山本洋揮 YAMAMOTO HIROKI

研究者番号	00516958
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子技術基盤研究所量子機能創製研究センター, 主幹研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2025年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子技術基盤研究所量子機能創製研究センター, 主幹研究員 2022年度 – 2023年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所量子機能創製研究センター, 主幹研究員 2021年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, その他部局等, 研究員 2021年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所先端機能材料研究部, 主幹研究員 2018年度 – 2020年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所先端機能材料研究部, 主幹研究員(定常) … もっと見る 2017年度: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所先端機能材料研究部, 主任研究員(定常) 2011年度 – 2017年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 2010年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教(常勤) 2008年度 – 2009年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教隠す
審査区分/研究分野	研究代表者小区分26050:材料加工および組織制御関連 / 材料加工・処理 / 材料加工・組織制御工学 / 量子ビーム科学研究代表者以外原子力学 / 量子ビーム科学
キーワード	研究代表者ナノ材料 / 半導体微細化 / 材料・加工 / ナノ加工 / 半導体超微細化 / リソグラフィ / 材料加工・処理 / 量子ビーム / レジスト / 表面・界面物性 … もっと見る / 材料・加工処理 / ブロック共重合体 / レジスト材料 / 自己組織化 / 放射線 / 電子線リソグラフィ / 極端紫外光リソグラフィ / 電子・電気材料 … もっと見る研究代表者以外放射線、X線、粒子線 / 計算物理 / シミュレーション工学 / 半導体超微細化 / 粒子線 / 放射線 / 放射線、Ｘ線、粒子線 / X 線 / 原子力エネルギー / 原子・分子物理 / X線 / ナノ空間 / 熱化過程 / 高分子科学 / 化学増幅レジスト / シミュレーション / フェムト秒パルスジオリシス / ナノテクノロジー / 量子ビーム / ナノ時空間反応 / フェムト秒パルスラジオリシス隠す

シングルナノ微細加工材料・プロセス創成のための学術基盤の確立研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2025 – 2027
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分26050:材料加工および組織制御関連
- 研究機関
  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  国際共同研究加速基金(国際共同研究強化(A))
- 審査区分
  
  小区分26050:材料加工および組織制御関連
- 研究機関
  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
ダイレクトリソグラフィの実現を指向した金属極細線加工材料・プロセスの創出研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分26050:材料加工および組織制御関連
- 研究機関
  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
精度１nm以下を実現する量産細線技術の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2019
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  材料加工・組織制御工学
- 研究機関
  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
   大阪大学
有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いた極限量子ビーム微細加工プロセスの創成研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2016
- 研究種目
  
  若手研究(A)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  大阪大学
量子ビーム複合利用による最先端微細加工材料のナノ化学の研究
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  大阪大学
トップダウン・ボトムアップ融合型微細加工による金属ナノ構造体の創成と制御研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  大阪大学
量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
凝縮相における熱化電子の大きさの研究
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
超微細加工におけるナノトポグラフィ機構の解明と制御研究代表者
- 研究代表者
  
  山本洋揮
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(S)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学

[雑誌論文] A study on the resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and electron-beam lithography2024
- 著者名/発表者名
  Yamamoto Hiroki、Ito Yuko Tsutsui、Okamoto Kazumasa、Shimoda Shuhei、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 63 号: 4 ページ: 04SP87-04SP87
- DOI
  10.35848/1347-4065/ad38c5
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[雑誌論文] Competitive coexistence of ferromagnetism and metal insulator transition of VO2 nanoparticles2024
- 著者名/発表者名
  Hatano Tsuyoshi、Fukawa Akihiro、Yamamoto Hiroki、Akiba Keiichirou、Demura Satoshi、Takase Kouichi
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 63 号: 4 ページ: 04SP07-04SP07
- DOI
  10.35848/1347-4065/ad2d04
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[雑誌論文] Study on irradiation effects by femtosecond-pulsed extreme ultraviolet in resist materials2023
- 著者名/発表者名
  Yuji Hosaka, Hiroki Yamamoto, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, Yasunari Maekawa
- 雑誌名
  
  Proc. of SPIE
  
  巻: 12498 ページ: 100-100
- DOI
  10.1117/12.2670220
- NAID
  130008119663
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21KK0262
[雑誌論文] Study on Irradiation Effects by Femtosecond-pulsed Extreme Ultraviolet in Resist Materials2021
- 著者名/発表者名
  Hosaka Yuji、Yamamoto Hiroki、Ishino Masahiko、Dinh Thanh-Hung、Nishikino Masaharu、Kon Akira、Owada Shigeki、Inubushi Yuichi、Kubota Yuya、Maekawa Yasunari
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 34 号: 1 ページ: 95-98
- DOI
  10.2494/photopolymer.34.95
- NAID
  130008119663
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2021-06-11
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489, KAKENHI-PROJECT-21H03750
[雑誌論文] Lamellar Orientation of a Block Copolymer via an Electron-Beam Induced Polarity Switch in a Nitrophenyl Self-Assembled Monolayer or Si Etching Treatments2020
- 著者名/発表者名
  Yamamoto Hiroki、Dawson Guy、Kozawa Takahiro、Robinson Alex P. G.
- 雑誌名
  
  Quantum Beam Science
  
  巻: 4 号: 2 ページ: 1-10
- DOI
  10.3390/qubs4020019
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-20H02489
[雑誌論文] Sensitizers in extreme ultraviolet chemically amplified resist: mechanism of sensitivity improvement2018
- 著者名/発表者名
  Yannick Vesters Jing Jiang, Hiroki Yamamoto Danilo De Simone Takahiro Kozawa Stefan De Gendt Geert Vandenberghe
- 雑誌名
  
  J. Micro/Nanolith. MEMS. MOEMS
  
  巻: 17 号: 04 ページ: 1-1
- DOI
  10.1117/1.jmm.17.4.043506
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439, KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Role of Metal Sensitizers for Sensitivity Improvement in EUV Chemically Amplified Resist2018
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Yannick Vesters Jing Jiang Danilo De Simone Geert Vandenberghe
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 31 号: 6 ページ: 747-751
- DOI
  10.2494/photopolymer.31.747
- NAID
  130007603657
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2018-12-15
- 言語
  英語
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[雑誌論文] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties by means of Extreme Ultraviolet Irradiation2017
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, H. Kudo, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 30 ページ: 627-631
- NAID
  130006309146
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Dynamics of Radical Ions of Hydroxyhexafluoroisopropyl-Substituted Benzenes2017
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, N. Nomura, R. Fujiyoshi, K. Umegaki, H. Yamamoto, K. Kobayashi, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. A
  
  巻: 121 号: 49 ページ: 9458-9465
- DOI
  10.1021/acs.jpca.7b09842
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Synthesis and Property of Tellurium-Containing Polymer for Extreme Ultraviolet Resist Material2017
- 著者名/発表者名
  M. Fukunaga, H. Yamamoto, T. Kozawa, T. Watanabe, and H. Kudo
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 30 ページ: 103-107
- NAID
  130005950306
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties by means of Extreme Ultraviolet Irradiation2017
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, H. Kudo, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 30 号: 6 ページ: 627-631
- DOI
  10.2494/photopolymer.30.627
- NAID
  130006309146
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[雑誌論文] Synthesis of Metal Nanoparticles and Patterning in Polymeric Films Induced by Electron Nanobeam2017
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Muneyuki Naito, Jean-Louis. Marignier, Mehran Mostafavi, and Jacqueline Belloni
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. C
  
  巻: 121 号: 9 ページ: 5335-5340
- DOI
  10.1021/acs.jpcc.6b12543
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027, KAKENHI-PROJECT-16K14439, KAKENHI-PROJECT-26390058
[雑誌論文] Dynamics of radical cations of poly(4-hydroxystyrene) in the presence and absence of triphenylsulfonium triflate as determined by pulse radiolysis of its highly concentrated solution2016
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and K. Umegaki
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett.
  
  巻: 657 ページ: 44-48
- DOI
  10.1016/j.cplett.2016.05.058
- NAID
  120006488393
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Chemically amplified molecular resists based on noria derivatives containing adamantyl ester groups for electron beam lithography2016
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kozawa, H. Kudo, and K. Okamoto
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 34 号: 4 ページ: 041606-041606
- DOI
  10.1116/1.4953068
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-26706027
[雑誌論文] Controlled Array of Gold Nanoparticles by Combination of Nano Imprint and Self-assembly2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 29 号: 5 ページ: 765-768
- DOI
  10.2494/photopolymer.29.765
- NAID
  130005261829
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[雑誌論文] Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups2016
- 著者名/発表者名
  H. Kudo, H. Ogawa, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 29 ページ: 495-500
- NAID
  130005256573
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as Model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2015
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 119-124
- NAID
  130005090251
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as Model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2015
- 著者名/発表者名
  Masaki Mitsuyasu, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 28 号: 1 ページ: 119-124
- DOI
  10.2494/photopolymer.28.119
- NAID
  130005090251
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[雑誌論文] High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching2015
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Toshio Sekib, Jiro Matsuoc,　Kunihiko Koiked,　Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Microelectronic Engineering
  
  巻: 141 ページ: 145-149
- DOI
  10.1016/j.mee.2015.03.006
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447, KAKENHI-PROJECT-26706027
[雑誌論文] Position Control of Metal Nanoparticles by Self-Assembly2014
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 27 号: 2 ページ: 243-247
- DOI
  10.2494/photopolymer.27.243
- NAID
  130004678348
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[雑誌論文] Controlled arrangement of nanoparticles capped with protecting ligand on Au nanopatterns2014
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamotoa,Akira Ohnumab,Bunsho Ohtanib,Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Microelectronic Engineering
  
  巻: 121 ページ: 108-112
- DOI
  10.1016/j.mee.2014.02.028
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[雑誌論文] Acid generation mechanism in anion-bound chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography2014
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, H. Yamamoto, K. Kobayashi, Y. Utsumi, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 11 ページ: 116503-116503
- DOI
  10.7567/jjap.53.116503
- NAID
  210000144600
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[雑誌論文] Controlled Array of Silver Nanoparticles on Nanopatterns2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, A. Ohnuma, B. Ohtani, T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 495-499
- NAID
  130004833524
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[雑誌論文] Deprotonation of poly(4-hydroxystyrene) intermediates: pulse radiolysis study of EUV and electron beam resist2013
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Tyo Matsuda, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 6S ページ: 06GC04-06GC04
- DOI
  10.7567/jjap.52.06gc04
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037, KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Electron and Hole Transfer in Anion-Bound Chemically Amplified Resists Used in ExtremeUltraviolet Lithography2013
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, H. Yamamoto, Y. Utsumi, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 6巻号: 1 ページ: 14001-14001
- DOI
  10.7567/apex.6.014001
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128
[雑誌論文] Formation of nanoscale reaction field using combination of top-down and bottom-up nanofabricaiton2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, A. Ohnuma, B. Ohtani, T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Microelectron. Eng.
  
  巻: 110 ページ: 369-373
- DOI
  10.1016/j.mee.2013.02.066
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[雑誌論文] Radiation-induced synthesis of metal nanoparticles in ethers THF and PGMEA2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, M. NaitoJ.-L. Marignier, M. Mostafavi, and J. Belloni
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem.
  
  巻: 91 ページ: 148-155
- DOI
  10.1016/j.radphyschem.2013.05.019
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[雑誌論文] Location Control of Nanoparticles Using Combination of Top-down and Bottom-up Nano-fabrication2012
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto、A. Ohnuma、T. Kozawa, and B. Ohtani
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 449-453
- NAID
  40019347341
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[雑誌論文] Geminate Charge Recombination in Liquid Alkane with Concentrated CCl4 : Effects of CCl4 Radical Anion and Narrowing of Initial Distribution of Cl-2011
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, N.Yamamoto, Y.Yoshida, T.Kozawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem.A
  
  巻: 115 号: 36 ページ: 10166-10173
- DOI
  10.1021/jp205989r
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20686064, KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Dissolution Kinetics in Chemically Amplified EUV Resist2011
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa T. Ando, K. Ohmori, M. Sato, and J. Onodera
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 24 号: 4 ページ: 405-410
- DOI
  10.2494/photopolymer.24.405
- NAID
  130004464914
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[雑誌論文] Characterization of EUV irradiati on effects on Polystyrene Derivatives Studied by X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy(UPS)2011
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Proceeding of SPIE Advances in Resist Materials and Processing Tehcnology XXVII
  
  巻: 7972 ページ: 79721I-79721I
- DOI
  10.1117/12.879303
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[雑誌論文] Negative Chemically Amplified Molecular Resist Based on Novel Fullerene Derivative for Nanolithography2010
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Ando, K. Ohmori, M. Sato, and J. Onodera
- 雑誌名
  
  Proceeding of SPIE Advances in Resist Materials and Processing Tehcnology XXVII
  
  巻: 7639 ページ: 76390U-76390U
- DOI
  10.1117/12.846391
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronbphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010
- 著者名/発表者名
  S.Ikeda, K.Okamoto, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa, T.Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: 49 ページ: 96504-96504
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluoronaphthalene as a Candidate for Absorption Enhancement Component of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2010
- 著者名/発表者名
  S. Ikeda, K. Okamoto, H. Yamamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kozawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 49巻号: 9R ページ: 96504-96504
- DOI
  10.1143/jjap.49.096504
- NAID
  40017294753
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Negative Chemically Amplified Molecular Resist Based on Novel Fullerene Derivative for Nanolithography2010
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, T.Kozawa, S.Tagawa, T.Ando, K.Ohmori, M.Sato, J.Onodera
- 雑誌名
  
  Proceeding of SPIE Advances in Resist Materials and Processing Technology XXV II
  
  巻: 7639
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[雑誌論文] Reactivity of Haloge nated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2009
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa, T.Mimura, H.Yukawa, J.Onodera
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 48
  
  ページ: 6-9
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2009
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 48巻号: 6S ページ: 06FC09-06FC09
- DOI
  10.1143/jjap.48.06fc09
- NAID
  210000066909
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21656238
[雑誌論文] Enhancement of Acid Production in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express 1
  
  ページ: 47001-47001
- NAID
  10025080127
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Polymer structure dependence of acid generation in chemically amplified extreme ultraviolet resists2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  10018868104
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 6187-6190
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
- NAID
  40015511976
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Chemically Amplified Electron Beam Resist Thickness2006
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
  
  ページ: 5445-5449
- NAID
  10017998648
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Relationship between Acid Generator Concentration and Acid Yield in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 5735-5737
- NAID
  10017999650
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effects of Low Energy Electrons on Pattern Formation in Chemically Amplified Resist2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol. 19
  
  ページ: 361-366
- NAID
  130004833103
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction mechanism of fluorinated chemically amplified resists2006
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 1833-1836
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction Mechanisms of Brominated Chemically Amplified Resists2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44
- NAID
  10016590890
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resist Thickness Effect on Acid Concentration Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film upon Exposure to 75 keV Electron Beam2005
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
- NAID
  10016856520
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, H. Nemoto
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5832-5835
- NAID
  10016678348
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study on acid generation from polymer2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 23 ページ: 2728-2732
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol B23
  
  ページ: 2716-2720
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5836-5838
- NAID
  10016678367
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H., Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2716-2720
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[産業財産権] レジスト材料、レジストパターンの製造方法、及び　レジストパターン2022
- 発明者名
  吉村公男、山本洋揮、出崎亮、古澤孝弘、前川康成、他3名
- 権利者名
  量子科学技術研究開発機構
- 産業財産権種類
  特許
- 出願年月日
  2022
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] Study on Resist Performance of Inorganic-Organic Resist Materials for EUV and EB Lithography2024
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Yuko Tsutsui Ito, Kazumasa Okamoto and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography + Patterning 2024
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] レジスト材料における超短パルスEUV照射効果に関する研究2023
- 著者名/発表者名
  山本洋揮，保坂勇志，石野雅彦，ヂンタンフン，古澤孝弘，前川康成
- 学会等名
  第72回高分子討論会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] フォトリソグラフィと電子線リソグラフィのメタルレジストのリソグラフィ特性における基礎研究2023
- 著者名/発表者名
  山本洋揮，古澤孝弘
- 学会等名
  第84回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] Study on Resist Performance of Inorganic-Organic Resist Materials for EUV and EB Lithography2023
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Yuko Tsutsui Ito, Kazumasa Okamoto and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2023)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] メタルレジストのレジスト性能に関する研究2023
- 著者名/発表者名
  山本洋揮，岡本一将，古澤孝弘，前川康成
- 学会等名
  第66回放射線化学討論会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] Recent Research activity for EUV Lithography at QST2022
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Yuji Hosaka, Kimio Yoshimura, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, and Yasunari Maekawa
- 学会等名
  RadTech Asia 2022
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21KK0262
[学会発表] 極端紫外光（EUV）リソグラフィ用のマスク作製2022
- 著者名/発表者名
  山本洋揮，古澤孝弘
- 学会等名
  第83回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21KK0262
[学会発表] Recent Research activity for EUV Lithography at QST2022
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Yuji Hosaka, Kimio Yoshimura, Masahiko Ishino, Thanh-Hung Dinh, Masaharu Nishikino, and Yasunari Maekawa
- 学会等名
  The 39th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21KK0262
[学会発表] 金ナノパターン上のジチオールで修飾した金属ナノ粒子の配列制御2021
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第68回応用物理学春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] 最先端量子ビームによる次世代リソグラフィ材料・プロセスの開発2021
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第18回放射線プロセスシンポジウム
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] Study on Irradiation Effects by Femtosecond-pulsed Extreme Ultraviolet in Resist Materials2021
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto、Yuji Hosaka、Ishino Masahiko、Dinh Thanh-Hung、Nishikino Masaharu、Kon Akira、Owada Shigeki、Inubushi Yuichi、Kubota Yuya、Maekawa Yasunari
- 学会等名
  The 38th International Conference of Photopolymer Science and Technology, Online meeting
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] 電子線によるポリマー膜中の金属ナノ粒子の生成およびパターニングに関する研究2020
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第69回高分子学会年次大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] 電子ビーム照射による有機・無機ハイブリッド微細パターンの直接形成2020
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第69回高分子討論会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H02489
[学会発表] 電子線誘起による高分子薄膜における金属ナノ粒子の合成とパターニングに関する研究2019
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮、古澤孝弘、田川精一、マリグリナージャンルイ、モスタファビメラン、ジャックリンベローニ
- 学会等名
  第66回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] 自己組織化単分子膜の極性変化を用いたポリスチレン-ポリメチルメタクリレートブロック共重合体のラメラ配向2019
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第68回高分子討論会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] 電子線誘起による自己組織化単分子膜の極性変化を用いたブロック共重合体のラメラ方向制御2019
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第68回高分子学会年次大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] 放射線化学によるポリマーフィルムへの金属ナノパターン形成2018
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第61回放射線化学討論会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] 電子線誘起による高分子薄膜における金属ナノ粒子の合成とパターニングに関する研究2018
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮、古澤孝弘、田川精一、マリグリナージャンルイ、モスタファビメラン、ジャックリンベローニ
- 学会等名
  次世代リソグラフィワークショップ2018
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Role of Metal Sensitizers for Sensitivity Improvement in EUV Chemically Amplified Resist2018
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Yannick Vesters Jing Jiang Danilo De Simone Geert Vandenberghe
- 学会等名
  The 35th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Synthesis of Metal Nanoparticle and Patterning in Polymeric Films Induced by Electron Beam2018
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Jean-Louis Marignier, Mehran Mostafavi, and Jacqueline Belloni
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2018
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Lamellar orientation of block copolymer using polarity switch of Nitrophenyl self-assembled monolayer (SAM) induced by electron beam2017
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Guy Dawson, Takahiro Kozawa, Alex P. G. Robinson
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2017
- 発表場所
  California, USA
- 年月日
  2017-02-26
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties by means of Extreme Ultraviolet Irradiation2017
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  The 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Nanofabrication method for two dimensional controlled array of core-shell nanoparticles in large scale fabrication by using self-assembled Au@SiO2 nanoparticle in solvent intaerface2017
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A. Lehoux, B. Ohtani, T. Kozawa
- 学会等名
  The 43rd International Conference on Micro and Nanoengineering
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] トップダウン・ボトムアップ技術の融合による金属ナノ粒子の位置制御2017
- 著者名/発表者名
  山本洋揮、大沼明、大谷文章、古澤孝弘
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Synthesis of Metal Nanoparticles and Patterning in Polymeric Films Induced by Electron Nanobeam2017
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Jean-Louis Marignier, Mehran Mostafavi, and Jacqueline Belloni
- 学会等名
  The 30th Miller Conference on Radiation Chemistry
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] アセタール基で保護したノーリア誘導体に基づいたレジスト材料の電子線照射に対する応答性の系統的な研究2016
- 著者名/発表者名
  山本洋揮, 工藤宏人, 古澤孝弘
- 学会等名
  第77回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  新潟県新潟市
- 年月日
  2016-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties for EUV lithography with Various2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  2016 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  Hiroshima, Japan
- 年月日
  2016-10-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Selective Immobilization of Metal Nanoparticles Using Self-assembly Techniques2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  42nd Micro and Nano Engineering
- 発表場所
  Vienna, Austria
- 年月日
  2016-09-19
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Study on Resist Performance of Noria Derivatives Modified with Various Protection Ratios of Acetal Moieties for EUV lithography2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, and Takahiro kozawa
- 学会等名
  2016 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  Hiroshima, Japan
- 年月日
  2016-10-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  2016 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  California, USA
- 年月日
  2016-06-13
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Controlled Array of Gold Nanoparticles by Combination of Nano Imprint and Self-assembly2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  The 33th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba, Japan
- 年月日
  2016-06-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Synthesis and Resist Properties of Calixarene Polymers with Pendant Haloalkyl Groups2016
- 著者名/発表者名
  H. Kudo, H. Ogawa, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  The 33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba, Japan
- 年月日
  2016-06-22
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography2016
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, H. Kudo, and T. Kozawa
- 学会等名
  2016 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  CA, USA
- 年月日
  2016-06-13
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Fabrication of High Aspect Ratio Nanostructure by Using ClF3-Ar Neutral Cluster Etching2016
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Toshio Seki, Jiro Matsuo, Kunihiko Koike, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  38th International Symposium on Dry Process
- 発表場所
  Hokkaido, Japan
- 年月日
  2016-11-21
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K14439
[学会発表] Radiation-induced synthesis of metal nanoparticles in ethers THF and PGMEA2015
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa,Jean-Louis Marignier，Mehran Mostafavi，Jacqueline Belloni
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  ハワイ　(アメリカ）
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Study on Fusion between Electron Beam Lithography and Self-assembly for Advanced Patterning2015
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  15th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  国立京都国際会館　（京都府　京都市）
- 年月日
  2015-05-25
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography2015
- 著者名/発表者名
  Masaki Mitsuyasu, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ　（千葉県　千葉市）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Dissolution Dynamics of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography Studied by Quartz Crystal Microbalance2015
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  2015 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  米国ハワイ
- 年月日
  2015-07-15
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] 微細加工技術による金属ナノ粒子の位置制御2015
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  先端放射線化学シンポジウム
- 発表場所
  浜名湖　かんざんじ荘　（静岡県　浜松市）
- 年月日
  2015-09-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Study on Resist Performance of Chemically Amplified Molecular Resist based on Noria Derivative and Calixarene Derivative for EUV lithography2015
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  2015 International EUVL Symposiuｍ
- 発表場所
  マーストリヒト　（オランダ）
- 年月日
  2015-10-05
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Acid Generation Mechanism in Solid Poly(4-hydroxystyrene) upon Exposure to Electron Beam2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, K. Okamoto, T. Kozawa
- 学会等名
  26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Hokkaido, Japan,
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Controlled Array of Silver Nanoparticles on Nanopatterns2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, A. Ohnuma, B. Ohtani, T. Kozawa
- 学会等名
  30th International Conference of Photopolymer Science and Tecnology Conference
- 発表場所
  Chiba, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Controlled arrangement of nanoparticles capped with protecting ligand2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, A. Ohnuma, B. Ohtani, T. Kozawa
- 学会等名
  The 39th International Conference on Micro and Nano Engineering
- 発表場所
  London, England
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Formation of Nano Reaction Field Using Combination of Top-down and Bottom-up Nanofabricaiton2012
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto、A. Ohnuma、B. Ohtani and T. Kozawa
- 学会等名
  38th International Micro & Nano Engineering Conference (MNE 2012)
- 発表場所
  Toulouse、France
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Position Control of Gold Nano-particles by Fine Fabrication Technology of Topdown-Bottom-up2012
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto、A. Ohnuma、T. Kozawa, and B. Ohtani
- 学会等名
  29th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Dissolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemi cally Amplified Resistsupon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2011
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto
- 学会等名
  The 12th Pacific Polymer Conference
- 発表場所
  Jeju・Korea
- 年月日
  2011-11-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] EUV化学増幅レジストの現像解析2011
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形大学(山形市)
- 年月日
  2011-08-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] EUV化学増幅レジストの現像解析2011
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  International Conference of Photopolymer Sciecne and Technology (ICPST-28)
- 発表場所
  千葉市千葉大学
- 年月日
  2011-06-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] Disolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemically Amplified EUV Resists2011
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto
- 学会等名
  2011 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  Miami Florida USA
- 年月日
  2011-10-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] Disolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemically Amplified EUV Resists2011
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto
- 学会等名
  2011 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  Miami Florida・USA
- 年月日
  2011-10-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] Dissolution Kinetics and Deprotection Reaction in Chemically Amplified Resists upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2011
- 著者名/発表者名
  Hiroki Yamamoto
- 学会等名
  The 12th Pacific Polymer Conference
- 発表場所
  Jeju Korea
- 年月日
  2011-11-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] EUV化学増幅レジストの現像解析2011
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  山形市山形大学
- 年月日
  2011-08-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] EUV化学増幅レジストの現像解析2011
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  International Conference of Photopolymer Sciecne and Technology
- 発表場所
  千葉大学(千葉市)
- 年月日
  2011-06-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] ナノリソグラフィ用新規フラーレン誘導体に基づいたネガ型化学増幅型分子レジスト2010
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学文教キャンパス
- 年月日
  2010-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] ナノリソグラフィ用新規フラーレン誘導体に基づいたネガ型化学増幅型分子レジスト2010
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学文教キャンパス(長崎市)
- 年月日
  2010-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] 化学増幅型EUVレジストにおける脱保護反応2009
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  放射線化学討論会
- 発表場所
  福井工業大学(福井県)
- 年月日
  2009-09-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] 化学増幅型EUVレジストにおける脱保護反応2009
- 著者名/発表者名
  山本洋揮
- 学会等名
  第52回放射線化学討論会
- 発表場所
  福井工業大学福井大学(福井市)
- 年月日
  2009-09-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21760584
[学会発表] Study on Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Acid generation mechanism in anion bound chemically amplified resists used for extreme-ultraviolet lithography
- 著者名/発表者名
  Y. Komuro, H. Yamamoto, K. Kobayashi, K. Ohomori, and T. Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2015-02-22 – 2015-02-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  SPIE Advanced Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2007-02-25 – 2007-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effects of low-molecular weight resist components on dissolution behavior of chemically-amplified resists for extreme ultraviolet lithography studied by quartz crystal microbalance
- 著者名/発表者名
  M. Masaki, H. Yamamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2015-02-22 – 2015-02-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Fundamental Study on Dissolution Behavior of Chemically Amplified Resist for EUV Lithography
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto and T. Kozawa
- 学会等名
  Photomask Japan 2014
- 発表場所
  Yokohama, Kanagawa, Japan
- 年月日
  2014-04-15 – 2014-04-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] Difference between initial distributions of proton and counter anion in chemically amplified electron-beam resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki and S. Tagawa
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on Dissolution Behavior of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography
- 著者名/発表者名
  M. Mitsuyasu, H. Yamamoto and T. Kozawa
- 学会等名
  27th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- 年月日
  2014-11-04 – 2014-11-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036
[学会発表] 環状オリゴマーに基づいた化学増幅型分子レジストのレジスト性能評価に関する研究
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Position Control of Metal Nano Particle by Self Assembly
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮
- 学会等名
  31st International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-31) 
- 発表場所
  千葉大学
- 年月日
  2014-07-08 – 2014-07-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Radiation-induced Synthesis of Metal Nanoparticles in Ethers THF and PGMEA
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮
- 学会等名
  The 5th Asia Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  東京大学
- 年月日
  2014-09-08 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447
[学会発表] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Radiation-induced Synthesis of Metal Nanoparticles in Ethers THF and PGMEA
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮
- 学会等名
  The 5th Asia Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  東京大学弥生講堂
- 年月日
  2014-09-08 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26706027
[学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa H. Yukawa, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  2007 International EUVL Symposium
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-10-28 – 2007-10-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] The reaction mechanism of poly[4-hydroxystyrene-co-4-(1, 1, 1, 3, 3, 3-hexafluoro-2- hydroxypropyl)-styrene]
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] High-aspect-ratio patterning by ClF3-Ar neutral cluster etching
- 著者名/発表者名
  山本　洋揮
- 学会等名
  40th Micro nad Nano Engineering 2014
- 発表場所
  ローザンヌ　スイス
- 年月日
  2014-09-22 – 2014-09-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24656447

1. 古澤孝弘 (20251374)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 42件
2. 小林一雄 (30116032)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 3件
3. 田川精一 (80011203)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 22件
4. 関修平 (30273709)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 佐伯昭紀 (10362625)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 9件
6. 岡本一将 (10437353)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 11件
7. 楊金峰 (90362631)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 室屋裕佐 (40334320)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
9. 濱田崇 (30600019)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
10. Belloni J.

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
11. Robinson A. P. G.

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件

山本 洋揮 YAMAMOTO HIROKI

研究課題

研究成果

共同研究者

シングルナノ微細加工材料・プロセス創成のための学術基盤の確立研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

ダイレクトリソグラフィの実現を指向した金属極細線加工材料・プロセスの創出研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

精度１nm以下を実現する量産細線技術の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

有機・無機ハイブリッドナノ粒子を用いた極限量子ビーム微細加工プロセスの創成研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

量子ビーム複合利用による最先端微細加工材料のナノ化学の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

トップダウン・ボトムアップ融合型微細加工による金属ナノ構造体の創成と制御研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

量子ビーム複合利用によるナノ空間反応および反応場の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

凝縮相における熱化電子の大きさの研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

超微細加工におけるナノトポグラフィ機構の解明と制御研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] A study on the resist performance of inorganic-organic resist materials for EUV and electron-beam lithography2024

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Competitive coexistence of ferromagnetism and metal insulator transition of VO2 nanoparticles2024

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

山本洋揮 YAMAMOTO HIROKI