田川精一 TAGAWA Seiichi

研究者番号	80011203
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2011年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 特任教授 1993年度 – 2008年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 1999年度: 大阪大学・産業科学研究所 1992年度: 東京大学, 原子力研究総合センター, 助教授 1989年度: 東京大学, 原子力研究総合センター, 助教授 … もっと見る 1988年度: 東京大学, 原総セ, 助教授 1987年度: 東京大学, 原子力研究総合センター, 助教授 1986年度: 東大, 国立大学(その他), 助教授 1985年度: 東京大学, 国立大(その他), 助教授隠す
審査区分/研究分野	研究代表者原子力学 / 原子力学研究代表者以外原子力学 / エネルギー学一般・原子力学 / 原子力学 / 原子力学 / 物理化学一般
キーワード	研究代表者パルスラジオリシス / 過渡吸収 / ラジカルアニオン / ラジカルカチオン / ピロール / ヘテロ元素 / ポリシラン / 低温固相重合反応 / ラジカル重合反応 / ポリアセチレン … もっと見る / 放射線 / フェニルアセチレン / アセチレン / DNA / 阻止能 / レジスト / フェムト秒パルスジオリシス / ナノテクノロジー / フェムト秒パルスラジオリシス / エキサイプレックス / resist / spatiotemporal dynamics / reaction mechanism / diffusion / spatial distribution / nanotechnology / nanostructure / femtosecond pulse radiolysis / モンテカルロシミュレーション / 時間挙動 / 反応機構 / 拡散方程式 / 空間分布 / ナノ構造 / primary processes of radiation chemistry / coherent radiation / guanine / hydrated electron / water / femtosecond / pulse radiolysis / 初期過程 / 生体 / レーザー / 電子ビーム / コヒーレント放射 / 溶媒和電子 / 放射線化学初期過程 / 遠赤外コヒーレント放射 / グアニン / 水和電子 / 水 / フェムト秒 / LET / 発光スペクトル / イオン照射 / ナノ秒イオンパルスラジオリシス / イオンビーム / 高密度電子励起 / 高分子 / 時間分解 / イオン衝撃 / ナノ空間 / 熱化過程 / 高分子科学 / 化学増幅レジスト / シミュレーション / 量子ビーム / ナノ時空間反応 / 過度吸収 / σ-πミキシング … もっと見る研究代表者以外パルスラジオリシス / 陽電子 / ポリシラン / イオンビーム / SiC / 陽電子寿命 / Smoluchowski equation / Cation Radical / Electron / Geminate Ion Recombination / Alkane / Picosecond Pulse Radiolysis / Primary Processes / スモルコフスキー方程式 / カチオンラジカル / 電子 / ジェミネートイオン再結合 / アルカン / ピコ秒パルスラジオリシス / 放射線分解初期過程 / Polysilane / 放射線化学 / photocathode rf gun / double-decker electron beams / ultrafast reactions / time-resolved spectroscopy / attosecond electron beam / femtosecond electron beam / pulse radiolysis / Ultrafast measurement / アト秒電子線励起時間分解吸収分光 / サブフェムト秒電子パルス / ダブルテッカー電子加速器 / アト秒電子線連記時間分解吸収分光 / サブフェムト秒電子線励起時間分解吸収分光 / フォトカソードRF電子銃加速器 / ダブルデッカー電子加速器 / 電子線励起時間分解吸収分光 / フォトカソードRF電子銃 / ダブルデッカー電子ビーム / 超高速反応解析 / 時間分解呼吸分光 / アト秒電子パルス / フェムト秒電子パルス / 計測工学 / helix dtructure / bound water / free water / free volume hole radius / swelling proccess / biopolymer gel / diffrerncial scanning calorimetry / positron annihilation lifetime spectroscopy / 培養マトリクス / ナノ構造 / 架橋 / コラーゲン / 量子線プロセス / 生体軟組織 / 網目構造 / 陽電子消滅法 / ゼラチン / 吸収線量 / 生体組織 / ゲル化 / 生体高分子 / ナノ空間構造 / ヘリックス構造 / 結合水 / 自由水 / 自由体積空孔半径 / 膨潤過程 / 生体高分子ゲル / 熱分析 / 陽電子寿命測定法 / Nanostructure / Nanotube / Ion Track / Nanowire / Single Event / Ion Beam / 超微細構造体 / ナノチューブ / イオントラック / ナノワイヤー / シングルイベント / Electron linear accelerator / Pulsed positron beam / Multiple irradiation / Synchronization / Positronium / Positron / 電子ライナツク / パルスビーム / 複合照射 / レーザー同期 / ポジトロニウム / molecular dynamics simulation / free volume / positron lifetime / crystalline / S-parameter / remoderator / positron / solid rare gas / 波動関数 / 動径分布関数 / Sパラメータ / リモデレータ / 拡散距離 / Sバラメーター / 分子動力学 / 自由体積 / 結晶性 / Sパラメーター / リモデレーター / 希ガス固体 / Charge Transfer Reaction / フェムト秒レーザー / 放射線化学初期過程 / 電荷移動反応 / Radiation Chemistry / UV Spectrum / Amphiphile / Photoconductivity / Langmuir-Blodgett Film / Amphiphilic Polysilane / 過渡吸収スペクトル / PMPS / イオン励起発光 / LB膜 / 両親媒性 / 紫外吸収スペクトル / 両親媒性物質 / 光伝導性 / ラングミュア・ブロジェット膜 / 両親媒性ポリシラン / POLYSILANE / EMISSION SPECTRA / POLYMER THIN FILM / RADIATION EFFECTS / HIGH ENERGY ION BEAM / 高分子 / イオンビーム照射 / 発光スペクトル / 高分子薄膜 / 放射線照射効果 / 高エネルギーイオンビーム / 高品質電子ビーム / 高励起 / 高密度励起 / 特異反応 / 照射効果 / 高エネルギービーム / 液体アルゴン泡箱 / 放出粒子 / 表面構造変化 / 自己捕獲励起子 / F中心 / ヘテロエピタキシャル成長 / 過冷却溶融層 / 超高速結晶化 / レーザー照射 / 欠陥反応 / 表面・界面反応 / 電子励起 / ナノ材料 / マイクロアレイ / 超低エネルギーEB / ナノ加工 / プラズマ / アレイ電極 / 金属還元 / ナノ粒子 / 量子ビーム / 光電子増倍管 / 高速中性子源炉 / 蛍光コンバーター / 高感度テレビカメラ / 高速中性子テレビジョン / 高速中性子ラジオグラフィ / 国際共同研究 / ラジカル反応過程 / 励起原子分子反応過程 / イオン反応過程 / 電子反応過程 / 初期イオン化・励起過程隠す

量子ビームを用いた高アスペクトマルチナノアレイエレクトロッドの作製
- 研究代表者
  
  大島明博
- 研究期間 (年度)
  2009 – 2011
- 研究種目
  
  若手研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(S)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
サブフェムト秒・アト秒電子線励起時間分解吸収分光法の基礎研究
- 研究代表者
  
  吉田陽一
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ構造内反応機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2004
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
陽電子消滅法を利用した生体高分子ゲルのナノ空間構造解析
- 研究代表者
  
  西嶋茂宏
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
高エネルギー粒子線による伝導性高分子のナノワイヤー形成
- 研究代表者
  
  関修平
- 研究期間 (年度)
  2001 – 2003
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
主鎖・側鎖にヘテロ元素を有する非炭素骨格高分子の電子物性研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1999
- 研究種目
  
  特定領域研究(A)
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒量子ビーム複合利用による水溶液の放射線化学初期過程の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2001
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
低速陽電子パルス・レーザー複合照射による高分子内自由体積の研究
- 研究代表者
  
  誉田義英
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2001
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
低温固相重合反応におけるトンネル効果の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1998
- 研究種目
  
  特定領域研究(A)
- 研究機関
  大阪大学
主鎖・側鎖にヘテロ元素を有する非炭素骨格高分子の電子物性研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1998
- 研究種目
  
  特定領域研究(A)
- 研究機関
  大阪大学
陽電子ビーム輝度増強用希ガス固体リモデレーターの開発
- 研究代表者
  
  西嶋茂宏
- 研究期間 (年度)
  1998 – 2000
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学
低温固相重合反応におけるトンネル効果の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1997
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  大阪大学
主鎖・側鎖にヘテロ元素を有する非炭素骨格高分子の電子物質研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1997
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  大阪大学
レーザー同期パルスラジオリシス法による放射線化学初期過程の研究
- 研究代表者
  
  吉田陽一
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  大阪大学
低温固相重合反応におけるトンネル効果の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1996
- 研究種目
  
  重点領域研究
- 研究機関
  大阪大学
ピコ秒パルスラジオリシス法によるアルカン分解初期過程の研究
- 研究代表者
  
  吉田陽一
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1996
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  大阪大学
イオンビーム照射による固体内および表面における化学反応機構の研究
- 研究代表者
  
  柴田裕実
- 研究期間 (年度)
  1993 – 1994
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  東京大学
量子ビームによるポリシランLB膜の構造制御とキャラクタリゼーション
- 研究代表者
  
  浅井圭介
- 研究期間 (年度)
  1993 – 1994
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  エネルギー学一般・原子力学
- 研究機関
  東京大学
高速中性子テレビジョン用蛍光コンバーターの開発研究
- 研究代表者
  
  吉井康司
- 研究期間 (年度)
  1992
- 研究種目
  
  一般研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  東京大学
放射線化学基礎過程研究の新展開
- 研究代表者
  
  旗野嘉彦
- 研究期間 (年度)
  1989
- 研究種目
  
  総合研究(B)
- 研究分野
  
  物理化学一般
- 研究機関
  東京工業大学
高エネルギービームの照射効果の基礎と応用
- 研究代表者
  
  田畑米穂
- 研究期間 (年度)
  1988
- 研究種目
  
  総合研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  東京大学
イオン衝撃による有機固体材料励起の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1986
- 研究種目
  
  特定研究
- 研究機関
  東京大学
イオン衝撃による有機固体材料励起の研究研究代表者
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  1985
- 研究種目
  
  特定研究
- 研究機関
  東京大学
イオン衝突による固体励起の電子的過程の研究
- 研究代表者
  
  升田公三
- 研究期間 (年度)
  1985 – 1987
- 研究種目
  
  特定研究
- 研究機関
  筑波大学

すべて 2012 2011 2010 2009 2008 2007 2006 2005 2004 2003 その他

すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] Nano-and micro-fabrication of perfluorinated polymers using quantum beam technology、Radiat2011
- 著者名/発表者名
  N. Miyoshi、A. Oshima、T. Urakawa、N. Fukutake、H. Nagai、T. Gowa、Y. Takasawa、T. Takahashi、Y. Numata、T. Katoh、E. Katoh、S. Tagawa、M. Washio
- 雑誌名
  
  Phys. Chem
  
  巻: 80 号: 2 ページ: 230-235
- DOI
  10.1016/j.radphyschem.2010.07.037
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[雑誌論文] Nanofabrication of Sulfonated Polystyrene-g-FEP with Silver Ion(Ag+) using Ion Beam Direct Etching and Reduction2011
- 著者名/発表者名
  H. Tsubokura、A. Oshima、T. G. Oyama、H. Yamamoto、T. Murakami、S. Tagawa、M. Washio
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 24 ページ: 513-516
- NAID
  130004833407
- URL
  http://www.jstage.jst.go.jp/article/photopolymer/24/5/513/_pdf
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[雑誌論文] Nanofabrication of Sulfonated Polystyrene-g-FEP with Silver Ion (Ag^+) using Ion Beam Direct Etching and Reduction2011
- 著者名/発表者名
  H.Tsubokura, A.Oshima, T.G.Oyama, H.Yamamoto, T.Murakami, S.Tagawa, M.Washio
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 24 ページ: 513-516
- NAID
  130004833407
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[雑誌論文] Nano- and micro-fabrication of perfluorinated polymers using quantum beam technology2011
- 著者名/発表者名
  Nozomi Miyoshi, Akihiro Oshima, Tatsuya Urakawa, Naoyuki Fukutake, Hiroyuki Nagai, Tomoko Gowa, Yuya Takasawa, Tomohiro Takahashi, Yukari Numata, Takanori Katoh, Etsuko Katoh, Seiichi Tagawa, Masakazu Washio
- 雑誌名
  
  RadiationPhysicsandChemistry
  
  巻: 80 ページ: 230-235
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[雑誌論文] X-ray reflectivity study on depth profile of acid generator distribution in chemically amplified resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Takasu, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express 1
  
  ページ: 65004-65004
- NAID
  10025081173
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: 103 ページ: 84306-84306
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Enhancement of Acid Production in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express 1
  
  ページ: 47001-47001
- NAID
  10025080127
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Latent image formation in chemically amplified extreme ultraviolet resists with low activation energy for deprotection reaction2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa J. J. Santillan, T. Itani
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 26 ページ: 2257-2260
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Difference between Acid Generation Mechanisms in Poly(hydroxystyrene)- and Polyacrylate-Based Chemically Amplified Resists upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2008
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Shimizu, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 47
  
  ページ: 7125-7127
- NAID
  40016294928
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Difference in Reaction Schemes in Photolysis of Triphenylsulfonium Salts between 248 nm and Dry/Wet 193 nm Resists2008
- 著者名/発表者名
  Y. Matsui, H. Sugawara, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Itani
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 1 ページ: 36001-36001
- NAID
  10025079690
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Feasibility Study of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists for 22 nm Fabrication2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 47 ページ: 4465-4468
- NAID
  40016110961
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Formation of Intramolecular Poly(4-hydroxystyrene) Dimer Radical Cation2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem B 112
  
  ページ: 9275-9280
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structures of Acid Generators upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation2008
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 1 ページ: 27004-27004
- NAID
  10025079296
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effects of Rate Constant for Deprotection on Latent Image Formation in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 47 ページ: 4926-4931
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 47 ページ: 4932-4935
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Polymer structure dependence of acid generation in chemically amplified extreme ultraviolet resists2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  10018868104
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  210000063830
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF_22007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 407-411
- NAID
  10018705573
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF22007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 46
  
  ページ: 407-411
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared2007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared A 111
  
  ページ: 1229-1235
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 6187-6190
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46 ページ: 7285-7289
- NAID
  40015705098
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem. 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 25 ページ: 2481-2485
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Resist for Extreme Ultraviolet Lithography2007
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  40015671035
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Theoretical Study on Relationship between Acid Generation Efficiency and Acid Generator Concentration in Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46
- NAID
  210000063809
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
- NAID
  40015511976
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Image contrast slope and line edge roughness of chemically amplified resists for postoptical lithography2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 25 ページ: 2295-2300
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives, Radiat2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Phys. Chem 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared2007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. A 111
  
  ページ: 1229-1235
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Sensitization Distance and Acid Generation Efficiency in a Model System of Chemically Amplified Electron Beam Resist with Methacrylate Backbone Polymer2007
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol. 20
  
  ページ: 577-583
- NAID
  130004464589
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys. 99
  
  ページ: 54509-54509
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Line edge roughness of a latent image in post-optical lithography2006
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao
- 雑誌名
  
  Nanotechnology
  
  巻: 17 ページ: 1543-1546
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Chemically Amplified Electron Beam Resist Thickness2006
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
  
  ページ: 5445-5449
- NAID
  10017998648
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reactivity of Acid Generators for Chemically Amplified Resists with Low-Energy Electrons2006
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Szreder, J. F. Wishart, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45
- NAID
  10018159212
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot2006
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. A 556
  
  ページ: 391-396
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006
- 著者名/発表者名
  J. Yang, T. Kondoh, K. Kan, T. Kozawa, Y. Yoshida, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl. Instrum. Meth. A
  
  巻: 556 ページ: 52-56
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, K.Kan, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A 556
  
  ページ: 52-56
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Equivalent Velocity Spectroscopy for Femtosecond Pulse Radiolysis2006
- 著者名/発表者名
  T.Kondoh, J.Yang, T.Kozawa, S.Tagawa, Y.Yoshida
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics (in press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography Jpn2006
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys 45
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Correlation between proton dynamics and line edge roughness in chemically amplified resist for post-optical lithography2006
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 3066-3072
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid generation efficiency in a model system of chemically amplified extreme ultraviolet resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. Oizumi, I. Nishiyama
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 3055-3060
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid Generation Mechanism of Poly (4-hydroxystyrene) -Based Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography : Acid Yield and Deprotonation Behavior of Poly (4-hydroxystyrene) and Poly (4-methoxystyrene)2006
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 6866-6871
- NAID
  10018245439
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Pulse radiolysis of polystyrene in cyclohexane -Effect of carbon tetrachloride on kinetic dynamics of dimer radical cation-2006
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, T.Kozawa, M.Miki, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett. 426
  
  ページ: 306-310
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Relationship between Acid Generator Concentration and Acid Yield in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 5735-5737
- NAID
  10017999650
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys 99
  
  ページ: 54509-54509
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot, Nucl2006
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Instrum. Meth A 556
  
  ページ: 391-396
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
- NAID
  10018460952
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Pulse radiolysis based on a femtosecond electron beam and a femtosecond laser light with double-pulse injection technique2006
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiation Physics and Chemistry (in press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Low Energy Electrons on Pattern Formation in Chemically Amplified Resist2006
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol. 19
  
  ページ: 361-366
- NAID
  130004833103
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction mechanism of fluorinated chemically amplified resists2006
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 1833-1836
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Femtosecond single electron bunch generation by rotating longitudinal bunch phase space in magnetic field2006
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, K.Kan, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instr.and Meth.A 556
  
  ページ: 52-56
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Equivalent Velocity Spectroscopy for Femtosecond Pulse Radiolysis2006
- 著者名/発表者名
  T.Kondoh, J.Yang, T.Kozawa, S.Tagawa, Y.Yoshida
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics (In press)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse radiolysis based on a femtosecond electron beam and a femtosecond laser light with double-pulse injection technique2006
- 著者名/発表者名
  J. Yang, T. Kondoh, T. Kozawa, Y. Yoshida, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem.
  
  巻: 75 ページ: 1034-1040
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol.B 23
  
  ページ: 2716-2720
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Application of Positron to the Polymer Electrolyte Membrane Fuel Cell2005
- 著者名/発表者名
  Y.Honda, N.Kimura, G.Isoyama, S.Tagawa, S.Nishijima, S.Takeda
- 雑誌名
  
  Int.Sympo.of 21^<st> Century COE "Towards Creating New Industries Based on Inter-Nanoscience"
  
  ページ: 114-114
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14380235
[雑誌論文] Nanopatterning of polyfluorene derivative using electron-beam lithography2005
- 著者名/発表者名
  Y.Doi, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2051-2055
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction Mechanisms of Brominated Chemically Amplified Resists2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44
- NAID
  10016590890
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Experimental Studies of Transverse and Longitudinal Beam Dynamics in Photoinjector2005
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 44
  
  ページ: 8702-8707
- NAID
  10016959691
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Basic Aspects of Acid Generation Process in Chemically Amplified Electron Beam Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology., 18
  
  ページ: 471-474
- NAID
  130004464438
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Basic Aspects of Acid Generation Process in Chemically Amplified Electron Beam Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology 18
  
  ページ: 471-474
- NAID
  130004464438
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Resist Thickness Effect on Acid Concentration Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film upon Exposure to 75 keV Electron Beam2005
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
- NAID
  10016856520
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, H. Nemoto
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5832-5835
- NAID
  10016678348
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth. A546
  
  ページ: 627-633
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Basic Aspects of Acid Generation Process in Chemically Amplified Electron Beam Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, Seiichi Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 18
  
  ページ: 471-474
- NAID
  130004464438
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Multi spur effect on decay kinetics of geminate ion recombination using Monte Carlo technique2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth. B234
  
  ページ: 285-290
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study on acid generation from polymer2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 23 ページ: 2728-2732
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol B23
  
  ページ: 2716-2720
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Correlation between Edge Roughness of Nanostructures and Backbone Configuration of Polymer Materials2005
- 著者名/発表者名
  S.Seki, S.Tsukuda, S.Tagawa, M.Sugimoto
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology., 18
  
  ページ: 449-450
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Dielectric Constant on Acid Generation in Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 3908-3912
- NAID
  10016441312
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Experimental Studies of Transverse and Longitudinal Beam Dynamics in Photoinjector2005
- 著者名/発表者名
  J.Yang, T.Kondoh, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 8702-8707
- NAID
  10016959691
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5836-5838
- NAID
  10016678367
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Requirements for Laser-Induced Desorption/Ionization on Submicrometer Structures2005
- 著者名/発表者名
  S. Okuno, R. Arakawa, K. Okamoto, Y. Matsui, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, Y. Wada
- 雑誌名
  
  Anal. Chem.
  
  巻: 77 ページ: 5364-5369
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H., Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 2716-2720
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Kashiwagi, K.Okamoto, G.Isoyama, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A 546
  
  ページ: 627-633
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Correlation between Edge Roughness of Nanostructures and Backbone Configuration of Polymer Materials2005
- 著者名/発表者名
  S.Seki, S.Tsukuda, S.Tagawa, M.Sugimoto
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology. 18
  
  ページ: 449-450
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Correlation between Edge Roughness of Nanostructures and Backbone Configuration of Polymer Materials2005
- 著者名/発表者名
  S.Seki, S.Tsukuda, S.Tagawa, M.Sugimoto
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 18
  
  ページ: 449-450
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, H.Yamamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science Technology B 23
  
  ページ: 2716-2720
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Synchronization of femtosecond UV-IR laser with electron beam for pulse radiolysis studies2005
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, S.Kashiwagi, K.Okamoto, G.Isoyama, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth.A 546
  
  ページ: 627-633
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radioly sis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Physics and Chemistry A 108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 3489-3492
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Polymer Screening Method for Chemically Amplified Electron Beam and X-Ray Resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamo to, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Effects of Ester Groups on Proton Generation and Diffusion in Polymethacrylate Matrices2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse radiolysis study on proton and charge transfer reactions in solid poly(methyl methacrylate).2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Adjacent effect on positive charge transfer from radical cation of n-dodecane to scavenger studied by picosecond pulse radiolysis, statistical model, and Monte Carlo simulation.2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem., A 108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2004
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Phys.Chem. A108
  
  ページ: 1475-1481
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 3489-3492
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Polymer screening method for chemically amplified electron beam and X-ray resists2004
- 著者名/発表者名
  H.Yamamoto, A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3971-3973
- NAID
  10013276391
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Precise control of nanowire formation based on polysilane for photoelectronic device application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa, M.Sugimoto, A.Idesaki, S.Tanaka
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Effects of ester groups on proton generation and diffusion in polymethacrylate matrices.2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3981-3983
- NAID
  10013276420
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa et al.
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study on Proton and Charge Transfer Reactions in Solid Poly(methyl methacrylate)2004
- 著者名/発表者名
  A.Nakano, K.Okamoto, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 4363-4367
- NAID
  10013317792
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science Technology B 22
  
  ページ: 3489-3492
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Precise Control of Nanowire Formation Based on Polysilane for Photoelectronic Device Application2004
- 著者名/発表者名
  S.Tsukuda, S.Seki, A.Saeki, T.Kozawa, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics 43
  
  ページ: 3810-3814
- NAID
  10013275865
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Modeling and simulation of chemically amplified electron beam, x-ray, and EUV resist processes.2004
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol., B 22
  
  ページ: 3489-3492
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-14208060
[雑誌論文] Adjacent Effect on Positive Charge Transfer from Radical Cation of n-Dodecane to Scavenger Studied by Picosecond Pulse Radiolysis, Statistical Model, and Monte Carlo Simulation2003
- 著者名/発表者名
  A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Journal of Physics and Chemistry A 108
  
  ページ: 1475-1481
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[雑誌論文] Subpicosecond Pulse Radiolysis Study of Geminate Ion Recombination in Liquid Benzene2003
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, A.Saeki, T.Kozawa, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Chemical Letters 32
  
  ページ: 834-835
- NAID
  10012819332
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206109
[産業財産権] 微細構造体及びその製造方法2011
- 発明者名
  大島明博、田川精一、鷲尾方一、大山智子、高橋朋宏、大久保聡、小林亜暢、長澤尚胤、田口光正
- 権利者名
  大阪大学、早稲田大学、日本原子力研究開発機構
- 産業財産権番号
  2011-052359
- 出願年月日
  2011-03-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Study on Fabrication of Functionalized Polymer with Patterned Nano-scale Silver Metal using Radiation Reduction Technique2012
- 著者名/発表者名
  H.Tsubokura, R.Tsuchida, T.Tatsumi, T.G.Oyama, T.Murakami, A.Oshima, S.Tagawa, M.Washio
- 学会等名
  33 the Australian Polymer Symposium (33-APS)
- 発表場所
  Hobart (Australia Tasmania)
- 年月日
  2012-02-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Study on Fabrication of Functionalized Polymer with Patterned Nano-scale Silver Metal using Radiation Reduction Technique2012
- 著者名/発表者名
  H. Tsubokura、R. Tsuchida、T. Tatsumi、T. G. Oyama、T. Murakami、A. Oshima、Tagawa、M. Washio
- 学会等名
  33 the Australian Polymer Symposium(33-APS)
- 発表場所
  West Point Convention Centre(Hobart・Australia)
- 年月日
  2012-02-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Nanofabrication of Sulfonated Styrene-g-FEP Silver Ion using Focused Ion Beam Direct Etching and Reduction2011
- 著者名/発表者名
  A.Oshima, H.Tsubokura, T.G.Oyama, H.Yamamoto, M.Washio, Seichi Tagawa
- 学会等名
  28th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学(日本千葉)(招待講演)
- 年月日
  2011-06-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Arプラズマを用いたFEPの表面改質～ラジカル生成とグラフト重合～2011
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕、吉川妙子、大山(五輪)智子、大島明博、田川精一、鷲尾方一
- 学会等名
  第54回放射線化学討論会
- 発表場所
  大阪大学(大阪府)
- 年月日
  2011-09-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Arプラズマを用いたFEPの表面改質～ラジカル生成とグラフト重合～2011
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕, 吉川妙子, 大山(五輪)智子, 大島明博, 田川精一, 鷲尾方一
- 学会等名
  第54回放射線化学討論会
- 発表場所
  大阪大学(日本大阪)
- 年月日
  2011-09-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] 機能性フッ素樹脂を用いた各種プラズマ暴露による金属還元に関する研究2011
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕、高橋朋宏, 藤田創、大山(五輪)智子、山本洋揮, 大島明博、田川精一、鷲尾方一
- 学会等名
  日本化学会第91春季年会
- 発表場所
  神奈川大学(神奈川県)
- 年月日
  2011-03-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] 機能性フッ素樹脂を用いた各種プラズマ暴露による金属還元に関する研究2011
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕, 高橋朋宏, 藤田創, 大山(五輪)智子, 山本洋揮, 大島明博, 田川精一, 鷲尾方一
- 学会等名
  日本化学会第91春季年会
- 発表場所
  神奈川大学(横浜)
- 年月日
  2011-03-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Nanofabrication of Sulfonated Styrene-g-FEP Silver Ion using Focused Ion Beam Direct Etching and Reduction2011
- 著者名/発表者名
  A. Oshima、H. Tsubokura、T. G. Oyama、H. Yamamoto、M. Washio、Seichi Tagawa
- 学会等名
  28th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学(千葉県)
- 年月日
  2011-06-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Study on Reduction of Metal Ions in Functionalized Fluorinated-Polymers by Means of Plasma Exposure2010
- 著者名/発表者名
  H.Tsubokura, T.Takahashi, H.Fujita, T.(Gowa) Oyama, H.Yamamoto, A.Oshima, S.Tagawa, M.Washio
- 学会等名
  2010 Internatinal Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem 2010)
- 発表場所
  Hawaii(USA)
- 年月日
  2010-12-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Ag+含有高分子の量子ビーム照射による直接還元に関する研究2010
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕、高澤侑也、高橋朋宏、白木文也、藤田創、五輪智子、佐々木隆、山本洋揮、大島明博、田川精一、鷲尾方一
- 学会等名
  第47回アイソトープ学会
- 発表場所
  科学未来館(東京都)
- 年月日
  2010-07-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Nano-Scale fabrication of Perfluorinated Polymers using Focused Ion Beams2010
- 著者名/発表者名
  A. Oshima、T. Takahashi、S. Okubo、N. Fukutake、Y. Takasawa、T. Gowa、M. Washio、S. Tagawa
- 学会等名
  2010 Internatinal Chemical Congress of Pacific Basin Societies(Pacifichem 2010)
- 発表場所
  Hawaii Convention Center(Hawaii・USA)
- 年月日
  2010-12-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Study on Reduction of Metal Ions in Functionalized Fluorinated-Polymers by Means of Plasma Exposure2010
- 著者名/発表者名
  H. Tsubokura、T. Takahashi、H. Fujita、T. G. Oyama、H. Yamamoto、A. Oshima、S. Tagawa、M. Washio
- 学会等名
  2010 Internatinal Chemical Congress of Pacific Basin Societies(Pacifichem 2010)
- 発表場所
  Hawaii Convention Center(Hawaii・USA)
- 年月日
  2010-12-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] 機能性微細パターン作製のための金属担持高分子に対する集束イオンビーム加工に関する研究2010
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕, 高澤侑也, 高橋朋宏, 大久保聡, 大山(五輪)智子, 山本洋揮, 大島明博, 田川精一, 鷲尾方一
- 学会等名
  第53回放射線化学討論会
- 発表場所
  名古屋大学(名古屋)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Ag^<+>含有高分子の量子ビーム照射による直接還元に関する研究2010
- 著者名/発表者名
  坪倉英裕, 高澤侑也, 高橋朋宏, 白木文也, 藤田創, 五輪智子, 佐々木隆, 山本洋揮, 大島明博, 田川精一, 鷲尾方一
- 学会等名
  第47回アイソトープ学会
- 発表場所
  科学未来館(東京)
- 年月日
  2010-07-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Nano-Scale fabrication of Perfluorinated Polymers using Focused Ion Beams2010
- 著者名/発表者名
  Akihiro Oshima, Tomohiro Takahashi, Satoshi Okubo, Naoyuki Fukutake, Yuya Takasawa, Tomoko Gowa, Masakazu Washio, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  2010 Internatinal Chemical Congress of Pacific Basin Societies (Pacifichem 2010)
- 発表場所
  Hawaii(USA)
- 年月日
  2010-12-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Sensitization mechanisms of chemically amplified resists and resist design for 22 nm node2009
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa and S. Tagawa
- 学会等名
  2009 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Oahu, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] 量子ビームによるフッ素系高分子の微細加工2009
- 著者名/発表者名
  大島明博、福武直之、高澤侑也、五輪智子、裏川達也、白木文也、岡壽崇、工藤久明、村上健、濱義昌、鷲尾方一、田川精一
- 学会等名
  第52回放射線化学討論会
- 発表場所
  福井工業大学(福井県)
- 年月日
  2009-09-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21686087
[学会発表] Horie, Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, and K
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  Waseda University
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons2008
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- 年月日
  2008-10-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structure and Concentration of Acid Generator in Chemically Amplified EUV Resist, SPIE Advanced Lithography2008
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
- 学会等名
  San Jose
- 発表場所
  California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Acid-base equilibrium in chemically amplified resist, SPIE Advanced Lithography2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  San Jose
- 発表場所
  California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-Hydroxystyrene)and its Copolymer2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on acid generation of acid generators in chemically amplified resists for electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  International Workshop on Molecular Information and Dynamics 2008
- 発表場所
  Taipei, Taiwan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Pico-and subpico-second pulse radiolysis based on L-band linac with femtosecond white light continuum2007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa (invited)
- 学会等名
  The 7th International Symposium on Advanced Science Research
- 発表場所
  Tokai, Ibaraki, Japan
- 年月日
  2007-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Nanoscale Distribution of Intermediates in Resist Materials for Next Generation Lithography
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, and S. Tagawa
- 学会等名
  ASR Symposium
- 発表場所
  Ibaraki, Japan
- 年月日
  2007-11-06 – 2007-11-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki and S. Tagawa
- 学会等名
  50th EIPBN
- 発表場所
  Baltimore, Maryland, USA
- 年月日
  2006-05-30 – 2006-06-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] High precision measurement of higher diffraction-order contamination in monochromatized soft X-ray by using a compact transmission-grating spectrometer
- 著者名/発表者名
  K. Fukui, T. Sakai, T. Hatsui, N. Kosugi, Y. Hamamura, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
- 学会等名
  International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2007-06-29 – 2007-07-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Line edge roughness in chemically amplified resist of electron beam lithography
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, S. Tagawa and H. B. Cao
- 学会等名
  50th EIPBN
- 発表場所
  Baltimore, Maryland, USA
- 年月日
  2006-05-30 – 2006-06-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on dynamics of radical ions of polystyrenes by pulse radiolysis
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, California, USA
- 年月日
  2007-06-07 – 2007-06-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, M. J. Leeson
- 学会等名
  The fifty-first international conference on electron, ion, and photon beam technology and nanofabrication (51st EIPBN)
- 発表場所
  Denver, Colorado, USA
- 年月日
  2007-05-29 – 2007-06-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Single-Component Chemically Amplified Resist Based on Dehalogenation of Polymer
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  SPIE Advanced Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2007-02-25 – 2007-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Proton Dynamics and Amines in Chemically Amplified Resist
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Difference between initial distributions of proton and counter anion in chemically amplified electron-beam resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki and S. Tagawa
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effects of rate constant for deprotection reaction on latent image formation in chemically amplified EUV resists
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, and T. Itani
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dependence of Absorption Coefficient and Acid Generation Efficiency on Acid Generator Concentration in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai and T. Shimokawa
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Depth profile of acid generator distribution in chemically amplified resists
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Takasu, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on photochemical analysis system for EUV lithography
- 著者名/発表者名
  A. Sekiguchi, Y. Kono, M. Kadoi, Y. Minami, T. Kozawa, S. Tagawa, D. Gustafson, P. Plackborow
- 学会等名
  SPIE Advanced Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2007-02-25 – 2007-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Image Contrast Slope and Line Edge Roughness of Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 学会等名
  The fifty-first international conference on electron, ion, and photon beam technology and nanofabrication (51st EIPBN)
- 発表場所
  Denver, Colorado, USA
- 年月日
  2007-05-29 – 2007-06-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on the Reaction of Acid Generators with Epithermal Electrons
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, H. Yukawa, M. Sato, J. Onodera
- 学会等名
  Microprocess and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kyoto, Japan
- 年月日
  2007-11-05 – 2007-11-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of Fluorine Atom on Acid Generation in Chemically Amplified EUV Resist
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa H. Yukawa, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  2007 International EUVL Symposium
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-10-28 – 2007-10-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Pulse radiolysis of polystyrene and derivatives
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, California, USA
- 年月日
  2007-07-07 – 2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Development and performance of quasi-free standing transmission-grating for soft X-ray emission spectrometer
- 著者名/発表者名
  T. Hatsui, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa, Y. Hamamura, N. Kosugi
- 学会等名
  International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2007-06-29 – 2007-07-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effects of activation energy for deprotection reaction on latent image contrast
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, J. J. Santillan, M. Toriumi, T. Itani
- 学会等名
  2007 International EUVL Symposium
- 発表場所
  Sapporo, Japan
- 年月日
  2007-10-28 – 2007-10-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] The reaction mechanism of poly[4-hydroxystyrene-co-4-(1, 1, 1, 3, 3, 3-hexafluoro-2- hydroxypropyl)-styrene]
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014

1. 吉田陽一 (50210729)

共同の研究課題数: 11件

共同の研究成果数: 16件
2. 関修平 (30273709)

共同の研究課題数: 11件

共同の研究成果数: 16件
3. 誉田義英 (40209333)

共同の研究課題数: 7件

共同の研究成果数: 1件
4. 山本幸男 (10029902)

共同の研究課題数: 7件

共同の研究成果数: 0件
5. 三木美弥子 (10167661)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 0件
6. 古澤孝弘 (20251374)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 129件
7. 西嶋茂宏 (00156069)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 1件
8. 佐伯昭紀 (10362625)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 36件
9. 旗野嘉彦 (90016121)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
10. 河内宣之 (50161873)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
11. 岡本一将 (10437353)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 36件
12. 山本洋揮 (00516958)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 22件
13. 大島明博 (80398924)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 20件
14. 鷲尾方一 (70158608)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 20件
15. 柴田裕実 (30216014)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
16. 浅井圭介 (60231859)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
17. 広石大介 (20199110)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
18. 勝村庸介 (70111466)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
19. 石榑顕吉 (90010975)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
20. 木村徳雄 (80195370)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
21. 小林一雄 (30116032)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
22. 奥田修一 (00142175)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
23. 泉佳伸 (60252582)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
24. 楊金峰 (90362631)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 7件
25. 嶋森洋 (80139815)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
26. 新坂恭士 (50016135)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
27. 田中健一郎 (90106162)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
28. 吉井康司 (00210641)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
29. 上坂充 (30232739)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
30. 小林久夫 (10062605)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
31. 宮健三 (30011191)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
32. 小林仁 (80133099)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
33. 升田公三 (90029405)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
34. 並木章 (40126941)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
35. 豊沢豊 (50013454)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
36. 道家忠義 (60063369)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
37. 伊藤憲昭 (90022996)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
38. 田畑米穂 (40010730)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
39. 山岡仁史 (80026004)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
40. 吉田宏 (20027410)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
41. 高椋節夫 (50029849)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
42. 杉本雅樹

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

田川 精一 TAGAWA Seiichi

研究課題

研究成果

共同研究者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ構造内反応機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

主鎖・側鎖にヘテロ元素を有する非炭素骨格高分子の電子物性研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

フェムト秒量子ビーム複合利用による水溶液の放射線化学初期過程の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

低温固相重合反応におけるトンネル効果の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

主鎖・側鎖にヘテロ元素を有する非炭素骨格高分子の電子物性研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

低温固相重合反応におけるトンネル効果の研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

主鎖・側鎖にヘテロ元素を有する非炭素骨格高分子の電子物質研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

田川精一 TAGAWA Seiichi