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原嶋 庸介  Harashima Yosuke

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 90748203
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 准教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2023年度: 奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 准教授
2022年度: 奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 助教
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分13010:数理物理および物性基礎関連
キーワード
研究代表者
不規則系 / 第一原理計算 / 密度汎関数理論 / 不純物 / 半導体 / 臨界現象 / Anderson局在 / 金属絶縁体転移
  • 研究課題

    (1件)
  • 研究成果

    (2件)
  •  不規則不純物系の金属絶縁体転移の臨界現象に対するスピンと補償の効果研究代表者

    • 研究代表者
      原嶋 庸介
    • 研究期間 (年度)
      2022 – 2024
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分13010:数理物理および物性基礎関連
    • 研究機関
      奈良先端科学技術大学院大学

すべて 2023

すべて 雑誌論文

  • [雑誌論文] Finite temperature effects on the structural stability of Si-doped HfO2 using first-principles calculations2023

    • 著者名/発表者名
      Harashima Y.、Koga H.、Ni Z.、Yonehara T.、Katouda M.、Notake A.、Matsui H.、Moriya T.、Si M. K.、Hasunuma R.、Uedono A.、Shigeta Y.
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 122 号: 26 ページ: 262903-262903

    • DOI

      10.1063/5.0153188

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22K03449
  • [雑誌論文] Systematic search for stabilizing dopants in ZrO2 and HfO2 using first-principles calculations2023

    • 著者名/発表者名
      Harashima Yosuke、Koga Hiroaki、Ni Zeyuan、Yonehara Takehiro、Katouda Michio、Notake Akira、Matsui Hidefumi、Moriya Tsuyoshi、Si Mrinal Kanti、Hasunuma Ryu、Uedono Akira、Shigeta Yasuteru
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

      巻: - 号: 4 ページ: 1-4

    • DOI

      10.1109/tsm.2023.3265658

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22K03449

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