxide by Cu-assisted CH4/H2 plasma treatment2017

    • 著者名/発表者名
      Seiji Obata, Koichiro Saiki
    • 学会等名
      Graphene week 2017
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] In-situ 電気伝導度測定を用いた酸化グラフェン還元過程の解析2017

    • 著者名/発表者名
      篠原 拓也, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] メタン雰囲気中での酸化グラフェン還元の低温化と還元過程の解析2017

    • 著者名/発表者名
      篠原 拓也, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第九回酸化グラフェンシンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 酸化グラフェンのプラズマ高次還元による2層グラフェン作製2017

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] グラフェンCVD成長における核発生点のin-situ観察2017

    • 著者名/発表者名
      平良 隆信,小幡 誠司,斉木 幸一朗
    • 学会等名
      応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(横浜)
    • 年月日
      2017-03-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K13346
  • [学会発表] In-situ電気伝導度測定を用いた酸化グラフェン還元過程の解析Ⅱ2017

    • 著者名/発表者名
      篠原 拓也, 小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの2層グラフェン生成2017

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第八回酸化グラフェンシンポジウム
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] CH4プラズマを用いた酸化グラフェンからのグラフェン生成における反応ガス比の影響2016

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] Cu箔基板上グラフェンCVD成長における核発生支配要因2016

    • 著者名/発表者名
      平良 隆信,小幡 誠司,斉木 幸一朗
    • 学会等名
      応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟)
    • 年月日
      2016-09-16
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K13346
  • [学会発表] CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの高結晶性グラフェン合成 ~ガス比の影響と高品質化~2016

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第7回酸化グラフェン研究会
    • 発表場所
      姫路商工会議所
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 酸化グラフェンシートの作製・構造・応用2016

    • 著者名/発表者名
      小幡誠司
    • 学会等名
      平成27年度表面科学会関西支部セミナー
    • 発表場所
      産業技術総合研究所関西センター
    • 年月日
      2016-02-18
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • [学会発表] グラフェンCVD成長における核発生と基板形状のin-situ観察2016

    • 著者名/発表者名
      平良 隆信,寺澤 知潮,小幡 誠司,斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京)
    • 年月日
      2016-03-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K13346
  • [学会発表] 銅触媒とCH4プラズマを用いた酸化グラフェンからのグラフェン生成2016

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 赤田 圭史, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      2016年 第63回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学 大岡山キャンパス
    • 年月日
      2016-03-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 基板加熱がグラフェン CVD 成長に与える影響の in situ 観察2015

    • 著者名/発表者名
      寺澤知潮,平良孝信,小幡誠司,斉木幸一朗
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場(名古屋市))
    • 年月日
      2015-09-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K13346
  • [学会発表] モアレ構造を利用したGraphene/Pt(111)上での 鉄フタロシアニン成長2015

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      応用物理学会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2015-03-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • [学会発表] High Quality Graphene Synthesis from Graphene Oxide2015

    • 著者名/発表者名
      Seiji Obata, Minoru Sato, Keishi Akada, Koichiro Saiki
    • 学会等名
      NT 15
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-06-28
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • [学会発表] CH4プラズマ処理による酸化グラフェンからのグラフェン生成2015

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 佐藤 稔, 赤田 圭史, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 絶縁基板上でのメタンプラズマを用いた 酸化グラフェンからのグラフェン生成Ⅱ~金属触媒を用いた高品質化・低温合成~2015

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 佐藤 稔, 赤田 圭史, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第五回酸化グラフェンシンポジウム
    • 発表場所
      岡山大学 50周年記念館
    • 年月日
      2015-12-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] 絶縁基板上でのメタンプラズマを用いた酸化グラフェンからのグラフェン生成2015

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 佐藤 稔, 赤田 圭史, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第四回酸化グラフェンシンポジウム
    • 発表場所
      熊本大学工学部百周年記念館
    • 年月日
      2015-06-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K17439
  • [学会発表] STM Observation of Molecular Adsorption on Graphene and Nitrogen Doped Graphene2014

    • 著者名/発表者名
      Seiji Obata,Koichiro Saiki
    • 学会等名
      American Physical Society March Meeting
    • 発表場所
      Colorado Convention Center
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • [学会発表] Cu 単結晶上に成長したグラフェンの絶縁基板上への転写2014

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 田中 弘成, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • [学会発表] Cu単結晶上におけるグラフェン生成機構2013

    • 著者名/発表者名
      小幡 誠司, 田中 弘成, 斉木 幸一朗
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • [学会発表] Role of Metal substrate in Graphene Synthesis from Graphene Oxide2013

    • 著者名/発表者名
      Seiji Obata, Hiroshige Tanaka, Tomo-o Terasawa,Koichiro Saiki
    • 学会等名
      RPGR 2013
    • 発表場所
      東京工業大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-25790001
  • 1.  斉木 幸一朗 (70143394)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 5件

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