Kusumi Takayuki 久住孝幸

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久住孝幸クスミタカユキ

KUSUMI Takayuki 久住孝幸

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Researcher Number	40370233
Affiliation (Current)	2025: 秋田県産業技術センター, 先進プロセス開発部, 上席研究員
Affiliation (based on the past Project Information) *help	2022: 秋田県産業技術センター, 先進プロセス開発部, 上席研究員 2018 – 2019: 秋田県産業技術センター, 先進プロセス開発部, 主任研究員 2016 – 2017: 秋田県産業技術センター, 素形材プロセス開発部, 主任研究員 2015: 秋田県産業技術センター, その他部局等, 主任研究員 2012 – 2015: 秋田県産業技術センター, その他部局等, 研究員 … More 2014: 秋田県産業技術センター, 素形材プロセス開発部, 主任研究員 2011: 秋田県産業技術センター, 素形材プロセス開発部, 主任研究員 2010 – 2011: 秋田県産業技術センター, 主任研究員 2009: 秋田県産業技術総合研究センター, 主任研究員 Less
Review Section/Research Field	Principal Investigator Production engineering/Processing studies / Basic Section 18020:Manufacturing and production engineering-related Except Principal Investigator Production engineering/Processing studies
Keywords	Principal Investigator 砥粒 / 電界 / ワイヤーソー / 半導体 / スラリー / 電流 / 精密加工 / ワイヤー切断 / 遊離砥粒 / 周波数 / ウェーハ / ラッピング / 研磨 … More Except Principal Investigator … More 電界砥粒制御技術 / 砥粒 / スラリー / 遊離砥粒研磨 / pH / ゼータ電位 / 電界活性化 / 基板研磨 / 電界活性化技術 / 電界撹拌技術 / 電界 / ＣＭＰ / 電界砥粒制御研磨技術 / サファイア / 研磨 / 電界砥粒制御 / 交流電界 Less

脱炭素社会の一翼を担うパワー半導体向け電界スパイキングスライス技術の開発Principal Investigator
- Principal Investigator
  
  久住孝幸
- Project Period (FY)
  2022 – 2024
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Review Section
  
  Basic Section 18020:Manufacturing and production engineering-related
- Research Institution
  Akita Industrial Technology Center
Development of Electric Field-assisted Slicing (EFS) that realizes innovative cutting processing for next-generation wide gap semiconductorsPrincipal Investigator
- Principal Investigator
  
  KUSUMI Takayuki
- Project Period (FY)
  2017 – 2019
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Akita Industrial Technology Center
Electric field activated slurry polishing technique
- Principal Investigator
  
  Akagami Yoichi
- Project Period (FY)
  2015 – 2017
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Akita Industrial Technology Center
Development of electric field assisted lapping technology for SiC semiconductor substratePrincipal Investigator
- Principal Investigator
  
  KUSUMI Takayuki
- Project Period (FY)
  2014 – 2016
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Akita Industrial Technology Center
Development of innovative high-efficiency, high-quality finishing method due to the electric field high speed CMP technology
- Principal Investigator
  
  AKAGAMI Yoichi
- Project Period (FY)
  2012 – 2014
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Akita Industrial Technology Center
Study of improvement mechanism for highly polishing rate using maintained slurry under electrically controlled
- Principal Investigator
  
  AKAGAMI Yoichi
- Project Period (FY)
  2009 – 2011
- Research Category
  
  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- Research Field
  
  Production engineering/Processing studies
- Research Institution
  Akita Research and Development Center

All 2020 2019 2018 2017 2016 2015 2014 2013 2012 2011 Other

All Journal Article Presentation Patent

[Journal Article] 樹脂パッドと電界砥粒制御技術を適用した先進結晶基板への低ダメージ機械研磨技術2020
- Author(s)
  千葉翔悟，久住孝幸，赤上陽一，野老山貴行，村岡幹夫
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌
  
  Volume: 64
- NAID
  130007926222
- Peer Reviewed
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Journal Article] Electric field activation technology for polishing slurry2017
- Author(s)
  久住孝幸、池田洋、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Journal Title
  
  Journal of the Japan Society for Abrasive Technology
  
  Volume: 61 Issue: 5 Pages: 275-276
- DOI
  10.11420/jsat.61.275
- NAID
  130005679553
- ISSN
  0914-2703, 1880-7534
- Language
  Japanese
- Peer Reviewed / Open Access
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-15K05745, KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Journal Article] 研磨スラリーの電界活性化技術2017
- Author(s)
  久住孝幸,中村竜太,赤上陽一
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌
  
  Volume: Vol.61 No.5 Pages: 275-276
- NAID
  130005679553
- Peer Reviewed
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-15K05745
[Journal Article] 研磨スラリーの電界活性化技術2017
- Author(s)
  久住孝幸、池田洋、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌
  
  Volume: 61 Pages: 43-44
- NAID
  130005679553
- Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Journal Article] 水ベーススラリーへの電界砥粒制御技術の適用2017
- Author(s)
  久住孝幸，赤上陽一
- Journal Title
  
  砥粒加工学会誌
  
  Volume: 61 Pages: 639-642
- Peer Reviewed
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Journal Article] The Development of AC Electric Field Assisted Polishing for Silicon Carbide Substrates with Control of Abrasive Behavior2013
- Author(s)
  久住孝幸, 佐藤安弘, 池田洋, 赤上陽一, 梅原徳次
- Journal Title
  
  Journal of the Japan Society for Precision Engineering
  
  Volume: 79 Issue: 1 Pages: 87-92
- DOI
  10.2493/jjspe.79.87
- NAID
  130003369772
- ISSN
  0912-0289, 1882-675X
- Language
  Japanese
- Peer Reviewed
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-24560151
[Journal Article] New polishing method using water-based slurry under AC electric field for glass substrate2011
- Author(s)
  T. Kusumi, H. Ikeda, Y. Sato, Y. Akagami, N. Umehara
- Journal Title
  
  Journal of Magnetism and Magnetic Materials
  
  Volume: 323 Pages: 1394-1397
- Peer Reviewed
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-21560138
[Journal Article] New polishing method using water-based slurry under AC.electric field for glass substrate2011
- Author(s)
  T.Kusumi, H.Ikeda, Y.Sato, Y.Akagami, N.Umehara
- Journal Title
  
  Journal of Magnetism and Magnetic Materials
  
  Volume: 323 Pages: 1394-1397
- Peer Reviewed
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-21560138
[Patent] 切断方法及び切断装置2019
- Inventor(s)
  久住孝幸、赤上陽一、越後谷正見
- Industrial Property Rights Holder
  久住孝幸、赤上陽一、越後谷正見
- Industrial Property Rights Type
  特許
- Filing Date
  2019
- Overseas
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Patent] 切断方法及び切断装置2018
- Inventor(s)
  久住孝幸、赤上陽一、越後谷正見
- Industrial Property Rights Holder
  秋田県
- Industrial Property Rights Type
  特許
- Filing Date
  2018
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界砥粒制御技術を適用した硬脆材基板向けラッピング技術の開発2019
- Author(s)
  赤上陽一、千葉翔悟、久住孝幸
- Organizer
  2019年度日本機械学会年次大会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界砥粒制御技術を適用した先進結晶材基板の高効率ラップ技術に関する検討2019
- Author(s)
  千葉翔悟、久住孝幸、赤上陽一、野老山貴行
- Organizer
  2019年度砥粒加工学会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術を適用したSi向け小型片面研磨装置の開発2019
- Author(s)
  池田洋、大橋儀宗、久住孝幸、越後谷正見、赤上陽一
- Organizer
  2019年度日本機械学会年次大会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界砥粒制御技術を適用したオイルベーススラリーの砥粒分布挙動について2019
- Author(s)
  池田洋、奈良泰七、三浦　辰徳、久住孝幸、越後谷　正見、赤上陽一
- Organizer
  2019年度砥粒加工学会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] SiCウエハの高効率研磨における電界スラリー制御研磨を用いた均一研磨の検討2019
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、大久保義真、赤上陽一、河田研治、加藤智久
- Organizer
  2019年度砥粒加工学会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界撹拌技術を用いた電気穿孔法の開発電界砥粒制御技術を用いた新たな切断技術の開発2019
- Author(s)
  久住孝幸，越後谷正見，池田洋，大久保義真，中村竜太，赤上陽一
- Organizer
  2019年度日本機械学会年次大会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術の均一研磨性の検討2019
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、大久保義真、赤上陽一、河田研治、加藤智久
- Organizer
  2019年度精密工学会秋季大会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 小型片面研磨装置向け電界スラリー制御システムの開発2018
- Author(s)
  池田洋、原田響、久住孝幸、越後谷正見、赤上陽一
- Organizer
  2018年度砥粒加工学会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 小径工具における電界スラリー制御技術の開発2018
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  第12回生産加工・工作機械部門講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界印加条件がスラリー分布とSiC基板の研磨特性に及ぼす影響2018
- Author(s)
  池田洋、泉泰秀、久住孝幸、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2018年度精密工学会秋季大会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工の基礎検討　-第4報-2018
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2018年度精密工学会秋季大会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] ガラスの研磨加工2018
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  ニューガラス大学院
- Invited
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工の基礎検討-第3報-2018
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2017年度精密工学会春季大会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工法の開発 -第２報-2018
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2018年度砥粒加工学会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術における電界条件とSiC基板の研磨特性との関係2018
- Author(s)
  池田洋、泉泰秀、久住孝幸、赤上陽一
- Organizer
  第12回生産加工・工作機械部門講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工の基礎検討2017
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2017年度精密工学会春季大会学術講演会
- Place of Presentation
  慶應義塾大学　矢上キャンパス
- Year and Date
  2017-03-13
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工法の開発2017
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2017年度砥粒加工学会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工の基礎検討-第2報-2017
- Author(s)
  久住孝幸、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  2017年度精密工学会秋季大会学術講演会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] ガラスの研磨加工2017
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  ニューガラス大学院
- Invited
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-17K06106
[Presentation] 電界砥粒制御技術をシーズ技術とした研究開発2016
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  2016年度精密工学会春季学術講演会
- Place of Presentation
  東京理科大学
- Year and Date
  2016-03-15
- Invited
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界ラッピング技術における研磨砥粒挙動の基礎検討2016
- Author(s)
  久住孝幸、池田洋、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  機械学会　第11回生産加工・工作機械部門講演会
- Place of Presentation
  名古屋大学
- Year and Date
  2016-10-22
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] コロイダルシリカスラリーの電界活性化技術2016
- Author(s)
  久住孝幸　池田洋　越後谷正見　中村竜太　赤上陽一
- Organizer
  2016年度精密工学会春季学術講演会
- Place of Presentation
  東京理科大学
- Year and Date
  2016-03-15
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 研磨スラリーの電界活性化技術2016
- Author(s)
  久住孝幸、池田洋、越後谷正見、中村竜太、赤上陽一
- Organizer
  砥粒加工学会（ABTEC2016）
- Place of Presentation
  兵庫県立大学姫路環境人間キャンパス
- Year and Date
  2016-08-31
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] コロイダルシリカスラリーの電界活性化技術2016
- Author(s)
  久住　孝幸　中村　竜太，赤上　陽一
- Organizer
  2016年度精密工学会春季大会学術講演会
- Place of Presentation
  東京理科大学　野田キャンパス
- Year and Date
  2016-03-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-15K05745
[Presentation] 研磨スラリーの電界活性化技術2016
- Author(s)
  久住孝幸,中村竜太,赤上陽一
- Organizer
  2016年度砥粒加工学会学術講演会（ABTEC2016）
- Place of Presentation
  兵庫県立大学　姫路環境人間キャンパス
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-15K05745
[Presentation] 新たな酸化セリウム砥粒再生技術及び再生装置の開発 -第3報-2016
- Author(s)
  久住孝幸、池田洋、中村竜太、赤上陽一、松下大作、照井伸太朗
- Organizer
  2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
- Place of Presentation
  茨城大学　水戸キャンパス
- Year and Date
  2016-09-06
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 新たな酸化セリウム砥粒再生技術及び再生装置の開発2015
- Author(s)
  久住孝幸，赤上陽一，松下大作，佐々木健二，照井伸太朗
- Organizer
  2015年度精密工学会春季大会
- Place of Presentation
  東洋大学
- Year and Date
  2015-03-19
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 新たな酸化セリウム砥粒再生技術の開発及びその電界砥粒制御研磨2015
- Author(s)
  久住孝幸　中村竜太　赤上陽一　池田洋　松下大作　照井伸太朗
- Organizer
  2015年度砥粒加工学会学術講演会
- Place of Presentation
  慶應義塾大学
- Year and Date
  2015-09-09
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 新たな酸化セリウム砥粒再生技術及び再生装置の開発 -第2報-2015
- Author(s)
  久住孝幸　赤上陽一　松下大作　佐々木健二　照井伸太朗
- Organizer
  2015年度精密工学会秋季学術講演会
- Place of Presentation
  東北大学
- Year and Date
  2015-09-04
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界砥粒制御技術を適用した硬脆材料向け高効率 CMP 技術の開発2014
- Author(s)
  池田洋, 中村竜太,久住孝幸,赤上陽一
- Organizer
  2014年度精密工学会秋季大会
- Place of Presentation
  鳥取大学
- Year and Date
  2014-09-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 炭化ケイ素研磨材を用いた電界砥粒制御技術の基礎検討　‐第3報-2014
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  2014年度砥粒加工学会
- Place of Presentation
  岩手大学
- Year and Date
  2014-09-13
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-24560151
[Presentation] 電界スラリー制御技術を適用した硬脆材料向け高効率研磨技術の開発2014
- Author(s)
  池田洋, 久住孝幸, 中村竜太, 佐藤安弘, 赤上陽一
- Organizer
  2014年度砥粒加工学会
- Place of Presentation
  岩手大学
- Year and Date
  2014-09-13
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 炭化ケイ素研磨材を用いた電界砥粒制御技術の基礎検討　-第3報-2014
- Author(s)
  久住孝幸, 中村竜太, 池田洋, 佐藤安弘, 赤上陽一
- Organizer
  2014年度砥粒加工学会
- Place of Presentation
  岩手大学
- Year and Date
  2014-09-13
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界砥粒制御技術における研磨下の砥粒挙動の基礎検討2014
- Author(s)
  久住孝幸, 池田洋,中村竜太,佐藤安弘, 赤上陽一
- Organizer
  2014年度精密工学会秋季大会
- Place of Presentation
  鳥取大学
- Year and Date
  2014-09-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界砥粒制御技術における研磨下の砥粒挙動の基礎検討2014
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  2014年度精密工学会秋季大会
- Place of Presentation
  鳥取大学
- Year and Date
  2014-09-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-24560151
[Presentation] 電界砥粒制御技術を用いた単結晶サファイア基板の高効率研磨加工―第１報―2014
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  第10回　生産加工・工作機械部門講演会
- Place of Presentation
  徳島大学
- Year and Date
  2014-11-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-24560151
[Presentation] 電界砥粒制御技術を用いたサファイア基板の高効率研磨加工2014
- Author(s)
  久住孝幸
- Organizer
  平成26年度北東北ナノ・メディカルクラスター研究会
- Place of Presentation
  秋田県
- Year and Date
  2014-12-23
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-24560151
[Presentation] 電界砥粒制御技術を用いた単結晶サファイア基板の高効率研磨加工―第２報―2014
- Author(s)
  池田洋，久住孝幸，中村竜太，赤上陽一，千葉翔梧，伊賀美里
- Organizer
  日本機械学会　第10回生産加工・工作機械部門講演会
- Place of Presentation
  徳島大学
- Year and Date
  2014-11-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界砥粒制御技術を用いた単結晶サファイア基板の高効率研磨加工―第１報―2014
- Author(s)
  久住孝幸，池田洋，中村竜太，赤上陽一，千葉翔梧，伊賀美里
- Organizer
  日本機械学会　第10回生産加工・工作機械部門講演会
- Place of Presentation
  徳島大学
- Year and Date
  2014-11-16
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-26420068
[Presentation] 電界砥粒制御技術による研磨効率向上メカニズムの基礎検討2012
- Author(s)
  久住孝幸,黒木恵,佐藤安弘,赤上陽一,梅原徳次
- Organizer
  2011年度精密工学会春季大会
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-21560138
[Presentation] 電界砥粒制御技術による研磨効率向上メカニズムの基礎検討　-第2報-
- Author(s)
  久住孝幸，新井晶大，佐藤安弘，赤上陽一，梅原徳次
- Organizer
  2013年度精密工学会春季大会
- Place of Presentation
  東京工業大学
- Data Source
  KAKENHI-PROJECT-24560151

1. AKAGAMI Yoichi (00373217)

# of Collaborated Projects: 5 results

# of Collaborated Products: 40 results
2. NAKMURA Ryuta (00634213)

# of Collaborated Projects: 3 results

# of Collaborated Products: 3 results
3. 池田洋 (90573098)

# of Collaborated Projects: 1 results

# of Collaborated Products: 12 results

Kusumi Takayuki 久住 孝幸

久住 孝幸 クスミ タカユキ

KUSUMI Takayuki 久住 孝幸

Research Projects

Research Products

Co-Researchers

脱炭素社会の一翼を担うパワー半導体向け電界スパイキングスライス技術の開発Principal Investigator

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Review Section

Research Institution

Development of Electric Field-assisted Slicing (EFS) that realizes innovative cutting processing for next-generation wide gap semiconductorsPrincipal Investigator

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Electric field activated slurry polishing technique

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Development of electric field assisted lapping technology for SiC semiconductor substratePrincipal Investigator

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Development of innovative high-efficiency, high-quality finishing method due to the electric field high speed CMP technology

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

Study of improvement mechanism for highly polishing rate using maintained slurry under electrically controlled

Principal Investigator

Project Period (FY)

Research Category

Research Field

Research Institution

[Journal Article] 樹脂パッドと電界砥粒制御技術を適用した先進結晶基板への低ダメージ機械研磨技術2020

Author(s)

Journal Title

NAID

Data Source

[Journal Article] Electric field activation technology for polishing slurry2017

Author(s)

Journal Title

DOI

NAID

ISSN

Language

Data Source

[Journal Article] 研磨スラリーの電界活性化技術2017

Author(s)

Journal Title

NAID

Data Source

[Journal Article] 研磨スラリーの電界活性化技術2017

Author(s)

Journal Title

NAID

Data Source

[Journal Article] 水ベーススラリーへの電界砥粒制御技術の適用2017

Author(s)

Journal Title

Data Source

[Journal Article] The Development of AC Electric Field Assisted Polishing for Silicon Carbide Substrates with Control of Abrasive Behavior2013

Author(s)

Journal Title

DOI

NAID

ISSN

Language

Data Source

[Journal Article] New polishing method using water-based slurry under AC electric field for glass substrate2011

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Journal Title

Kusumi Takayuki 久住孝幸

久住孝幸クスミタカユキ

KUSUMI Takayuki 久住孝幸

[Presentation] 電界スラリー制御技術を用いた小径工具による研磨加工の基礎検討　-第4報-2018