岡本一将 Okamoto Kazumasa

研究者番号	10437353
その他のID	https://orcid.org/0000-0002-5207-5309
所属 (現在)	2024年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 助教
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2018年度 – 2022年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 2016年度 – 2017年度: 北海道大学, 工学研究院, 助教 2016年度: 北海道大学, 大学院・工学研究院, 助教 2015年度: 北海道大学, 大学院工学研究院, 助教 2012年度 – 2015年度: 北海道大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 2010年度 – 2011年度: 北海道大学, 大学院・工学研究院, 助教 2007年度 – 2008年度: 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教
審査区分/研究分野	研究代表者原子力学 / 小区分31010:原子力工学関連 / ナノ材料・ナノバイオサイエンス研究代表者以外原子力学 / 中区分26:材料工学およびその関連分野 / 中区分31:原子力工学、地球資源工学、エネルギー学およびその関連分野 / ナノ材料工学
キーワード	研究代表者電子線 / レジスト / パルスラジオリシス / 放射線化学 / 極端紫外線（ＥＵＶ） / リソグラフィ / 放射線、Ｘ線、粒子線 / 放射線、X線、粒子線 / 脱プロトン反応 / 自由電子レーザー … もっと見る / 半導体超微細化 / ポリスチレン / 芳香族分子 / 水中結晶合成 / 酸化亜鉛 / 紫外線 / 水中結晶成長 / 金属酸化物 / ガンマ線（γ線） / 放射線プロセス / 極端紫外線（EUV）・Ｘ線 / 極端紫外線 / EUVリソグラフィ / レジスト材料 / 極端紫外線（EUV） / ジフェニルスルホン / 酸生成促進剤 / 半導体微細化 / 化学増幅型レジスト / 極端紫外線(EUV) / ΠーΠ相互作用 / ＥＵＶリソグラフィ / ラジカルイオン / フッ素系高分子 / ラジカルカチオン / ポリヒドロキシスチレン / 極端紫外光 / 粒子線 / X線 / 放射線 / 分子軌道計算 … もっと見る研究代表者以外放射線、X線、粒子線 / 半導体超微細化 / 量子ビーム / 光化学・光物性 / 光水ラジカル反応 / 光材料科学 / 太陽光利用技術開発 / ラジカルメタラジー / 光冶金学 / ガルバニック効果 / 活性酸素種 / 光化学 / ガルバニック水中結晶光合成 / 太陽光利用 / 3Dナノ構造 / 水ラジカル / 太陽光全スペクトル利用 / 太陽光全利用 / 水中ラジカル / 光電気化学 / ヘテロナノ構造 / 光化学反応 / 光ガルバニック効果 / 水中結晶光合成 / データ科学 / 計算物理 / シミュレーション工学 / インフルエンザ感染性 / 糖鎖の評価・最適化 / 電気伝導率制御 / 自己組織化成長 / ナノカーボン成長制御 / バイオセンサー / ナノカーボン応用 / 放射線科学 / フォトリシス / リソグラフィ / 電子線 / Ｘ線 / フッ素化合物 / 放射線化学 / 粒子線 / X線 / 放射線 / レーザーフォトリシス / パルスラジオリシス / レジスト / ナノ空間 / 熱化過程 / 高分子科学 / 化学増幅レジスト / シミュレーション / フェムト秒パルスジオリシス / ナノテクノロジー / ナノ時空間反応 / フェムト秒パルスラジオリシス隠す

放射線プロセスによる位置制御可能なケミカルフリー水中酸化物結晶生成法の確立研究代表者
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分31010:原子力工学関連
- 研究機関
  大阪大学
ガルバニック水中結晶光合成の学理構築に基づく機能性３次元ヘテロナノ構造体創製
- 研究代表者
  
  渡辺精一
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分26:材料工学およびその関連分野
- 研究機関
  北海道大学
放射線微細加工プロセスにおける脱プロトン誘起機構の解明と応用研究代表者
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2021
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分31010:原子力工学関連
- 研究機関
  大阪大学
量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発
- 研究代表者
  
  古澤孝弘
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分31:原子力工学、地球資源工学、エネルギー学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
放射線誘起ナノ微細加工における電荷非局在性の影響研究代表者
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  北海道大学
自己組織化数層グラフェンの糖鎖修飾による高病原性鳥インフルエンザセンサの開発
- 研究代表者
  
  河原敏男
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2016
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  ナノ材料工学
- 研究機関
  中部大学
電子線・レーザー逐次照射法による微細加工用高分子の新規放射線増感反応の探索
- 研究代表者
  
  藤吉亮子
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  北海道大学
極薄膜高分子の局所イオン化反応の解明と応用研究代表者
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  北海道大学
量子ビームによる微細加工用高分子のイオン化ダイナミクスの解明研究代表者
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2011
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  北海道大学
レジスト材料のナノサイズゆらぎ制御のための分子ダイナミクスと反応機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  岡本一将
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  ナノ材料・ナノバイオサイエンス
- 研究機関
  大阪大学
フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明
- 研究代表者
  
  田川精一
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(S)
- 研究分野
  
  原子力学
- 研究機関
  大阪大学

[雑誌論文] Fabrication of color-toned micro/nanopattern surface by submerged photosynthesis method2022
- 著者名/発表者名
  Tsukamura Jumpei、Takahashi Yuki、Zhang Lihua、Jeem Melbert、Okamoto Kazumasa、Watanabe Seiichi
- 雑誌名
  
  Microelectronic Engineering
  
  巻: 256 ページ: 111727-111727
- DOI
  10.1016/j.mee.2022.111727
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15122, KAKENHI-PROJECT-20H00295, KAKENHI-PROJECT-21K04823
[雑誌論文] Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool2022
- 著者名/発表者名
  Yutaro Iwashige, Hiroto Kudo, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 35 号: 1 ページ: 41-47
- DOI
  10.2494/photopolymer.35.41
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2022-12-16
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04986, KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Photo- & radio-chromic iron-doped tungstic acids fabricated via submerged photosynthesis2022
- 著者名/発表者名
  Murakami Shuntaro、Zhang Lihua、Jeem Melbert、Okamoto Kazumasa、Nakagawa Yuki、Shibayama Tamaki、Ohnuma Masato、Watanabe Seiichi
- 雑誌名
  
  Optical Materials
  
  巻: 124 ページ: 111966-111966
- DOI
  10.1016/j.optmat.2021.111966
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20K15122, KAKENHI-PROJECT-20H00295, KAKENHI-PROJECT-21J11592, KAKENHI-PROJECT-21K04823
[雑誌論文] Exploration of charge transport materials to improve the radiation tolerance of lead halide perovskite solar cells2022
- 著者名/発表者名
  Yoshiyuki Murakami, Ryosuke Nishikubo, Fumitaka Ishiwari, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa , Akinori Saeki
- 雑誌名
  
  Materials Advances
  
  巻: 3 号: 12 ページ: 4861-4869
- DOI
  10.1039/d2ma00385f
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04986, KAKENHI-PLANNED-20H05836, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-20H00398, KAKENHI-PROJECT-20H02784, KAKENHI-PROJECT-21K20558
[雑誌論文] Study on deprotonation from radiation-induced ionized acrylate polymers including acidgeneration promoters for improving chemically amplified resists2022
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Akihiro Konda, Yuki Ishimaru, Takahiro Kozawa, Yasunobu Nakagawa, Masamichi Nishimura
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: －号: 6 ページ: 066505-066505
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac67ba
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330, KAKENHI-PROJECT-22K04986
[雑誌論文] Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation2021
- 著者名/発表者名
  Okamoto Kazumasa, Kawai Shunpei, Ikari Yuta, Hori Shigeo, Konda Akihiro, Ueno Koki, Arai Yohei, Ishino Masahiko, Thanhhung Dinh, Nishikino Masaharu, Kon Akira, Owada Shigeki, Inubushi Yuichi, Kinoshita Hiroo, Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 14 号: 6 ページ: 066502-066502
- DOI
  10.35848/1882-0786/abfca3
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K15402, KAKENHI-PROJECT-19K05330, KAKENHI-PROJECT-18H03895, KAKENHI-PROJECT-21H03750
[雑誌論文] Estimation of electron affinity of photoacid generators: density functional theory calculations using static and dynamic models2021
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: SC ページ: SCCC03-SCCC03
- DOI
  10.35848/1347-4065/abf469
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330, KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Heating effect of the radiation chemistry of polyhydroxystyrene-type chemically amplified resists2020
- 著者名/発表者名
  Ikari Yuta、Okamoto Kazumasa、Konda Akihiro、Kozawa Takahiro、Tamura Takao
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 8 ページ: 086506-086506
- DOI
  10.35848/1347-4065/aba7d7
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Formation of intramolecular dimer radical ions of diphenyl sulfones2020
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Shunpei Kawai, Takahiro Kozawa
- 雑誌名
  
  Scientific Reports
  
  巻: 10 号: 1 ページ: 19823-19823
- DOI
  10.1038/s41598-020-76907-4
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330
[雑誌論文] Synthesis and Property of Tellurium-Containing Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography System2020
- 著者名/発表者名
  Kudo Hiroto、Fukunaga Mari、Yamada Teppei、Yamakawa Shinji、Watanabe Takeo、Yamamoto Hiroki、Okamoto Kazumasa、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 32 号: 6 ページ: 805-810
- DOI
  10.2494/photopolymer.32.805
- NAID
  130007789016
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2020-01-31
- 言語
  英語
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Resist thickness dependence of line width roughness of chemically amplified resists used for electron beam lithography2020
- 著者名/発表者名
  Maeda Naoki、Konda Akihiro、Okamoto Kazumasa、Kozawa Takahiro、Tamura Takao
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: 8 ページ: 086501-086501
- DOI
  10.35848/1347-4065/ab9fde
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[雑誌論文] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives2020
- 著者名/発表者名
  Okamoto Kazumasa、Kawai Shunpei、Kozawa Takahiro
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE, Advances in Patterning Materials and Processes XXXVII
  
  巻: 11326 ページ: 12-12
- DOI
  10.1117/12.2551865
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330
[雑誌論文] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resists by adding acid-generating promoters2017
- 著者名/発表者名
  Shinya Fujii, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Toshiro Itani
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 56 号: 6S1 ページ: 06GD01-06GD01
- DOI
  10.7567/jjap.56.06gd01
- NAID
  210000147863
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Dynamics of Radical Ions of Hydroxyhexafluoroisopropyl-Substituted Benzenes2017
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, N. Nomura, R. Fujiyoshi, K. Umegaki, H. Yamamoto, K. Kobayashi, and T. Kozawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. A
  
  巻: 121 号: 49 ページ: 9458-9465
- DOI
  10.1021/acs.jpca.7b09842
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Dynamics of radical cations of poly(4-hydroxystyrene) in the presence and absence of triphenylsulfonium triflate as determined by pulse radiolysis of its highly concentrated solution2016
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and K. Umegaki
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett.
  
  巻: 657 ページ: 44-48
- DOI
  10.1016/j.cplett.2016.05.058
- NAID
  120006488393
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-15K06662
[雑誌論文] Plasma process for the improvements of device characteristics for self-aligned nano-carbon FETs2016
- 著者名/発表者名
  Toshio Kawahara, Singh R. Kumar, Yasuhide Ohno, Kenzo Maehashi, Kazuhiko Matsumoto, Kazumasa Okamoto, Risa Utsunomiya, Teruaki Matsuba
- 雑誌名
  
  Proc. of 38th International Symposium on Dry Process
  
  巻: - ページ: 51-52
- NAID
  130005175701
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[雑誌論文] Development of Nano-Carbon Biosensors Using Glycan for Host Range Detection of Influenza Virus2016
- 著者名/発表者名
  Toshio Kawahara, Hiroaki Hiramatsu, Yasuo Suzuki, Shin-ichi Nakakita, Yasuhide Ohno, Kenzo Maehashi, Kazuhiko Matsumoto, Kazumasa Okamoto, Teruaki Matsuba, Risa Utsunomiya
- 雑誌名
  
  Condens. Matter
  
  巻: 1 号: 1 ページ: 7-7
- DOI
  10.3390/condmat1010007
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[雑誌論文] Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9658 ページ: 96581C-96581C
- DOI
  10.1117/12.2193060
- 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Noise Spectroscopy of Self-aligned Carbon Nanowalls2015
- 著者名/発表者名
  T. Kawahara, Y. Ohno, K. Maehashi, K. Matsumoto, K. Okamoto, R. Utsunomiya, T. Matsuba
- 雑誌名
  
  IEEE Conf. Proc.: 2015 23rd Int. Conf. Noise and Fluctuations (ICNF)
  
  巻: - ページ: 108-111
- DOI
  10.1109/icnf.2015.7288600
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[雑誌論文] Pulse Radiolysis Study of Polystyrene-based Polymers with Added Photoacid Generators: Reaction Mechanism of Extreme-ultraviolet and Electron-beam Chemically Amplified Resist2015
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 54 号: 2 ページ: 026501-026501
- DOI
  10.7567/jjap.54.026501
- NAID
  210000144787
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Radiation Chemistry of Fluorinated Polymers for Extreme Ultraviolet Resist2015
- 著者名/発表者名
  Naoya Nomura, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 印刷中
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[雑誌論文] Deprotonation mechanism of ionized poly(4-hydroxystyrene)2014
- 著者名/発表者名
  Toshihiko Susa, Kazumasa Okamoto , Takuya Ishida , Hiroki Yamamoto , Takahiro Kozawa , Ryoko Fujiyoshi, and Kikuo Umegaki
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9051 ページ: 90511O-90511O
- DOI
  10.1117/12.2045881
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Carbon Nanowall Field Effect Transistors Using a Self-Aligned Growth Process2014
- 著者名/発表者名
  T. Kawahara, S. Yamaguchi, Y. Ohno, K. Maehashi, K. Matsumoto, K. Okamoto, R. Utsunomiya, T. Matsuba
- 雑誌名
  
  e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
  
  巻: 12 号: 0 ページ: 225-229
- DOI
  10.1380/ejssnt.2014.225
- NAID
  130004438881
- ISSN
  1348-0391
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[雑誌論文] Fluidity dependence of deprotonation kinetics of chemically amplified resist2014
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto , Takuya Ishida , Hiroki Yamamoto , Takahiro Kozawa , Ryoko Fujiyoshi, and Kikuo Umegaki
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9051 ページ: 90511T-90511T
- DOI
  10.1117/12.2046057
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Raman spectral mapping of self-aligned carbon nanowalls2014
- 著者名/発表者名
  Toshio Kawahara, Satarou Yamaguchi, Yasuhide Ohno, Kenzo Maehashi, Kazuhiko Matsumoto, Kazumasa Okamoto, Risa Utsunomiya, Teruaki Matsuba, Yuki Matsuoka, Masamichi Yoshimura
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 53 号: 5S1 ページ: 05FD10-05FD10
- DOI
  10.7567/jjap.53.05fd10
- NAID
  210000143823
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030, KAKENHI-PROJECT-26600105
[雑誌論文] Deprotonation of poly(4-hydroxystyrene) intermediates: pulse radiolysis study of EUV and electron beam resist2013
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Tyo Matsuda, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 6S ページ: 06GC04-06GC04
- DOI
  10.7567/jjap.52.06gc04
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037, KAKENHI-PROJECT-25246036, KAKENHI-PROJECT-25630424
[雑誌論文] Deprotonation of poly(4-hydroxystyrene) intermediates: Pulse radiolysis study of EUV and electron beam resist2013
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Ryo Matsuda, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[雑誌論文] Effect of Ultrahigh-Density Ionization of Resist Films on Sensitivity Using Extreme-Ultraviolet Free-Electron Laser2012
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, K. Oikawa, T. Hatsui, M. Nagasono, T. Kameshima, T. Togashi, K. Tono, M. Yabashi, H. Kimura, Y. Senba, H. Ohashi, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 5巻号: 9 ページ: 96701-96701
- DOI
  10.1143/apex.5.096701
- NAID
  40019425422
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128, KAKENHI-PROJECT-24561037
[雑誌論文] Fundamental study on reaction mechanisms in chemically amplified extreme-ultraviolet resists by using 61-nm free-electron laser2011
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Takaki Hatsui, Yasuharu Tajima, Keita Oikawa, Mitsuru Nagasono, Takashi Kameshima, Tadashi Togashi, Kensuke Tono, Makina Yabashi, Hiroaki Kimura, Yasunori Senba, Haruhiko Ohashi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 7972 ページ: 797217-797217
- DOI
  10.1117/12.879358
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[雑誌論文] Deprotonation mechanism of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist2011
- 著者名/発表者名
  Yasuharu Tajima, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 7972 ページ: 79721N-79721N
- DOI
  10.1117/12.879362
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[雑誌論文] Dynamics of radicalcation of poly(styrene acrylate)-based chemically amplified resist for extreme ultraviolet and electron beam lithography2011
- 著者名/発表者名
  Yasuharu Tajima, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 50 号: 6S ページ: 06GD03-06GD03
- DOI
  10.1143/jjap.50.06gd03
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[雑誌論文] Fundamental study on reaction mechanisms in chemically amplified extreme-ultraviolet resists by using 61-nm free-electron laser2011
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 雑誌名
  
  Proceedings of SPIE
  
  巻: 7972
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene)-Based Chemically Amplified Resists for Extreme-Ultraviolet and Electron Beam Lithographies2010
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49巻号: 10R ページ: 106501-106501
- DOI
  10.1143/jjap.49.106501
- NAID
  40017341248
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22246128, KAKENHI-PROJECT-22760669
[雑誌論文] Dynamics of radical cation of poly(4-hydroxystyrene) and its copolymer for extreme ultraviolet and electron beam resists2009
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. (in press)
- NAID
  210000066906
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[雑誌論文] Formation of Intramolecular Poly(4-hydroxystyrene) Dimer Radical Cation2008
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. B 112
  
  ページ: 9275-9280
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[雑誌論文] Formation of Intramolecular Poly(4-hydroxystyrene) Dimer Radical Cation2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem B 112
  
  ページ: 9275-9280
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Formation of intramolecular poly(4-hydroxystyrene) dimer radical cation2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Phys. Chem. B 112
  
  ページ: 9275-9280
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF_22007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 407-411
- NAID
  10018705573
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF22007
- 著者名/発表者名
  A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys 46
  
  ページ: 407-411
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness2007
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, and H. Komano,
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 46
  
  ページ: 6187-6190
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 46 ページ: 7285-7289
- NAID
  40015705098
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem. 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivaties2007
- 著者名/発表者名
  Okamoto Kazumasa, Kozawa Takahiro, Saeki Akinori, Yoshida Yoichi, Tagawa Seiichi
- 雑誌名
  
  Radiation Physics and Chemistry 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives, Radiat2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Phys. Chem 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives2007
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, S. Tagawa
- 雑誌名
  
  Radiat. Phys. Chem. 76
  
  ページ: 818-826
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Chemically Amplified Electron Beam Resist Thickness2006
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
  
  ページ: 5445-5449
- NAID
  10017998648
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography Jpn2006
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto and S. Tagawa
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys 45
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 3055-3060
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Acid Generation Mechanism of Poly (4-hydroxystyrene) -Based Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography : Acid Yield and Deprotonation Behavior of Poly (4-hydroxystyrene) and Poly (4-methoxystyrene)2006
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 6866-6871
- NAID
  10018245439
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Pulse radiolysis of polystyrene in cyclohexane -Effect of carbon tetrachloride on kinetic dynamics of dimer radical cation-2006
- 著者名/発表者名
  K.Okamoto, T.Kozawa, M.Miki, Y.Yoshida, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Chem. Phys. Lett. 426
  
  ページ: 306-310
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Relationship between Acid Generator Concentration and Acid Yield in Chemically Amplified Electron Beam Resist2006
- 著者名/発表者名
  T. Shigaki, K. Okamoto, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 45 ページ: 5735-5737
- NAID
  10017999650
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography2006
- 著者名/発表者名
  K.Natsuda, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys. 45
- NAID
  10018460952
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Reaction mechanism of fluorinated chemically amplified resists2006
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, A. Saeki, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 24 ページ: 1833-1836
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Resist Thickness Effect on Acid Concentration Generated in Poly(4-hydroxystyrene) Film upon Exposure to 75 keV Electron Beam2005
- 著者名/発表者名
  T.Shigaki, K.Okamoto, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
- NAID
  10016856520
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Dependence of Acid Yield on Acid Generator in Chemically Amplified Resist for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, H. Nemoto
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5832-5835
- NAID
  10016678348
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Study on acid generation from polymer2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 23 ページ: 2728-2732
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Effects of Dielectric Constant on Acid Generation in Chemically Amplified Resists for Post-Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  T.Kozawa, K.Okamoto, A.Saeki, S.Tagawa
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 3908-3912
- NAID
  10016441312
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Potential Cause of Inhomogeneous Acid Distribution in Chemically Amplified Resists for Post Optical Lithography2005
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 44 ページ: 5836-5838
- NAID
  10016678367
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[雑誌論文] Requirements for Laser-Induced Desorption/Ionization on Submicrometer Structures2005
- 著者名/発表者名
  S. Okuno, R. Arakawa, K. Okamoto, Y. Matsui, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa, Y. Wada
- 雑誌名
  
  Anal. Chem.
  
  巻: 77 ページ: 5364-5369
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] ガルバニク水中結晶光合成法を用いたZnO/Siの色調表面パターニングと発光特性2022
- 著者名/発表者名
  メルバートジェーム, 塚村順平, 髙橋優樹, 張麗華, 岡本一将, 渡辺精一
- 学会等名
  NGL2022
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04986
[学会発表] ポリスチレンの正電荷非局在性へのパルスラジオリシスおよびシミュレーションによるアプローチ2022
- 著者名/発表者名
  岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  原子力学会２０２２年春の年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330
[学会発表] G-SPSCを用いた欠陥制御による色調表面パターニング2021
- 著者名/発表者名
  塚村順平、高橋　優樹、張麗華、ジェームメルバート、岡本一将、渡辺精一
- 学会等名
  日本金属学会第３７回
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H00295
[学会発表] Fabrication of ZnO/Si Surface Patterning by defect controlvia Galvanic-Submerged Photo-Synthesis of Crystallites2021
- 著者名/発表者名
  Jumpei Tsukamura,Yuki Takahashi, Lihua Zhang,Melbert Jeem, Kazumasa Okamoto, and Seiichi Watanabe
- 学会等名
  34th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H00295
[学会発表] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding dipheyl sulfone derivatives2020
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Shunpei Kawai, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2020
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330
[学会発表] Estimation of electron affinity of photoacid generators: density functional theory calculations using static and dynamic models2020
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa
- 学会等名
  MNC 2020, 33rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330
[学会発表] Estimation of Electron Affinity of Photoacid Generators: Density Functional TheoryCalculations Using Static and Dynamic Models2020
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto and Takahiro Kozawa
- 学会等名
  MNC2020
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03895
[学会発表] ジフェニルスルホン酸生成促進剤による化学増幅型レジストの感度向上2019
- 著者名/発表者名
  河合俊平、大沼正人、岡本一将、古澤孝弘
- 学会等名
  第80回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05330
[学会発表] パルスラジオリシスによるフェニルスルホン化合物の放射線化学反応2018
- 著者名/発表者名
  岡本一将, 河合俊平, 山本洋揮, 古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会２０１８年春の大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] 化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果2017
- 著者名/発表者名
  岡本一将, 藤井槙哉, 山本洋揮, 古澤孝弘, 井谷俊郎
- 学会等名
  第６４回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  パシフィコ横浜（神奈川県・横浜市）
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] ポリスチレンのフェニルトリメトキシシラン溶液のパルスラジオリシス2017
- 著者名/発表者名
  堀成生, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘, 藤吉亮子, 梅垣菊男
- 学会等名
  第60回放射線化学討論会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピルベンゼンのラジカルイオンのダイナミクス2016
- 著者名/発表者名
  岡本一将、野村直矢、山本洋揮、藤吉亮子、梅垣菊男
- 学会等名
  第59回放射線化学討論会
- 発表場所
  量子科学技術研究開発機構　高崎量子応用研究所(群馬県・高崎市)
- 年月日
  2016-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV by adding acid generation promoters2016
- 著者名/発表者名
  Shinya Fujii, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Toshiro Itani
- 学会等名
  29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC2016)
- 発表場所
  ANA Crowne Plaza Kyoto (京都府・京都市)
- 年月日
  2016-11-08
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] 添加剤を用いた酸生成促進によるEUV 用化学増幅型レジストの感度向上2016
- 著者名/発表者名
  藤井槙哉、岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、井谷俊郎
- 学会等名
  第59回放射線化学討論会
- 発表場所
  量子科学技術研究開発機構　高崎量子応用研究所(群馬県・高崎市)
- 年月日
  2016-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Plasma process for the improvements of device characteristics for self-aligned nano-carbon FETs2016
- 著者名/発表者名
  Toshio Kawahara, Singh R. Kumar, Yasuhide Ohno, Kenzo Maehashi, Kazuhiko Matsumoto, Kazumasa Okamoto, Risa Utsunomiya, Teruaki Matsuba
- 学会等名
  38th International Symposium on Dry Process
- 発表場所
  北海道大学 (北海道札幌市)
- 年月日
  2016-11-22
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[学会発表] Developments of the nano-carbon bio sensors using glycan for influenza virus2016
- 著者名/発表者名
  Toshio Kawahara, Hiroaki Hiramatsu, Yasuo Suzuki, Shin-ichi Nakakita, Yasuhide Ohno, Kenzo Maehashi, Kazuhiko Matsumoto, Kazumasa Okamoto, Teruaki Matsuba, Risa Utsunomiya
- 学会等名
  13th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures (ACSIN2016)
- 発表場所
  Frascati National Laboratories (Rome, Italy)
- 年月日
  2016-10-14
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[学会発表] カーボンナノウォールFETのためのプラズマプロセス2016
- 著者名/発表者名
  河原敏男, Singh R. Kumar, 大野恭秀, 前橋兼三, 松本和彦, 岡本一将, 宇都宮里佐, 松葉晃明
- 学会等名
  第57回真空に関する連合講演会・第36回表面科学学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場 (愛知県名古屋市)
- 年月日
  2016-11-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[学会発表] 光酸発生剤を添加した芳香族系レジスト樹脂のパルスラジオリシス2015
- 著者名/発表者名
  岡本一将、石田拓也、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会　２０１５年春の年会
- 発表場所
  茨城大学日立キャンパス、日立
- 年月日
  2015-03-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Radiation-induced reaction of fluorinated polymers and related compounds for extreme-ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  Hawii Convention Center(Honolulu, Hawaii, USA)
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Photomask Japan 2015
- 発表場所
  パシフィコ横浜（神奈川県横浜市）
- 年月日
  2015-04-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Pulse radiolysis in concentrated poly(4-hydroxystyrene) solution: Acid generation dynamics in EUV and electron-beam chemically amplified resist2015
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  MNC2015
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- 年月日
  2015-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Radiation-induced reaction of fluorinated polymers and related compounds for extreme-ultraviolet lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  ホノルルコンベンションセンター（ハワイ）
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] EUVレジストに向けたフッ素ポリマーの放射線化学反応の解明2015
- 著者名/発表者名
  野村直矢、岡本一将、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会　２０１５年春の年会
- 発表場所
  茨城大学日立キャンパス、日立
- 年月日
  2015-03-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Radiation chemistry of fluorinated polymers for Extreme-ultraviolet resist2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- 年月日
  2015-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Pulse radiolysis study of resist polymers with and without photoacid generator2015
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  ホノルルコンベンションセンター（ハワイ）
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] パルスラジオリシス法によるフッ素樹脂の放射線化学反応の解明2015
- 著者名/発表者名
  野村直矢、岡本一将、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会２０１５年秋の大会
- 発表場所
  静岡大学静岡キャンパス（静岡県静岡市）
- 年月日
  2015-09-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Radiation chemistry of fluorinated polymers for Extreme-ultraviolet resist2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  MNC2015
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- 年月日
  2015-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] パルスラジオリシス法によるフッ素樹脂の放射線化学反応の解明2015
- 著者名/発表者名
  野村直矢、岡本一将、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会２０１５年秋の大会
- 発表場所
  静岡大学静岡キャンパス（静岡県静岡市）
- 年月日
  2015-09-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography2015
- 著者名/発表者名
  N. Nomura, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Photomask Japan 2015
- 発表場所
  パシフィコ横浜（神奈川県横浜市）
- 年月日
  2015-04-20
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Pulse radiolysis study of resist polymers with and without photoacid generator2015
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  Pacifichem 2015
- 発表場所
  Hawii Convention Center(Honolulu, Hawaii, USA)
- 年月日
  2015-12-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] 低温バッファー層を用いたCNW-FETのノイズ解析2015
- 著者名/発表者名
  河原敏男、川際智聖、中川幸紀、大野泰秀、前橋兼三、松本和彦、岡本一将、宇都宮里佐、松葉晃明、吉村雅満、松岡佑樹
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場（愛知県名古屋市）
- 年月日
  2015-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[学会発表] Pulse radiolysis in concentrated poly(4-hydroxystyrene) solution: Acid generation dynamics in EUV and electron-beam chemically amplified resist2015
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, T. Ishida, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, K. Umegaki
- 学会等名
  28th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- 年月日
  2015-11-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K06662
[学会発表] Noise Spectroscopy of Self-aligned Carbon Nanowalls2015
- 著者名/発表者名
  T. Kawahara, Y. Ohno, K. Maehashi, K. Matsumoto, K. Okamoto, R. Utsunomiya, T. Matsuba
- 学会等名
  23rd Internationl Conference on Noise and Fluctuations (ICNF)
- 発表場所
  Xidian University, Xi'An, China
- 年月日
  2015-06-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[学会発表] 化学増幅レジストモデルのパルスラジオリシス2013
- 著者名/発表者名
  岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、住吉　孝
- 学会等名
  第56回放射線化学討論会
- 発表場所
  広島大学（東広島市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] ポリ(4-ヒドロキシスチレン)のラジカルカチオンの脱プロトン反応2013
- 著者名/発表者名
  須佐俊彦、岡本一将、石田拓也、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、住吉　孝
- 学会等名
  第56回放射線化学討論会
- 発表場所
  広島大学、広島市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] 化学増幅レジストモデルのパルスラジオリシス2013
- 著者名/発表者名
  岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、住吉　孝
- 学会等名
  第56回放射線化学討論会
- 発表場所
  広島大学、広島市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Pulse Radiolysis Study of Polystyrene-based Polymers with Adding Photoacid Generators (PAGs): Molecular Dynamics of Extreme-ultraviolet and Electron Beam Resist2013
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, K. Tominaga, T. Hori, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  Royton Sapporo, Sapporo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Viscosity Effect on Deprotonation Dynamics of Poly(4-hydroxystyrene)2013
- 著者名/発表者名
  T. Ishida, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  ロイトン札幌、札幌市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Simulation of Kinetics in High-density Ionization Extra-ultraviolet (EUV) Resist Process2013
- 著者名/発表者名
  K. Nishono, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  Royton Sapporo, Sapporo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] ポリ(4-ヒドロキシスチレン)(PHS)濃厚溶液の脱プロトン反応の粘度効果2013
- 著者名/発表者名
  石田拓也、岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、住吉　孝
- 学会等名
  第56回放射線化学討論会
- 発表場所
  広島大学（東広島市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Acid Generation Mechanism in Solid Poly(4-hydroxystyrene) upon Exposeure to Electron Beam2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, K. Okamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  Royton Sapporo, Sapporo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] ポリ(4-ヒドロキシスチレン)(PHS)濃厚溶液の脱プロトン反応の粘度効果2013
- 著者名/発表者名
  石田拓也、岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、住吉　孝
- 学会等名
  第56回放射線化学討論会
- 発表場所
  広島大学、広島市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Acid Generation Mechanism in Solid Poly(4-hydroxystyrene) upon Exposeure to Electron Beam2013
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, K. Okamoto, and T. Kozawa
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  ロイトン札幌、札幌市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Viscosity Effect on Deprotonation Dynamics of Poly(4-hydroxystyrene)2013
- 著者名/発表者名
  T. Ishida, K. Okamoto, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  Royton Sapporo, Sapporo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] ポリ(4-ヒドロキシスチレン)のラジカルカチオンの脱プロトン反応2013
- 著者名/発表者名
  須佐俊彦、岡本一将、石田拓也、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、住吉　孝
- 学会等名
  第56回放射線化学討論会
- 発表場所
  広島大学（東広島市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Pulse Radiolysis Study of Polystyrene-based Polymers with Adding Photoacid Generators (PAGs): Molecular Dynamics of Extreme-ultraviolet and Electron Beam Resist2013
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, K. Tominaga, T. Hori, H. Yamamoto, T. Kozawa, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC2013
- 発表場所
  ロイトン札幌、札幌市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] レジスト高分子の放射線化学2012
- 著者名/発表者名
  岡本一将
- 学会等名
  日本化学会第92春季年会
- 発表場所
  慶応義塾大学日吉キャンパス(神奈川県)(招待講演)
- 年月日
  2012-03-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] レジスト高分子の放射線化学2012
- 著者名/発表者名
  岡本一将、住吉孝
- 学会等名
  日本化学会第92春季年会
- 発表場所
  慶応義塾大学
- 年月日
  2012-03-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] 極端紫外自由電子レーザーによる極薄膜高分子内のスパー制御2011
- 著者名/発表者名
  岡本一将、古澤孝弘、及川敬太、初井宇記、永園充、亀島敬、富樫格、登野健介、矢橋牧名、木村洋昭、仙波泰徳、大橋治彦、石川哲也、住吉孝
- 学会等名
  第54回放射線化学討論会
- 発表場所
  大阪大学
- 年月日
  2011-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] Acid generation efficiency in resist films after exposure to the 61 nm free-electron laser light2011
- 著者名/発表者名
  K. Oikawa, K. Okamoto, T. Kozawa, T. Hatsui, M. Nagasono, T. Kameshima, T. Togashi, K. Tono, M. Yabashi, H. Kimura, Y. Senba, H. Ohash, R. Fujiyoshi and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC
- 発表場所
  ANA Hotel Kyoto, Kyoto, Japan
- 年月日
  2011-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] Fundamental study on reaction mechanisms in chemically amplified extreme-ultraviolet resists by using 61-nm free-electron laser, SPIE Advanced Lithography 20112011
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Takaki Hatsui, Yasuharu Tajima, Keita Oikawa, Mitsuru Nagasono, Takashi Kameshima, Tadashi Togashi, Kensuke Tono, Makina Yabashi, Hiroaki Kimura, Yasunori Senba, Haruhiko Ohashi, and Takashi Sumiyoshi
- 学会等名
  San Jose Convention Center and San Jose Marriott| San Jose
- 発表場所
  California, USA
- 年月日
  2011-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] 極端紫外自由電子レーザーによる極薄膜高分子内のスパー制御2011
- 著者名/発表者名
  岡本一将
- 学会等名
  第54回放射線化学討論会
- 発表場所
  大阪大学吹田キャンパス(大阪府)
- 年月日
  2011-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] Fundamental study on reaction mechanisms in chemically amplified extreme-ultraviolet resists by using 61-nm free-electron laser2011
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2011
- 発表場所
  San Jose Convention Center, San Jose, USA
- 年月日
  2011-03-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] Charge dynamics in resist polymers for EUV and EB lithography2010
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 学会等名
  EUVレジスト国際シンポジウム
- 発表場所
  大阪大学中之島センター,大阪市
- 年月日
  2010-11-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] Dynamics of radical cation of poly(styrene-acrylate)-based chemically amplified resist for EUV and electron beam lithography2010
- 著者名/発表者名
  Yasuharu Tajima, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Ryoko Fujiyoshi, and Takashi Sumiyoshi
- 学会等名
  MNC 2010, 23rd International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Rihga Royal Hotel Kokura, Fukuoka, Japan
- 年月日
  2010-11-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] 芳香族分子の電荷非局在性に関する研究2010
- 著者名/発表者名
  岡本一将
- 学会等名
  第53回放射線化学討論会
- 発表場所
  名古屋大学
- 年月日
  2010-09-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760669
[学会発表] Hole Dynamics in Poly(4-Hydroxystyrene) and its Copolymer2009
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 学会等名
  The 12th SANKEN International Symposium
- 発表場所
  大阪大学
- 年月日
  2009-01-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Hole Dynamics in Poly(4-Hydroxystyrene) and its Copolymer2009
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  The 12th SANKEN International Symposium
- 発表場所
  Osaka Univ.
- 年月日
  2009-01-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Dynamics of PHS Radical Cation2008
- 著者名/発表者名
  Kasumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2008
- 発表場所
  San Jose, CA, USA
- 年月日
  2008-02-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Horie, Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, and K
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds2008
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 学会等名
  APSRC-2008 The 2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2008-08-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  Waseda University
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] ポリ(4-メトキシスチレン)のパルスラジオリシスーダイマーラジカルカチオン生成の置換基依存性2008
- 著者名/発表者名
  岡本一将
- 学会等名
  第51回放射線化学討論会
- 発表場所
  産総研、つくば
- 年月日
  2008-10-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films2008
- 著者名/発表者名
  T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- 年月日
  2008-10-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly (4-Hydroxystyrene) and its Copolymer2008
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Dynamics of Poly(4-hydroxystyrene) Radical Cation2008
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography
- 発表場所
  San Jose, USA
- 年月日
  2008-02-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly (4-Hydroxystyrene) and its Copolymer2008
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  JAL Resort Sea Hawk Hotel Fukuoka
- 年月日
  2008-10-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Acid-base equilibrium in chemically amplified resist, SPIE Advanced Lithography2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  San Jose
- 発表場所
  California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] 化学増幅型レジストベースポリマーのラジカルカチオンのダイナミクス2008
- 著者名/発表者名
  岡本一将, 田中将史, 古澤孝弘, 田川精一
- 学会等名
  2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- 年月日
  2008-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds2008
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
- 発表場所
  Waseda University
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-Hydroxystyrene)and its Copolymer2008
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Fukuoka, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on acid generation of acid generators in chemically amplified resists for electron beam2008
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
- 学会等名
  International Workshop on Molecular Information and Dynamics 2008
- 発表場所
  Taipei, Taiwan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] 化学増幅型レジストベースポリマーのラジカルカチオンのダイナミクス2008
- 著者名/発表者名
  岡本一将
- 学会等名
  第69回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  中部大学
- 年月日
  2008-09-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] ポリ(4-メトキシスチレン)のパルスラジオリシス-ダイマーラジカルカチオン生成の置換基依存性2008
- 著者名/発表者名
  田中将史, 岡本一将, 古澤孝弘, 田川精一
- 学会等名
  第51回放射線化学討論会
- 発表場所
  産総研
- 年月日
  2008-10-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Pulse Radiolysis of Polystyrene and Derivatives2007
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Shu Seki, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  13^<th> International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco USA,
- 年月日
  2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Pulse Radiolysis of Polsystyrene and Derivatives2007
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Shu Seki, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, USA
- 年月日
  2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] ポリスチレン誘導体のパルスラジオリシス法を用いたラジカルカチオンのダイナミクスの研究2007
- 著者名/発表者名
  田中将史, 岡本一将, 古澤孝弘, 関修平, 田川精一
- 学会等名
  第50回放射線化学討論会
- 発表場所
  京都大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Study on Dynamics of adical Ions of Polystyrenes by Pulse Radiolysis2007
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Takahiro Kozawa, Shu Seki, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, USA
- 年月日
  2007-07-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] Study on Dynamics of Radical Ions of Polystyrenes by Pulse Radiolysis2007
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Masafumi Tanaka, Takahiro Kozawa, Shu Seki, Seiichi Tagawa
- 学会等名
  13^<th> International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco USA,
- 年月日
  2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19710095
[学会発表] ポリ（4-ヒドロキシスチレン）（PHS）濃厚溶液の脱プロトン反応の粘度効果
- 著者名/発表者名
  石田拓也、岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、梅垣菊男
- 学会等名
  日本原子力学会　２０１４年春の年会
- 発表場所
  東京都市大学世田谷キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Analysis of Acid Yield Generated in Chemically Amplified Electron Beam Resist
- 著者名/発表者名
  T. Kozawa, T. Shigaki, K. Okamoto, A. Saeki and S. Tagawa
- 学会等名
  50th EIPBN
- 発表場所
  Baltimore, Maryland, USA
- 年月日
  2006-05-30 – 2006-06-02
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] High precision measurement of higher diffraction-order contamination in monochromatized soft X-ray by using a compact transmission-grating spectrometer
- 著者名/発表者名
  K. Fukui, T. Sakai, T. Hatsui, N. Kosugi, Y. Hamamura, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
- 学会等名
  International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2007-06-29 – 2007-07-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Study on dynamics of radical ions of polystyrenes by pulse radiolysis
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, S. Seki, T. Kozawa, S. Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, California, USA
- 年月日
  2007-06-07 – 2007-06-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] 光酸発生剤を添加した芳香族系レジスト樹脂のパルスラジオリシス
- 著者名/発表者名
  岡本一将、石田拓也、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会　２０１５年春の年会
- 発表場所
  茨城大学　日立キャンパス
- 年月日
  2015-03-20 – 2015-03-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Fluidity dependence of deprotonation kinetics of chemically amplified resist
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto , Takuya Ishida , Hiroki Yamamoto , Takahiro Kozawa , Ryoko Fujiyoshi , Kikuo Umegaki
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose Marriott and San Jose Convention Center San Jose, California, United States
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] ポリ（4-ヒドロキシスチレン）（PHS）濃厚溶液の脱プロトン反応の粘度効果
- 著者名/発表者名
  石田拓也、岡本一将、山本洋揮、古澤孝弘、藤吉亮子、梅垣菊男
- 学会等名
  日本原子力学会　２０１４年春の年会
- 発表場所
  東京都市大学世田谷キャンパス(世田谷区)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Pulse Radiolysis Study of EUV Resist Polymers with Photoacid Generator
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 学会等名
  APSRC2014
- 発表場所
  東京大学、東京
- 年月日
  2014-09-08 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Proton Dynamics and Amines in Chemically Amplified Resist
- 著者名/発表者名
  K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Deprotonation mechanism of ionized poly(4-hydroxystyrene)
- 著者名/発表者名
  Toshihiko Susa, Kazumasa Okamoto , Takuya Ishida , Hiroki Yamamoto , Takahiro Kozawa , Ryoko Fujiyoshi , Kikuo Umegaki
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose Marriott and San Jose Convention Center San Jose, California, United States
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Fluidity dependence of deprotonation kinetics of chemically amplified resist
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto , Takuya Ishida , Hiroki Yamamoto , Takahiro Kozawa , Ryoko Fujiyoshi , Kikuo Umegaki
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose Marriott and San Jose Convention Center, San Jose, California, U.S.A.
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Radiation Chemistry of Fluorinated Polymers for Extreme Ultraviolet Resist
- 著者名/発表者名
  Naoya Nomura, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 学会等名
  MNC2014
- 発表場所
  Hilton Fukuoka Sea Hawk, Fukuoka, Japan
- 年月日
  2014-11-04 – 2014-11-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] EUVレジストに向けたフッ素ポリマーの放射線化学反応の解明
- 著者名/発表者名
  野村直矢、岡本一将、藤吉亮子、梅垣菊男、山本洋揮、古澤孝弘
- 学会等名
  日本原子力学会　２０１５年春の年会
- 発表場所
  茨城大学　日立キャンパス
- 年月日
  2015-03-20 – 2015-03-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Radiation Chemistry of Fluorinated Polymers for Extreme-ultraviolet Resist
- 著者名/発表者名
  Naoya Nomura, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 学会等名
  APSRC2014
- 発表場所
  Univ. Tokyo, Tokyo, Japan
- 年月日
  2014-09-08 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究
- 著者名/発表者名
  山本洋揮、岡本一将、古澤孝弘
- 学会等名
  第61 回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山大学相模原キャンパス（相模原市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Deprotonation of　Poly(4-hydroxystyrene)Intermediates: Pulse Radiolysis Study of EUV and Electron Beam Resist
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, R. Matsuda, T. Kozawa, S. Tagawa, R. Fujiyoshi, and T. Sumiyoshi
- 学会等名
  ＭＮＣ2012
- 発表場所
  Kobe Meriken Park Oriental Hotel, Kobe (Japan)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] 高密度イオン化状態におけるＥＵＶリソグラフィプロセスのシミュレーション
- 著者名/発表者名
  西野圭一郎、　岡本一将、　古澤孝弘、　藤吉亮子、　梅垣菊男
- 学会等名
  日本原子力学会北海道支部第３０回研究発表会
- 発表場所
  北海道大学、札幌市
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] 化学増幅型レジストモデル溶液のパルスラジオリシス及びパルスラジオリシス-レーザーフラッシュフォトリシス
- 著者名/発表者名
  井上浩彰, 岡本一将, 藤吉亮子, 住吉孝
- 学会等名
  日本化学会第93春季年会(2013)
- 発表場所
  立命館大学（草津市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] レジストモデル高分子のパルスラジオリシス
- 著者名/発表者名
  岡本一将，古澤孝弘，田川精一, 藤吉亮子, 住吉孝
- 学会等名
  日本原子力学会「2012年秋の大会」
- 発表場所
  広島大学（東広島市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Pulse Radiolysis Study of EUV Resist Polymers with Photoacid Generator
- 著者名/発表者名
  Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 学会等名
  APSRC2014
- 発表場所
  Univ. Tokyo, Tokyo, Japan
- 年月日
  2014-09-08 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] 高密度イオン化状態におけるＥＵＶリソグラフィプロセスのシミュレーション
- 著者名/発表者名
  西野圭一郎、岡本一将、古澤孝弘、藤吉亮子、梅垣菊男
- 学会等名
  日本原子力学会北海道支部第３０回研究発表会
- 発表場所
  北海道大学（札幌市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24561037
[学会発表] Effect of Acid Diffusion and Polymer Structure on Line Edge Roughness
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, K. Okamoto, S. Tagawa, K. Ohmori, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  Int. Microprocesses and Nanotechnology Conf.
- 発表場所
  Kamakura, Japan
- 年月日
  2006-10-25 – 2006-10-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Radiation Chemistry of Fluorinated Polymers for Extreme Ultraviolet Resist
- 著者名/発表者名
  Naoya Nomura, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki,
- 学会等名
  MNC2014
- 発表場所
  Hilton FukuokaSea Hawk,福岡
- 年月日
  2014-11-04 – 2014-11-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Pulse radiolysis of polystyrene and derivatives
- 著者名/発表者名
  K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa
- 学会等名
  13th International Congress of Radiation Research
- 発表場所
  San Francisco, California, USA
- 年月日
  2007-07-07 – 2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] CNW-FETプロセスへの低温バッファー層の影響
- 著者名/発表者名
  河原敏男、中川幸紀、大野泰秀、前橋謙三、松本和彦、岡本一将、宇都宮里佐、松葉晃明、吉村雅満、松岡佑樹
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学札幌キャンパス(北海道札幌市)
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26390030
[学会発表] Deprotonation mechanism of ionized poly(4-hydroxystyrene)
- 著者名/発表者名
  Toshihiko Susa, Kazumasa Okamoto , Takuya Ishida , Hiroki Yamamoto , Takahiro Kozawa , Ryoko Fujiyoshi , Kikuo Umegaki
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose Marriott and San Jose Convention Center, San Jose, California, U.S.A.
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] パルスラジオリシスによるポリヒドロキシスチレン固体中での脱プロトン化反応に関する研究
- 著者名/発表者名
  山本洋揮、岡本一将、古澤孝弘
- 学会等名
  第61 回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山大学相模原キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] Development and performance of quasi-free standing transmission-grating for soft X-ray emission spectrometer
- 著者名/発表者名
  T. Hatsui, K. Okamoto, Y. Matsui, T. Kozawa, S. Seki, S. Tagawa, Y. Hamamura, N. Kosugi
- 学会等名
  International Conference on Vacuum Ultraviolet Radiation Physics 15th
- 発表場所
  Berlin, Germany
- 年月日
  2007-06-29 – 2007-07-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014
[学会発表] Radiation Chemistry of Fluorinated Polymers for Extreme-ultraviolet Resist
- 著者名/発表者名
  Naoya Nomura, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Ryoko Fujiyoshi, Kikuo Umegaki
- 学会等名
  APSRC2014
- 発表場所
  東京大学、東京
- 年月日
  2014-09-08 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630424
[学会発表] The reaction mechanism of poly[4-hydroxystyrene-co-4-(1, 1, 1, 3, 3, 3-hexafluoro-2- hydroxypropyl)-styrene]
- 著者名/発表者名
  H. Yamamoto, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, T. Ando, M. Sato, H. Komano
- 学会等名
  31st Int. Symp. Microlithography
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2006-02-19 – 2006-02-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17106014

1. 古澤孝弘 (20251374)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 56件
2. 田川精一 (80011203)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 36件
3. 関修平 (30273709)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 6件
4. 佐伯昭紀 (10362625)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
5. 山本洋揮 (00516958)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 12件
6. 藤吉亮子 (70229061)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 20件
7. 河原敏男 (80437350)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
8. 前橋兼三 (40229323)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
9. 渡辺精一 (60241353)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
10. 鈴木康夫 (00046278)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
11. 室屋裕佐 (40334320)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
12. 大沼正人 (90354208)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. JEEM MELBERT (00815805)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件
14. 柴山環樹 (10241564)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
15. 張麗華 (60719714)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
16. ヂンタンフン

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件
17. 小林一雄

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 1件

岡本 一将 Okamoto Kazumasa

研究課題

研究成果

共同研究者

放射線プロセスによる位置制御可能なケミカルフリー水中酸化物結晶生成法の確立研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

ガルバニック水中結晶光合成の学理構築に基づく機能性３次元ヘテロナノ構造体創製

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

放射線微細加工プロセスにおける脱プロトン誘起機構の解明と応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

量子ビーム科学とデータ科学の融合によるシングルナノ材料開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

放射線誘起ナノ微細加工における電荷非局在性の影響研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

自己組織化数層グラフェンの糖鎖修飾による高病原性鳥インフルエンザセンサの開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

電子線・レーザー逐次照射法による微細加工用高分子の新規放射線増感反応の探索

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

極薄膜高分子の局所イオン化反応の解明と応用研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

量子ビームによる微細加工用高分子のイオン化ダイナミクスの解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

レジスト材料のナノサイズゆらぎ制御のための分子ダイナミクスと反応機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Fabrication of color-toned micro/nanopattern surface by submerged photosynthesis method2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Synthesis and Resist Sensitive Property of Iodine-Containing Materials using Extreme Ultraviolet (EUV) Exposure Tool2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

ISSN

岡本一将 Okamoto Kazumasa