原田哲男 Harada Tetsuo

研究者番号	30451636
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2019年度 – 2021年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授 2010年度 – 2017年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 2012年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助授 2008年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 2007年度: 東北大学, 多元物質科学研究所, 研究支援者
審査区分/研究分野	研究代表者薄膜・表面界面物性 / 小区分80040:量子ビーム科学関連研究代表者以外電子デバイス・電子機器 / 小区分30020:光工学および光量子科学関連 / 量子ビーム科学
キーワード	研究代表者応用光学 / 軟Ｘ線CMOSカメラ / 共鳴軟Ｘ線反射率 / 共鳴軟Ｘ線散乱 / 軟Ｘ線 / EUVリソグラフィー / 軟Ｘ線共鳴反射率 / 軟Ｘ線共鳴散乱 / フォトレジスト / コヒーレント回折イメージング … もっと見る / コヒーレンス / 高次高調波 / EUV / 超精密計測 / X線 / 超薄膜 / 干渉計測 … もっと見る研究代表者以外 EUVリソグラフィ / 感度 / 半導体微細加工 / レジスト / 極端紫外線リソグラフィ / 極紫外 / ポリマーブレンド / 超深度イメージング / 多層膜ミラー / 軟X線光学定数 / 偏光 / 軟X線 / 軟Ｘ線 / PMMA / フォトダイオード / 反射率 / 多層膜 / フィルター / 極端紫外線 / フォトレジスト / 吸収係数 / 透過率 / 光学定数 / 軟Ｘ線吸収分光 / 高感度 / 金属レジスト / 化学増幅系レジスト / 非化学増幅系レジスト / 軟X線光電子分光 / アウトガス / LWR / 解像度 / EUVレジスト / 干渉霞光 / レジス / 微細加工技術 / 半導体 / line edge roughness / 化学増幅系 / 干渉露光 / 微細プロセス技術隠す

EUV波面シンセサイザの開発と実時間・超深度ナノイメージングへの応用
- 研究代表者
  
  豊田光紀
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2021
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分30020:光工学および光量子科学関連
- 研究機関
  東京工芸大学
共鳴軟Ｘ線反射率測定によるフォトレジストの反応分布評価手法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  原田哲男
- 研究期間 (年度)
  2019 – 2021
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分80040:量子ビーム科学関連
- 研究機関
  兵庫県立大学
軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定
- 研究代表者
  
  木下博雄
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  兵庫県立大学
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発
- 研究代表者
  
  渡邊健夫
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  兵庫県立大学
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成
- 研究代表者
  
  渡邊健夫
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  兵庫県立大学
13nm高次高調波の時間コヒーレンス100倍改善法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  原田哲男
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2011
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  兵庫県立大学
縦配置薄膜ビームスプリッターによる軟X線適用可能な新型コモンパス干渉計の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  原田哲男
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  若手研究(スタートアップ)
- 研究分野
  
  薄膜・表面界面物性
- 研究機関
  兵庫県立大学
   東北大学

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すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Development of a high-power EUV irradiation tool in a hydrogen atmosphere2021
- 著者名/発表者名
  Harada Tetsuo、Yamakawa Shinji、Toyoda Mitsunori、Watanabe Takeo
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 60 号: 8 ページ: 087005-087005
- DOI
  10.35848/1347-4065/ac15ef
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K05314
[雑誌論文] Fundamental Evaluation of Resist on EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility2021
- 著者名/発表者名
  Watanabe Takeo、Harada Tetsuo、Yamakawa Shinji
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 34 号: 1 ページ: 49-53
- DOI
  10.2494/photopolymer.34.49
- NAID
  130008119687
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2021-06-11
- 言語
  英語
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Fundamental research activities on EUV lithography at NewSUBARU synchrotron light facility2021
- 著者名/発表者名
  Watanabe Takeo、Harada T.、Yamakawa S.
- 雑誌名
  
  SPIE Proc.
  
  巻: 11908 ページ: 1190807-1190807
- DOI
  10.1117/12.2600896
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Analysis of Chemical Contents Spatial Distribution in EUV Resist Using Resonant Soft X-ray Scattering Method2020
- 著者名/発表者名
  Tanaka Jun、Ishiguro Takuma、Harada Tetsuo、Watanabe Takeo
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 33 号: 5 ページ: 491-498
- DOI
  10.2494/photopolymer.33.491
- NAID
  130007867617
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2020-07-01
- 言語
  英語
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing2020
- 著者名/発表者名
  Heya Akira、Harada Tetsuo、Niibe Masahito、Sumitomo Koji、Watanabe Takeo
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 33 号: 4 ページ: 419-426
- DOI
  10.2494/photopolymer.33.419
- NAID
  130007867645
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2020-07-01
- 言語
  英語
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist2019
- 著者名/発表者名
  Ishiguro Takuma、Tanaka Jun、Harada Tetsuo、Watanabe Takeo
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 32 号: 2 ページ: 333-337
- DOI
  10.2494/photopolymer.32.333
- NAID
  130007744336
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2019-06-24
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Energy- and spatial-resolved detection using a backside-illuminated CMOS sensor in the soft X-ray region2019
- 著者名/発表者名
  Harada Tetsuo、Teranishi Nobukazu、Watanabe Takeo、Zhou Quan、Yang Xiao、Bogaerts Jan、Wang Xinyang
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 12 号: 8 ページ: 082012-082012
- DOI
  10.7567/1882-0786/ab32d2
- NAID
  210000156726
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Resonant Soft X-ray Scattering for the Stochastic Origin Analysis in EUV Resist2019
- 著者名/発表者名
  Tanaka Jun、Ishiguro Takuma、Harada Tetsuo、Watanabe Takeo
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 32 号: 2 ページ: 327-331
- DOI
  10.2494/photopolymer.32.327
- NAID
  130007744334
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 年月日
  2019-06-24
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] High-exposure-durability, high-quantum-efficiency (>90%) backside-illuminated soft-X-ray CMOS sensor2019
- 著者名/発表者名
  Harada Tetsuo、Teranishi Nobukazu、Watanabe Takeo、Zhou Quan、Bogaerts Jan、Wang Xinyang
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 13 号: 1 ページ: 016502-016502
- DOI
  10.7567/1882-0786/ab5b5e
- NAID
  210000157655
- 査読あり / オープンアクセス / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[雑誌論文] Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode2017
- 著者名/発表者名
  S. Niihara, D. Mamezaki, M. Watanabe, T. Harada, and T. Watanabe
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 30 号: 1 ページ: 87-92
- DOI
  10.2494/photopolymer.30.87
- NAID
  130005950331
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Actual defect observation results of an extreme ultraviolet blank mask by coherent diffraction imaging2016
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 9 ページ: 35202-35202
- NAID
  210000137831
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope2016
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Micro-Nanolith. Mem
  
  巻: 15 ページ: 21007-21007
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of a reflectometer for a large EUV mirror in NewSUBARU2015
- 著者名/発表者名
  Haruki Iguchi, Hiraku Hashimoto, Masaki Kuki, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9658 ページ: 965819-965819
- オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015
- 著者名/発表者名
  Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 525-529
- NAID
  130005101110
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Phase Imaging Results of Phase Defect Using Micro Coherent EUV Scatterometry Microscope2015
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Tsuyoshi Amano, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9635
- オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015
- 著者名/発表者名
  Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 530-536
- NAID
  130005101111
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of element technologies for EUVL2015
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe and Tetsuo Harada
- 雑誌名
  
  Adv. Opt. Techn
  
  巻: 4(4) ページ: 319-331
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity　Achievement2014
- 著者名/発表者名
  Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino,Tsubasa Fukui, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 27 ページ: 631-638
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 635-642
- NAID
  130004465045
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Comparison of Resist Family Outgassing Characterization between EUV and EB2013
- 著者名/発表者名
  Isamu Takagi, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Kazuhiro Katayam, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichiro Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 673-678
- NAID
  130004465050
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of Tool for Contamination Layer Thickness Measurement Using High Power Extreme Ultraviolet Light and in Situ Ellipsometer2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Norihiko Sugie, Hiroyuki Tanaka, Eishi Shiobara, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 5R ページ: 056701-056701
- DOI
  10.7567/jjap.52.056701
- NAID
  210000142182
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Comparison of Resist Outgassing Characterization between High Power EUV and EB2012
- 著者名/発表者名
  Norihiko Sugie, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 617-624
- NAID
  130004833488
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of standalone coherent EUV scatterometry microscope with high-harmonic-generation EUV source2012
- 著者名/発表者名
  T.Harada, M.Nakasuji, Y.Nagata, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc.SPIE
  
  巻: (Accepted)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[雑誌論文] EUV リソグラフィ研究開発センターにおけるリソグラフィ開発2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー
  
  巻: 22 ページ: 1-5
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet Mask Inspection and Metrology2012
- 著者名/発表者名
  Masato Nakasuji, Akifumi Tokimasa, Tetsuo Harada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Katsumi Midorikawa, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 52(in press)
- NAID
  210000140707
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[雑誌論文] Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet2012
- 著者名/発表者名
  M.Nakasuji, A.Tokimasak, T.Harada, Y.Nagata, T.Watanabe, K.Midorikawa, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys.
  
  巻: (Accepted)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[雑誌論文] Chemical Reaction Analysis of EUV CA Resist using SR Absorption Spectroscopy2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yuichi Haruyama, Daiju Shiono, Kazuya Emura, Takuro Urayama, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 569-574
- NAID
  130004833480
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Critical Dimension Measurement of an Extreme-Ultraviolet Mask Utilizing Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope at NewSUBARU2011
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Masaki Tada, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 50 号: 6S ページ: 06GB03-06GB03
- DOI
  10.1143/jjap.50.06gb03
- NAID
  210000070654
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[雑誌論文] Imaging of EUV-mask patterns using coherent EUV scatterometry microscope based on coherent diffraction imaging2011
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Teruhiko, Kimura, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Yutaka Nagata
- 雑誌名
  
  J. Vac. Sci. Technol. B
  
  巻: 29 号: 6
- DOI
  10.1116/1.3657525
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[雑誌論文] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takuro Urayama, Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Naohiro Matsuda, Yasuyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 681-686
- NAID
  130004833387
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of interference lithography for 22 nm node and below2011
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Takafumi Iguchi, Takuro Urayama, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Microelectric Engineering
  
  巻: 88 ページ: 1944-1947
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] elationships between EUV resist outgassing and contamination deposition at Selete2011
- 著者名/発表者名
  Hiroaki Oizumi, Kazuyuki Matsumaro, Satoshi Nomura, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takeo Watanabe, Naohiro Matsuda, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 7969
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] The coherent EUV scatterometry microscope for actinic mask inspection and metrology2011
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Teruhiko Kimura, Yutaka Nagata, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc.SPIE
  
  巻: 8081 ページ: 80810K-80810K
- DOI
  10.1117/12.896576
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[雑誌論文] Transmission Grating Fabrication for Replicating Resist Patterns of 20 nm and Below2011
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 50
- NAID
  210000070661
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] In-situ Contamination Thickness Measurement by Novel Resist Evaluation System at NewSUBARU2011
- 著者名/発表者名
  Naohiro Matsuda, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, Hiroaki Oizumi, and Toshiro Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 50
- NAID
  210000070653
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV interference lithography for 22 nm node and below2010
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Teruhiko Kimura, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 673-680
- NAID
  130004464851
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Fabrication process of EUV -IL transmission grating2010
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yakusyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 681-386
- NAID
  130004464852
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of Extreme Ulytaviolet Interference Lithography System2010
- 著者名/発表者名
  Y. Fukushima, Naqoki. Sakagami, Teruhiko Kimura, Yoshito Kamaji, Takafumi Iguchi, Y. Yamaguchi, Masaki Tada, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 軟X線共鳴散乱法を用いたフォトレジスト評価手法の検討2020
- 著者名/発表者名
  田中淳、石黒巧真、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第33回日本放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] 軟Ｘ線領域において量子効率90%以上の性能を有する背面照射型CMOSイメージセンサの開発2020
- 著者名/発表者名
  原田哲男, 寺西信一, 渡邊健夫, Quan Zhou, Jan Bogaerts, and Xinyang Wang
- 学会等名
  第33回日本放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] 軟Ｘ線共鳴反射率（・散乱）法によるフォトレジスト研究2020
- 著者名/発表者名
  原田哲男
- 学会等名
  東北大学多元物質科学研究所高分子・ハイブリッド材料研究センター 2020 PHyM シンポジウム
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing2020
- 著者名/発表者名
  Heya Akira、Harada Tetsuo、Niibe Masahito、Sumitomo Koji、Watanabe Takeo
- 学会等名
  The 37th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] 軟Ｘ線共鳴散乱・反射率法による有機材料の構造解析2020
- 著者名/発表者名
  原田哲男、山川進二、渡邊健夫
- 学会等名
  SPring-8産業利用報告会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] 軟Ｘ線共鳴反射率法による単層レジストプロセス用フォトレジストの相分離構造評価2020
- 著者名/発表者名
  石黒巧真、田中淳、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第33回日本放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] Analysis of Chemical Contents Spatial Distribution in EUV Resist Using Resonant Soft X-ray Scattering Method2020
- 著者名/発表者名
  Tanaka Jun、Ishiguro Takuma、Harada Tetsuo、Watanabe Takeo
- 学会等名
  The 37th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist2019
- 著者名/発表者名
  6.Takuma Ishiguro, Jun Tanaka, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  ICPST36
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] Resonant Soft X-ray Scattering for the Stochastic Origin Analysis in EUV Resist2019
- 著者名/発表者名
  7.Jun Tanaka, Takuma Ishiguro, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  ICPST36
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19K12644
[学会発表] 大型反射率計によるEUV集光ミラーの評価2017
- 著者名/発表者名
  井口晴貴、橋本拓、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のワイドバンド多層膜偏光子の開発2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第30回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2017-01-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のMo/Siワイドバンド多層膜偏光子の開発,2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第64回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  横浜
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のMo/Siワイドバンド多層膜偏光子の開発,2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  先端技術セミナー
- 発表場所
  姫路
- 年月日
  2017-03-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用の垂直偏光制御機構の開発2017
- 著者名/発表者名
  原田哲男、井口晴貴、渡辺雅紀、渡邊健夫
- 学会等名
  第30回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2017-01-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode2017
- 著者名/発表者名
  Shota Niihara, Daiki Mamezaki, Masanori Watanabe, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-34)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のワイドバンド多層膜偏光子の開発2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] フォトダイオード直接塗布法による EUVレジストの高精度な吸収係数測定法2017
- 著者名/発表者名
  新原章汰、豆﨑大輝、渡辺雅紀、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用の垂直偏光制御機構の開発2017
- 著者名/発表者名
  原田哲男、井口晴貴、渡辺雅紀、渡邊健夫
- 学会等名
  放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015
- 著者名/発表者名
  Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015
- 著者名/発表者名
  福田裕貴、福井　翼、谷野寛仁、九鬼真輝、渡邊健夫、木下博雄、原田哲男
- 学会等名
  NGLワークショップ2015
- 発表場所
  東京工業大学蔵前館（東京都目黒区）
- 年月日
  2015-07-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 12.5 nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015
- 著者名/発表者名
  福田裕貴, 福井翼、谷野寛仁, 原田哲男, 渡邊健夫
- 学会等名
  第76回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場（愛知県名古屋市熱田区）
- 年月日
  2015-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 軟Ｘ線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析2015
- 著者名/発表者名
  山口都太、石井暁大、渡邊健夫、九鬼正樹、原田哲男
- 学会等名
  第１回放射光産業利用支援講座
- 発表場所
  姫路駅前じばさんびる（兵庫県姫路市）
- 年月日
  2015-10-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015
- 著者名/発表者名
  Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Contribution of EUV resist components to the noncleanable contaminations2014
- 著者名/発表者名
  Eishi Shiobara, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Isamu Takagi, Kazuhiro Katayama, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Tetsuro Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Chemical Reaction Analysis by SR Absorption Spectroscopy to Increase the Acid Generation Efficiency of EUV CA Resist2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市））
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Recent Activities of the Actinic Mask Inspection using the EUV Microscope at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Resist outgassing characterization of PAG-blended and PAG-bound systems2013
- 著者名/発表者名
  Kazuhiro Katayama, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学西千葉キャンパス（千葉県千葉市稲毛区）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Comparison of Resist Family Outgassing Characterization2013
- 著者名/発表者名
  Isamu Takagi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学西千葉キャンパス（千葉県千葉市稲毛区）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Study of the relation between Resist components and outgassing contamination species2013
- 著者名/発表者名
  Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Kazuhiro Katayama, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshit
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Recent Activities of the EUV Resist Research and Development at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUVL 研究開発センターにおけるEUV レジストの開発(基調講演)、アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)、新材料開発最前線、微細パターン化技術2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  日本化学会第93春季年会(2013)
- 発表場所
  立命館大学びわこ・くさつキャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVマスク検査のための高次高調波コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発2012
- 著者名/発表者名
  中筋正人, 原田哲男, 永田豊, 時政明史, 渡邊健夫, 緑川克美, 木下博雄
- 学会等名
  第25回放射光学会年会放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  鳥栖市(佐賀県)
- 年月日
  2012-01-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] Recent Activities on EUVL in NewSUBARU (Invited talk)2012
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshia, Takeo Watanabe, and Tetsuo Harada
- 学会等名
  24th Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kobe Meriken Park Oriental Hotel, Kobe, Hyogo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Contamination Evaluation Tool by an In-situ Spectroscopic Ellipsometer with an Exposure of High Power EUV (Invited talk)2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Masaki Tada, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  Technical Working Group of EUV Resist Outgassing
- 発表場所
  Brussels Convention Center, Brussels, Belgium
- 年月日
  2012-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVマスク検査のための高次高調波コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡の開発2012
- 著者名/発表者名
  中筋正人, 時政明史, 原田哲男, 永田豊, 渡邊健夫, 緑川克美, 木下博雄
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学(東京都)
- 年月日
  2012-03-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] Development of Standalone Coherent EUV Scatterometry Microscope with High-Harmonic-Generation EUV Source2012
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  Photo Mask Japan 2012
- 発表場所
  (Yokohama, Japan)(招待講演)
- 年月日
  2012-04-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] 極端紫外線リソグラフィ技術開発の現状と今後の展望(招待講演)2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  リソグラフィセミナー(I)、セミフォーラムジャパン2012
- 発表場所
  グランキューブ大阪(大阪市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク上のプログラム欠陥観察結果2011
- 著者名/発表者名
  中筋正人, 木村瑛彦, 多田将樹, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
- 学会等名
  第58回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  (講演予稿集のみ)
- 年月日
  2011-03-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるタイコグラフィーでのEUVマスクパタン増再生2011
- 著者名/発表者名
  原田哲男, 中筋正人, 木村瑛彦, 渡邊健夫, 木下博雄
- 学会等名
  第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  つくば国際会議場
- 年月日
  2011-01-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク検査2011
- 著者名/発表者名
  原田哲男, 中筋正人, 渡邊健夫, 永田豊, 木下博雄
- 学会等名
  第11回X線結像光学シンポジウム
- 発表場所
  東北大学(宮城県)(招待講演)
- 年月日
  2011-11-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] EUV リソグラフィ-研究開発センターにおけるリソグラフィー開発(招待講演)、アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  次世代リソグラフィ、日本化学会第91 春季年会
- 発表場所
  神奈川大学(神奈川)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] タイコグラフィーにおける像再生条件の最適化2011
- 著者名/発表者名
  木村瑛彦, 中筋正人, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
- 学会等名
  第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  つくば国際会議場
- 年月日
  2011-01-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] Development of Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope with High-Order Harmonic Generation Source for Extreme-Ultraviolet2011
- 著者名/発表者名
  M.Nakasuji, A.Tokimasak, T.Harada, Y.Nagata, T.Watanabe, K.Midorikawa, H.Kinoshita
- 学会等名
  MNC2011
- 発表場所
  Kyoto (Japan)
- 年月日
  2011-10-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takuro Urayama, Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Naohiro Matsuda, Yasuyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 28th International Conference ofPhotopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Imaging of EUV-Mask Patterns using the Coherent Scatterometry Microscope based on a Coherent Diffraction Imaging2011
- 著者名/発表者名
  T.Harada, M.Nakasuji, T.Kimura, T.Watanabe, H.Kinoshita, Y.Nagata
- 学会等名
  55^<th> EIPBN
- 発表場所
  Las Vegas (USA)
- 年月日
  2011-05-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるCD評価2011
- 著者名/発表者名
  中筋正人, 多田将樹, 原田哲男, 渡邊健夫,木下博雄
- 学会等名
  第24回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  つくば国際会議場
- 年月日
  2011-01-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク検査2011
- 著者名/発表者名
  原田哲男, 中筋正人, 渡邊健夫, 永田豊, 木下博雄
- 学会等名
  第11回X線結像光学シンポジウム
- 発表場所
  (東北大学)(招待講演)
- 年月日
  2011-11-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Takuro Urayama, Naohiro Matsuda, Tetsu Harada and Hiroo Kinosita
- 学会等名
  2011 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Makena Beach and Golf Resort, Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] X線回折顕微法によるEUVマスク像再生アルゴリズムの検討2010
- 著者名/発表者名
  木村瑛彦, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
- 学会等名
  2010年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  名古屋大学
- 年月日
  2010-09-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] Fabrication process of EUV-IL transmission grating2010
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yakusyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるEUVマスク上のプログラム欠陥観察結果2010
- 著者名/発表者名
  中筋正人, 多田将樹, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- 年月日
  2010-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡によるCD評価2010
- 著者名/発表者名
  原田哲男, 中筋正人, 多田将樹, 渡邊健夫, 木下博雄
- 学会等名
  第71回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  長崎大学
- 年月日
  2010-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] Critical Dimension Evaluation of an EUV Mask utilizing the Coherent EUV Scatterometry Microscope2010
- 著者名/発表者名
  Tetsuo Harada, Masato Nakasuji, Masaki Tada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  MNC2010
- 発表場所
  小倉
- 年月日
  2010-11-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22760029
[学会発表] EUV interference lithography for 22 nm node and below2010
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Teruhiko Kimura, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 新型軟X線用コモンパス干渉計の開発2009
- 著者名/発表者名
  原田哲男
- 学会等名
  第56回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  筑波大学
- 年月日
  2009-03-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-19860006
[学会発表] 非化学増幅系EUVレジストの低温現像による解像性能向上
- 著者名/発表者名
  山口太都，江村和也，福井翼，谷野寛仁，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄，星野亮一
- 学会等名
  NGLワークショップ2014
- 発表場所
  東京工業大学蔵前ホール　東京都目黒区大岡山２丁目１２－１
- 年月日
  2014-07-17 – 2014-07-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 10 nm 級 EUV 干渉露光用透過型回折格子の製作
- 著者名/発表者名
  福井　翼，谷野寛仁，福田裕貴，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
- 学会等名
  第75回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  北海道大学札幌キャンパス　北海道札幌市北区北８条西５丁目
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUV Resist Chemical Reaction Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement
- 著者名/発表者名
  Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Daiju Shiono, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino, TsubasaFukui, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada,and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2014-07-08 – 2014-07-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 脱保護反応に起因した膜減量評価による化学増幅系EUV用レジストの反応解析
- 著者名/発表者名
  江村和也，渡邊健夫，山口太都，谷野寛仁，福井翼，塩野大寿，春山雄一，村松康司，大森克実，佐藤和史，原田哲男，木下博雄
- 学会等名
  NGLワークショップ2014
- 発表場所
  東京工業大学蔵前ホール　東京都目黒区大岡山２丁目１２－１
- 年月日
  2014-07-17 – 2014-07-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106

1. 渡邊健夫 (70285336)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 54件
2. 木下博雄 (50285334)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 43件
3. 村松康司 (50343918)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 豊田光紀 (40375168)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
5. 塩野大寿

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 1件
6. 武藤正雄

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 津野勝重

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

原田 哲男 Harada Tetsuo

研究課題

研究成果

共同研究者

EUV波面シンセサイザの開発と実時間・超深度ナノイメージングへの応用

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

共鳴軟Ｘ線反射率測定によるフォトレジストの反応分布評価手法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

13nm高次高調波の時間コヒーレンス100倍改善法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

縦配置薄膜ビームスプリッターによる軟X線適用可能な新型コモンパス干渉計の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Development of a high-power EUV irradiation tool in a hydrogen atmosphere2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Fundamental Evaluation of Resist on EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Fundamental research activities on EUV lithography at NewSUBARU synchrotron light facility2021

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Analysis of Chemical Contents Spatial Distribution in EUV Resist Using Resonant Soft X-ray Scattering Method2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing2020

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

原田哲男 Harada Tetsuo