後藤哲也 GOTO Tetsiua

研究者番号	00359556
その他のID
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2023年度: 公益財団法人国際科学振興財団, その他部局等, 特任研究員 2022年度: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 特任教授 2019年度 – 2021年度: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 教授 2008年度 – 2014年度: 東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 准教授 2009年度: 東北大学, 未来科学共同研究センター, 准教授
審査区分/研究分野	研究代表者電子・電気材料工学 / 小区分21050:電気電子材料工学関連研究代表者以外中区分21:電気電子工学およびその関連分野 / 工学 / 理工系
キーワード	研究代表者薄膜トランジスタ / マグネトロンスパッタ / 自己整合的しきい値電圧制御 / MONOS構造トランジスタ / しきい値電圧制御 / MONOS型トランジスタ / しきい値電圧チューニング / 電荷注入 / MONOS / しきい値電圧ばらつき … もっと見る / ポリシリコン / キセノン / IGZO / 回転マグネットスパッタ / シリコンゲルマニウム / ゲルマニウム … もっと見る研究代表者以外不揮発性メモリ / RFマグネトロンスパッタ法 / ECRスパッタ法 / 強誘電体薄膜 / 高周波(RF)マグネトロンスパッタ法 / 電子サイクロトロン共鳴(ECR)スパッタ法 / Si表面原子レベル平坦化 / 不揮発性多値メモリ / 高周波（RF）マグネトロンスパッタ法 / 電子サイクロトロン共鳴（ECR）スパッタ法 / 高誘電率薄膜 / 強誘電体 / 電荷蓄積 / 分極 / 3次元構造 / シリサイド / ラフネス / 面方位 / プラズマプロセス / シリコン表面平坦化 / MOSトランジスタ / 半導体製造装置 / 半導体製造プロセス / LSI / MOSFET / シリコン隠す

ポリイミド基板上に集積した多数TFTの自己整合的な特性ばらつき均一化技術の確立研究代表者
- 研究代表者
  
  後藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  公益財団法人国際科学振興財団
   東北大学
分極/電荷蓄積融合型ハフニウム系不揮発性多値メモリの創製
- 研究代表者
  
  大見俊一郎
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分21:電気電子工学およびその関連分野
- 研究機関
  東京工業大学
回転マグネットスパッタ技術を用いた高性能酸化物半導体薄膜トランジスタの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  後藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2013
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東北大学
原子オーダ平坦な界面を有する３次元立体構造トランジスタの製造プロセスに関する研究
- 研究代表者
  
  大見忠弘
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2014
- 研究種目
  
  特別推進研究
- 審査区分
  
  理工系
   工学
- 研究機関
  東北大学
低消費電力・高精細大画面液晶テレビ用高性能ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  後藤哲也
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2009
- 研究種目
  
  若手研究(A)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東北大学

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すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] Evaluation of Silicon Nitride Film Formed Using Magnetic-Mirror Confined Plasma Source2019
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Seiji Kobayashi, Yuki Yabuta, and Shigetoshi Sugawa
- 雑誌名
  
  ECS Journal of Solid State Science and Technology
  
  巻: 8
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00758
[雑誌論文] Atomically flattening of Si surface of silicon on insulator and isolation-patterned wafers2015
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Rihito Kuroda, Naoya Akagawa, Tomoyuki Suwa, Akinobu Teramoto, Xiang Li, Toshiki Obara, Daiki Kimoto, Shigetoshi Sugawa, Tadahiro Ohmi, Yutaka Kamata, Yuki Kumagai, and Katsuhiko Shibusawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 54 号: 4S ページ: 04DA04-04DA04
- DOI
  10.7567/jjap.54.04da04
- NAID
  210000144951
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22000010, KAKENHI-PROJECT-24360129, KAKENHI-PROJECT-26820121
[雑誌論文] Low-cost Xe sputtering of amorphous In-Ga-Zn-O thin-film transistors by rotation magnet sputtering incorporating a Xe recycle-and-supply system2014
- 著者名/発表者名
  T. Goto, S. Sugawa and T. Ohmi
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. A
  
  巻: 32 号: 2
- DOI
  10.1116/1.4835775
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[雑誌論文] Amorphous In-Ga-Zn-O thin-film transistors prepared by magnetron sputtering using Kr and Xe instead of Ar2014
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Shigetoshi Sugawa and Tadahiro Ohmi
- 雑誌名
  
  Journal of the Society for Information Display
  
  巻: 印刷中
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[雑誌論文] Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors Prepared by Magnetron Sputtering Using Kr and Xe Instead of Ar2014
- 著者名/発表者名
  T. Goto, S. Sugawa and T. Ohmi
- 雑誌名
  
  J. Soc. Info. Disp.
  
  巻: (印刷中)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[雑誌論文] Impact of the Use of Xe on Electrical Properties in Magnetron-Sputtering Deposited Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors2013
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Shigetoshi Sugawa and Tadahiro Ohmi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 52 号: 5R ページ: 50203-50203
- DOI
  10.7567/jjap.52.050203
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[雑誌論文] Low Contact Resistivity with Low Silicide/p^+-Silicon Schottky Barrier for High-Performance p-Channel Metal-Oxide-Silicon Field Effect Transistors2010
- 著者名/発表者名
  Hiroaki Tanaka, Tatsunori Isogai, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto, Shigetoshi Sugawa, Tadahiro Ohmi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 49
- NAID
  210000068161
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22000010
[雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si1-xGex by RF Magnetron Sputtering on SiO_2 Substrates2009
- 著者名/発表者名
  A.Hiroe, T.Goto, 他
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 48
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[雑誌論文] Rotation Magnet Sputtering: Damage-Free Novel Magnetron Sputtering Using Rotating Helical Magnet with Very High Target Utilization2009
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Takaaki Matsuoka, Tadahiro Ohmi
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology A,, J. Vac. Sci. Technol. A 27
  
  ページ: 653-659
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si_1-xGex by RF Magnetron Sputtering on Si0_2 Substrates2009
- 著者名/発表者名
  A. Hiroe, T. Goto, 他
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 48 (In the press)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[雑誌論文] Rotation Magnet Sputtering : Damage-Free Novel Magnetron Sputtering Using Rotating Helical Magnet with Very High Target Utilization2009
- 著者名/発表者名
  T.Goto, 他
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science and Technology A 27
  
  ページ: 653-659
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si1-xGex by RF Magnetron Sputtering on SiO2 Substrates2009
- 著者名/発表者名
  Akihiko Hiroe, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto,, Tadahiro Ohmi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 48
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[雑誌論文] Microcrystalline Si1-xGex Deposited by Magnetron Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  A. Hiroe, T. Goto, A. Teramoto,, T. Ohmi
- 雑誌名
  
  ECS Transactions Thin Film Transistors Vol.16No.9
  
  ページ: 183-192
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] 酸化物半導体装置の製造方法2012
- 発明者名
  後藤哲也
- 権利者名
  東北大学
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2012-266753
- 出願年月日
  2012-12-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-16
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-22
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] 回転マグネットスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 産業財産権番号
  2009-118169
- 出願年月日
  2009-05-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-29
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-22
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-17
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] 回転マグネットスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 産業財産権番号
  2009-118169
- 出願年月日
  2009-05-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-16
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  大見忠弘、後藤哲也、松岡孝明
- 権利者名
  国立大学法人東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[産業財産権] マグネトロンスパッタ装置2009
- 発明者名
  後藤哲也、大見忠弘、松岡孝明
- 権利者名
  東北大学、東京エレクトロン(株)
- 出願年月日
  2009-09-30
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[学会発表] MONOS 型低温ポリシリコン TFT におけるしきい値電圧制御2023
- 著者名/発表者名
  後藤哲也，諏訪智之，片山慶太, 西田脩, 池上浩, 須川成利
- 学会等名
  第84回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04194
[学会発表] MONOS 型ポリシリコンTFT でのしきい値電圧制御に関する検討2023
- 著者名/発表者名
  後藤哲也，諏訪智之，須川成利
- 学会等名
  2023年第70回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04194
[学会発表] MONOS 型ポリシリコンTFT でのしきい値電圧制御に関する検討2023
- 著者名/発表者名
  後藤哲也，諏訪智之，須川成利
- 学会等名
  第70回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00758
[学会発表] Threshold Voltage Control of LTPS TFTs with MONOS Structure2023
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Tomoyuki Suwa, Keita Katayama, Shu Nishida, Hiroshi Ikenoue, and Shigetoshi Sugawa
- 学会等名
  2023 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04194
[学会発表] Characterization of MONOS-Type Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors2023
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Tomoyuki Suwa, Keita Katayama, Shu Nishida, Hiroshi Ikenoue, and Shigetoshi Sugawa
- 学会等名
  2023Asia-Pacific Workshop on Advanced Semiconductor Devices
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04194
[学会発表] Silicon Nitride Film Formations Using Magnetic-Mirror Confined Plasma System Developed for Minimal Fab System2022
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Thai Quoc Cuong, Seiji Kobayashi, Yuki Yabuta, Shigetoshi Sugawa and Shiro Hara
- 学会等名
  2022 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (AWAD)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04194
[学会発表] Silicon Nitride Film Formations Using Magnetic-Mirror Confined PlasmaSystem Developed for Minimal Fab System2022
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Thai Quoc Cuong, Seiji Kobayashi, Yuki Yabuta, Shigetoshi Sugawa and Shiro Hara
- 学会等名
  2022 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of advanced Semiconductor Devices (AWAD)
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00758
[学会発表] ミニマルファブ用ミラー磁場閉じ込めプラズマCVD装置によるジクロロシランガスを用いたシリコン窒化膜形成2021
- 著者名/発表者名
  後藤哲也、小林誠二、タイクオッククオン、薮田勇気、須川成利、原史朗
- 学会等名
  第 82 回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00758
[学会発表] プラズマ成膜技術の将来展望2020
- 著者名/発表者名
  後藤哲也
- 学会等名
  化学工学会　第51回秋季大会（オンライン）（2020）展望講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00758
[学会発表] Selective Laser Annealing Technology for LTPS Thin Film Transistors Fabrications2019
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Kaname Imokawa, Takahiro Yamada, Kaori Saito, Jun Gotoh, Hiroshi Ikenoue and Shigetoshi Sugawa,
- 学会等名
  Extended Abstracts of the 2019 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19H00758
[学会発表] Atomically Flattening of Si Surface of SOI and Isolation-patterned Wafers2014
- 著者名/発表者名
  T. Goto, R. Kuroda, N. Akagawa, T. Suwa, A. Teramoto, X. Li, S. Sugawa, T. Ohmi, Y. Kumagai, Y. Kamata, and K. Sibusawa
- 学会等名
  The 2014 International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  Tsukuba International Congress Center, つくば
- 年月日
  2014-09-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22000010
[学会発表] Impact of the Use of Xe and Its Recycling System for Preparing Amorphous InGaZnO Thin Film Transistors by Dual-Target Rotation Magnet Sputtering2013
- 著者名/発表者名
  T. Goto, H. Ishii, S. Sugawa, and T. Ohmi
- 学会等名
  The Twelfth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP 2013)
- 発表場所
  Kyoto
- 年月日
  2013-07-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[学会発表] Electrical Properties of Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors Prepared by Magnetron Sputtering with Using Kr and Xe Instead of Ar2013
- 著者名/発表者名
  T. Goto, H. Ishii, S. Sugawa, and T. Ohmi
- 学会等名
  Society for Information Display International Symposium 2013
- 発表場所
  Vancouver, Canada
- 年月日
  2013-05-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[学会発表] Spatial Distribution of Properties of a-IGZO Films Deposited by Rotation Magnet Sputtering Incorporating Dual Target Structure2012
- 著者名/発表者名
  T. Goto, S. Sugawa, T. Ohmi
- 学会等名
  The 19th International Display Workshops (IDW'12), FMC6-3
- 発表場所
  Kyoto
- 年月日
  2012-12-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[学会発表] Damage-Free, Uniform and High-Target-Utilization Novel Magnetron Sputtering Plasma Source by Rotating Helical Magnet2009
- 著者名/発表者名
  T. Goto, N. Seki, T. Matsuoka, T. Ohmi
- 学会等名
  AVS 56th International Symposium & Exhibition
- 発表場所
  San Jose
- 年月日
  2009-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[学会発表] Damage-Free, Uniform and High-Target-Utilization Novel Magnetron Sputtering Plasma Source by Rotating Helical Magnet2009
- 著者名/発表者名
  T.Goto, N.Seki, T.Matsuoka, T.Ohmi
- 学会等名
  AVS 56th International Symposium & Exhibition
- 発表場所
  San Jose, USA
- 年月日
  2009-11-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[学会発表] μc-Si_<1-x>Ge_x Deposition on SiO_2 by RF Magnetron Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  A. Hiroe, T. Goto, 他
- 学会等名
  2008 International Conference on SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS
- 発表場所
  つくば市
- 年月日
  2008-09-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[学会発表] Micro Crystalline Si1-xGex Deposited by Magnetron Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  Akihiko Hiroe, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto,, Tadahiro Ohmi
- 学会等名
  PACIFIC RIM MEETING ON ELECTROCHEMICAL AND SOLID-STATE SCIENCE (PRiME2008)The Electrochemical Society, Meeting Abstracts
- 発表場所
  Honolulu, Hawaii(CD-ROM)
- 年月日
  2008-10-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[学会発表] μc- Si1-xGex Deposition on SiO2 by RF Magnetron Sputtering2008
- 著者名/発表者名
  Akihiko Hiroe, Tetsuya Goto, Akinobu Teramoto,, Tadahiro Ohmi
- 学会等名
  Extended Abstracts of the 2008 International Conference on SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS
- 発表場所
  Tsukuba
- 年月日
  2008-09-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686021
[学会発表] Impact of the Use of Xe and Its Recycling System for Preparing Amorphous InGaZnO Thin Film Transistors by Dual-Target Rotation Magnet Sputtering
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Hidekazu Ishii, Shigetoshi Sugawa, and Tadahiro Ohmi
- 学会等名
  The Twelfth International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP 2013)
- 発表場所
  Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[学会発表] Spatial Distribution of Properties of a-IGZO Films Deposited by　Rotation Magnet Sputtering Incorporating Dual Target Structure
- 著者名/発表者名
  Tetsuya Goto, Shigetoshi Sugawa and Tadahiro Ohmi
- 学会等名
  International Display Workshops (IDW’12)
- 発表場所
  Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[学会発表] Electrical Properties of Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors Prepared by Magnetron Sputtering Using Kr and Xe Instead of Ar
- 著者名/発表者名
  T. Goto, S. Sugawa and T. Ohmi
- 学会等名
  Society for Information Display International Symposium 2013
- 発表場所
  Canada, Vancouver
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248
[学会発表] Application of Rotation Magnet Sputtering Technology to a-IGZO Film Depositions
- 著者名/発表者名
  T. Goto, S. Sugawa and T. Ohmi
- 学会等名
  Society for Information Display International Symposium 2014
- 発表場所
  USA, San Diego
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24760248

1. 諏訪智之 (70431541)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 6件
2. 大見忠弘 (20016463)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
3. 平山昌樹 (70250701)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
4. 大見俊一郎 (30282859)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 長岡克己 (80370302)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 舟窪浩 (90219080)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

後藤 哲也 GOTO Tetsiua

研究課題

研究成果

共同研究者

ポリイミド基板上に集積した多数TFTの自己整合的な特性ばらつき均一化技術の確立研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

分極/電荷蓄積融合型ハフニウム系不揮発性多値メモリの創製

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

回転マグネットスパッタ技術を用いた高性能酸化物半導体薄膜トランジスタの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

原子オーダ平坦な界面を有する３次元立体構造トランジスタの製造プロセスに関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

低消費電力・高精細大画面液晶テレビ用高性能ゲルマニウム薄膜トランジスタの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Evaluation of Silicon Nitride Film Formed Using Magnetic-Mirror Confined Plasma Source2019

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Atomically flattening of Si surface of silicon on insulator and isolation-patterned wafers2015

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

データソース

[雑誌論文] Low-cost Xe sputtering of amorphous In-Ga-Zn-O thin-film transistors by rotation magnet sputtering incorporating a Xe recycle-and-supply system2014

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Amorphous In-Ga-Zn-O thin-film transistors prepared by magnetron sputtering using Kr and Xe instead of Ar2014

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors Prepared by Magnetron Sputtering Using Kr and Xe Instead of Ar2014

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Impact of the Use of Xe on Electrical Properties in Magnetron-Sputtering Deposited Amorphous InGaZnO Thin-Film Transistors2013

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Low Contact Resistivity with Low Silicide/p^+-Silicon Schottky Barrier for High-Performance p-Channel Metal-Oxide-Silicon Field Effect Transistors2010

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si1-xGex by RF Magnetron Sputtering on SiO_2 Substrates2009

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Rotation Magnet Sputtering: Damage-Free Novel Magnetron Sputtering Using Rotating Helical Magnet with Very High Target Utilization2009

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Deposition of Microcrystalline Si_1-xGex by RF Magnetron Sputtering on Si0_2 Substrates2009

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Rotation Magnet Sputtering : Damage-Free Novel Magnetron Sputtering Using Rotating Helical Magnet with Very High Target Utilization2009

後藤哲也 GOTO Tetsiua