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中野 武雄  Nakano Takeo

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 40237342
その他のID
外部サイト
所属 (現在) 2025年度: 成蹊大学, 理工学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2017年度 – 2019年度: 成蹊大学, 理工学部, 教授
2014年度: 成蹊大学, 理工学部, 准教授
2008年度 – 2013年度: 成蹊大学, 理工学部, 助教
2007年度: 成蹊大学, 理工学部, 助手
1999年度 – 2000年度: 成蹊大学, 工学部, 助手
1993年度 – 1994年度: 成蹊大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
応用物理学一般 / 応用物理学一般 / 表面界面物性
研究代表者以外
応用物理学一般 / 応用物理学一般
キーワード
研究代表者
プラズマ電位制御 / 大電力パルススパッタ / 堆積粒子エネルギー / 薄膜構造制御 / プラズマ電位 / 大電力パルススパッタリング / スパッタリング / デュアルターゲット / プラズマ加工 / 薄膜微細構造 … もっと見る / プラズマ制御 / 低温製膜 / 構造制御 / 金属膜堆積 / 膜応力 / 薄膜作製プロセス / 銅薄膜 / 微細電子放出源 / 薄膜堆積プロセス / モデリング / 反応性スパッタリング / プラズマ発光分光法 / 境界要素法 / 膜厚分布 / 気体分子運動論 / モンテカルロ・シミュレーション / 粒子輸送 … もっと見る
研究代表者以外
SCRATCH TEST / X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY / FILM ADHESION / FRACTO-EMISSION / EXOELECTRON / 密着性 / 薄膜 / スクラッチ / X線光電子スペクトル / 付着力 / フラクトエミッション / エキソ電子 / 窒化物薄膜 / 酸窒化物 / モード遷移 / 高純度金属窒化物 / 大電力パルススパッタ / 高純度窒化物薄膜 / パルススパッタリング / 窒化チタン / 反応性スパッタリング 隠す
  • 研究課題

    (6件)
  • 研究成果

    (115件)
  • 共同研究者

    (1人)
  •  デュアルターゲット型大電力パルススパッタによるプラズマ電位と薄膜構造の制御研究代表者

    • 研究代表者
      中野 武雄
    • 研究期間 (年度)
      2017 – 2019
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      成蹊大学
  •  大電力パルススパッタにおけるパルスオフ期間のターゲット電位を用いた薄膜構造制御研究代表者

    • 研究代表者
      中野 武雄
    • 研究期間 (年度)
      2012 – 2014
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      成蹊大学
  •  酸素フリーな金属窒化物の反応性スパッタ製膜過程の理解と電気物性への酸素混入の効果

    • 研究代表者
      馬場 茂
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2011
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      成蹊大学
  •  スパッタ粒子とガスの輸送過程を考慮した反応性スパッタプロセスモデルの構築研究代表者

    • 研究代表者
      中野 武雄
    • 研究期間 (年度)
      2007 – 2009
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      成蹊大学
  •  高圧環境下のスパッタリング製膜過程におけるシミュレーションモデルの開発研究代表者

    • 研究代表者
      中野 武雄
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2000
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      成蹊大学
  •  エキソ電子による薄膜のスクラッチ破損の検出

    • 研究代表者
      馬場 茂
    • 研究期間 (年度)
      1993 – 1994
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      成蹊大学

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すべて 雑誌論文 学会発表 図書 産業財産権

  • [図書] スパッタ実務[q&a集]2009

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 他
    • 総ページ数
      315
    • 出版者
      技術情報協会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [図書] スパッタ実務[Q & A集]2009

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 他21名
    • 総ページ数
      315
    • 出版者
      技術情報協会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [図書] 薄膜ハンドブック(第2版)2008

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 他
    • 出版者
      オーム社
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [雑誌論文] 大電力パルススパッタ法によるスピント型陰極作製における放電ガス(アルゴン、クリプトン)の効果2018

    • 著者名/発表者名
      谷口日向,中野武雄,大家渓,長尾昌善,大崎壽,村上勝久
    • 雑誌名

      電子情報通信学会技術研究報告

      巻: 118(263) ページ: 5-8

    • NAID

      40021713360

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [雑誌論文] Growth of target race track profile during magnetron sputtering2015

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Yudai Saitou, Mariko Ueda, Noriaki Itamura, Shigeru Baba
    • 雑誌名

      J. Vac. Soc. Jpn.

      巻: 58

    • NAID

      130005091231

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [雑誌論文] Fabrication of precious metals recovery materials using grape seed-waste2015

    • 著者名/発表者名
      Motoki Inoue, Takeo Nakano, Akihiro Yamasaki
    • 雑誌名

      Sust. Mater. Technol.

      巻: 3 ページ: 14-16

    • DOI

      10.1016/j.susmat.2014.11.005

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [雑誌論文] Effects of Atomic Weight, Gas Pressure, and Target-to-substrate Distance on Deposition Rates in the Sputter Deposition Process2014

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Ryo Yamazaki, Shigeru Baba
    • 雑誌名

      Journal of the Vacuum Society of Japan

      巻: 57 号: 4 ページ: 152-154

    • DOI

      10.3131/jvsj2.57.152

    • NAID

      130004952507

    • ISSN
      1882-2398, 1882-4749
    • 言語
      英語
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [雑誌論文] Oxygen Incorporation in Reactive-Sputter-Deposited TiN Films: Influence of the Metal to O<sub>2</sub> Gas Flux Ratio2014

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Takuya Umahashi, Shigeru Baba
    • 雑誌名

      Journal of the Vacuum Society of Japan

      巻: 57 号: 1 ページ: 16-22

    • DOI

      10.3131/jvsj2.57.16

    • NAID

      130004512911

    • ISSN
      1882-2398, 1882-4749
    • 言語
      英語
    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [雑誌論文] Estimation of the pressure‐distance product for thermalization in sputtering for some selected metal atoms by Monte Carlo simulation2014

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Shigeru Baba
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 53 号: 3 ページ: 38002-3

    • DOI

      10.7567/jjap.53.038002

    • NAID

      210000143458

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [雑誌論文] Effects of target voltage during pulse-off period in pulsed magnetron sputtering on afterglow plasma and de-posited film structure2012

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, N. Hirukawa, S. Saeki, S. Baba
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: vol.86(in press)

    • URL

      http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2012.03.010

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Structural and optical properties of reactive-sputtered films of V2O5 : Meas-urement of optical bandgap and roughness correction2012

    • 著者名/発表者名
      K. Maki, T. Fukuda, T. Nakano, S. Baba
    • 雑誌名

      成蹊大学理工学研究報告

      巻: 49巻 ページ: 41-44

    • URL

      http://hdl.handle.net/10928/

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Effects of target voltage during pulse-off period in pulsed magnetron sputtering on afterglow plasma and deposited film structure2012

    • 著者名/発表者名
      T.Nakano, N.Hirukawa, S.Saeki, S.Baba
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: 86(in press) ページ: 109-113

    • DOI

      10.1016/j.vacuum.2012.03.010

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Structural and optical properties of reactive-sputtered films of V_2O_5 : Measurement of optical bandgap and roughness correction2012

    • 著者名/発表者名
      K.Maki, T.Fukuda, H.Momose, T.Nakano, S.Baba
    • 雑誌名

      成蹊大学理工学研究報告

      巻: 49巻1号(in press)

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Structural Properties of Island Films of Indium on Si(111) and the Sputter-Etching Profile2011

    • 著者名/発表者名
      S.Baba, M.Iozaki, S.Sato, T.Nakano
    • 雑誌名

      成蹊大学理工学研究報告

      巻: 48巻1号 ページ: 1-8

    • NAID

      120005614688

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Structural Properties of Island Films of Indium on Si(111) and the Sputter-Etching Profile2011

    • 著者名/発表者名
      S. Baba, M. Iozaki, S. Sato, T. Nakano
    • 雑誌名

      成蹊大学理工学研究報告

      巻: 48巻 ページ: 1-8

    • NAID

      120005614688

    • URL

      http://hdl.handle.net/10928/90

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse mag-netron sputtering2010

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, C. Murata, S. Baba
    • 雑誌名

      Vacuum vol.84

      ページ: 1368-1371

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [雑誌論文] Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulsemagnetron sputtering2010

    • 著者名/発表者名
      T.Nakano, C.Murata, S.Baba
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: 84 ページ: 4-4

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sputtering2010

    • 著者名/発表者名
      T.Nakano, C.Murata, S.Baba
    • 雑誌名

      Vacuum(DOI : 10.1016.2010.01.014) (in press)

      ページ: 4-4

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sputtering2010

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, C. Murata, S. Baba
    • 雑誌名

      Vacuum

      巻: vol.84 ページ: 1368-1371

    • URL

      http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2010.01.014

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [雑誌論文] Effect of background gas environment on oxy-gen incorporation in TiN films depos-ited using UHV reactive magnetron sputtering2008

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, K. Hoshi, S. Baba
    • 雑誌名

      Vacuum vol.83

      ページ: 467-469

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [雑誌論文] Effect of the target bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sputtering

    • 著者名/発表者名
      T.Nakano, C.Murata, S.Baba
    • 雑誌名

      Vacuum(Web 公開済み:doi:10.1016/j.vacuum.2010.01.014) (in press)

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [産業財産権] 生体適合性高分子材料のマーキング方法及びマーキングされた生体適合性高分子材料2017

    • 発明者名
      中野武雄,大家 渓,岸田晶夫,舩本誠一,橋本良秀
    • 権利者名
      中野武雄,大家 渓,岸田晶夫,舩本誠一,橋本良秀
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2017-105843
    • 出願年月日
      2017
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] デュアルカソード大電力パルススパッタ装置におけるプラズマ電位制御2019

    • 著者名/発表者名
      前田直彦,藤井奈々,中野武雄
    • 学会等名
      2019年日本表面真空学会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] HPPMSを用いたSpindt型エミッタ作製におけるキャビティ構造の影響2019

    • 著者名/発表者名
      谷口日向,中野武雄,大家渓,長尾昌善,大崎壽,村上勝久
    • 学会等名
      第66階応用物理学会 春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 反応性スパッタで作製した酸化チタン薄膜の結晶構造の製膜時圧力依存性2019

    • 著者名/発表者名
      西島葵,田村咲希,大家渓,中野武雄
    • 学会等名
      2019年日本表面真空学会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 大電力パルススパッタによる薄膜構造制御と微小錐構造形成2019

    • 著者名/発表者名
      中野武雄
    • 学会等名
      2019年日本表面真空学会学術講演会
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 高圧力下における反応性スパッタで作製した酸化タングステン薄膜におけるエレクトロクロミック特性の膜厚依存性2019

    • 著者名/発表者名
      八木理子, 室伏麻理子, ミヤ モハメッド シュルズ, 中野武雄
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 高圧力下における反応性スパッタで作製した酸化タングステン薄膜におけるエレクトロクロミック特 性の膜厚依存性2019

    • 著者名/発表者名
      八木理子,室伏麻理子,中野武雄
    • 学会等名
      2019年日本表面真空学会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] デュアルカソード大電力パルススパッタにおけるプラズ マ電位制御2019

    • 著者名/発表者名
      前田直彦,藤井奈々,ミヤ モハメッド シュルズ, 中野武雄
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] Optimization of Spindt-type emitter cathode shape prepared by high power pulsed magnetron sputtering: The effect of template cavity dimensions2019

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, H. Taniguchi, K. Oya, M. Nagao, H. Ohsaki, K. Murakami
    • 学会等名
      21st International Vacuum Congress (IVC-21)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] Cytocompatibility of titanium oxide thin films deposited by reactive sputtering2019

    • 著者名/発表者名
      Aoi Nishijima, Kei Oya, Takeo Nakano, Yoshihide Hashimoto, Seiichi Funamoto, Akio Kishida
    • 学会等名
      The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2019)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] エレクトロクロミック特性を示す酸化タングステン薄膜の反応性スパッタによる作製2018

    • 著者名/発表者名
      八木理子,宗田愛,大家渓,中野武雄
    • 学会等名
      第34回新材料工学研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 反応性スパッタで製膜したチタンおよび酸化チタン薄膜の血液適合性2018

    • 著者名/発表者名
      西島葵,大家渓,中野武雄
    • 学会等名
      第34回新材料工学研究会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] Fabrication of visible marker on decellularized tissue for non-invasive techniques via sputtering2018

    • 著者名/発表者名
      Naruki Kimura, Kei Oya, Yoshihide Hashimoto, Seiichi Funamoto, Yuki Suzuki, Yuichiro Nawa, Akio Kishida, Takeo Nakano
    • 学会等名
      Tissue Engineering and Regenerative Medicine International Society World Congress 2018
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 非蒸発ゲッタポンプ用St707スパッタ合金膜の熱活性化過程におけるPd の表面修飾の効果2018

    • 著者名/発表者名
      三嶋 東,出家広大,中野武雄,大家 渓,菊地貴司,間瀬一彦
    • 学会等名
      表面技術協会 第137回講演大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 反応性スパッタで製膜したチタン酸化物薄膜の硬組織適 合性評価2018

    • 著者名/発表者名
      竹内将人,大家 渓,細谷和輝,北條健太,岩森 暁,中野武雄
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 反応性スパッタで作製した酸化タングステン薄膜のエレクトロクロミズム特性における製膜時圧力依存性2018

    • 著者名/発表者名
      飯嶋佑斗,坪田祐貴,中野武雄,大家 渓
    • 学会等名
      表面技術協会 第137回講演大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 放電ガスにKrを用いたHPPMSによるSpindt陰極作製の試み2018

    • 著者名/発表者名
      谷口日向,中野武雄,大家 渓,長尾昌善,大崎 壽,村上勝久
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] Simple linear relationship between reactive gas flow rate and discharge power at mode transition on reactive sputter deposition of metal oxides2018

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Kei Oya, Kosuke Kimura, Masayorhi Nagao, Hisashi Ohsaki
    • 学会等名
      The 9th Vacuum and Surface Science Conference of Asia and Australia
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] チタン薄膜をスパッタした超音波造影下で視認可能な脱細胞化組織用薄膜マーカーの作製2018

    • 著者名/発表者名
      木村成輝,大家 渓,橋本良秀,舩本誠一,鈴木夕稀,名和裕一朗,岸田晶夫,中野武雄
    • 学会等名
      表面技術協会 第137回講演大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 非侵襲診断のための脱細胞化組織用薄膜マーカーの作製2018

    • 著者名/発表者名
      木村成輝,大家渓,橋本良秀,舩本誠一,岸田晶夫,中野武雄
    • 学会等名
      平成30年度日本材料科学会学術講演大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 基板電位を制御した大電力スパッタによるSpindt型エミッタ作製における放電ガスKrを用いた応力緩和2018

    • 著者名/発表者名
      谷口日向,中野武雄,大家渓,長尾昌善,大崎壽,村上勝久
    • 学会等名
      2018年日本表面真空学会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] Characteristics of titanium oxide thin films deposited by reactive sputtering for biomaterial applications2017

    • 著者名/発表者名
      Masato Takeuchi, Kazuki Hosoya, Naruki Kimura, Kazuki Fukuda, Kei Oya, Satoru Iwamori, Takeo Nakano
    • 学会等名
      The 14th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2017)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] プラズマ電位を制御した HPPMS による Spindt 型エミッタの作製(3)2017

    • 著者名/発表者名
      谷口日向,中野武雄,大家 渓,長尾昌善,大崎 壽,村上勝久
    • 学会等名
      2017年真空・表面科学合同講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 超音波造影で視認可能な生体由来材料用マーカーの作製2017

    • 著者名/発表者名
      鈴木夕稀,木村成輝,橋本良秀,舩本誠一,大家 渓,岸田晶夫,中野武雄
    • 学会等名
      日本機械学会 第30回バイオエンジニアリング講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 反応性スパッタで作製したWO3-x薄膜のエレクトロクロミック特性(2)2017

    • 著者名/発表者名
      飯嶋佑斗,中野武雄,大家 渓
    • 学会等名
      2017年真空・表面科学合同講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 反応性スパッタで製膜したチタン酸化物薄膜の組成比が生体適合性に及ぼす影響2017

    • 著者名/発表者名
      吉澤慶祐,竹内将人,北条健太,細谷和輝,岩森 暁,大家 渓,中野武雄
    • 学会等名
      日本機械学会 第30回バイオエンジニアリング講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] Fabrication of Mo microcones for vacuum electron emitters using HPPMS2017

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki
    • 学会等名
      11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering
    • 招待講演 / 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] チタン薄膜をスパッタした脱細胞化組織の生物学的評価2017

    • 著者名/発表者名
      木村成輝,橋本良秀,舩本誠一,大家 渓,鈴木夕稀,名和裕一朗,岸田晶夫,中野武雄
    • 学会等名
      日本バイオマテリアル学会北信越ブロック第6回若手研究発表会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] XPS evaluation on thermal activation process of Zr-V-Fe (St707) alloy films for non evaporable getter applications2017

    • 著者名/発表者名
      Azuma Mishima, Riki Kuwajima, Takeo Nakano, Kei Oya
    • 学会等名
      The 14th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2017)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] スパッタ法を用いた超音波造影下で視認可能な脱細胞化組織薄膜マーカの作製2017

    • 著者名/発表者名
      木村成輝,鈴木夕稀,名和裕一朗,橋本良秀,舩本誠一,張 永巍,山下暁立,大家 渓,岸田晶夫,中野武雄
    • 学会等名
      第39回日本バイオマテリアル学会大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] スパッタ製膜したチタン酸化物薄の結晶構造制御2017

    • 著者名/発表者名
      竹内将人,吉澤慶祐,細谷和輝,大家 渓,岩森 暁,中野武雄
    • 学会等名
      第39回日本バイオマテリアル学会大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-17K05106
  • [学会発表] 大電力パルススパッタを用いた薄膜堆積と微小電子源陰極作製2015

    • 著者名/発表者名
      中野武雄
    • 学会等名
      日本学術振興会 マイクロビームアナリシス第141委員会 第159回研究会
    • 発表場所
      成蹊大学吉祥寺キャンパス
    • 年月日
      2015-02-20
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] マグネトロンスパッタにおけるエロージョン形状の材料・圧力依存性2015

    • 著者名/発表者名
      齋藤悠大、門井裕樹、板村賢明、中野武雄
    • 学会等名
      表面技術協会 第131回講演大会
    • 発表場所
      関東学院大学 金沢八景キャンパス
    • 年月日
      2015-03-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] 大電力パルススパッタを用いたSpindt 型エミッタ用陰極の形状制御2015

    • 著者名/発表者名
      成田智基、木村光佑、板村賢明、中野武雄、長尾昌善、大崎 壽、政岡文平
    • 学会等名
      表面技術協会 第131回講演大会
    • 発表場所
      関東学院大学 金沢八景キャンパス
    • 年月日
      2015-03-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] 大電力パルススパッタの物理と薄膜構造の制御2014

    • 著者名/発表者名
      中野武雄
    • 学会等名
      表面技術協会 高機能トライボ表面プロセス部会 第2回例会
    • 発表場所
      名城大学 名駅サテライト
    • 年月日
      2014-12-19
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] マグネトロンスパッタリングにおけるターゲットエロージョン形成の圧力・材料依存性2014

    • 著者名/発表者名
      齋藤悠大、門井裕樹、板村賢明、中野武雄
    • 学会等名
      第55回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      I-site なんば
    • 年月日
      2014-11-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] スパッタ成膜速度・膜厚分布のガス圧力・ターゲット-基板間距離依存性(2)2014

    • 著者名/発表者名
      山崎 遼、板村賢明、中野武雄
    • 学会等名
      第55回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      I-site なんば
    • 年月日
      2014-11-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] 大電力パルススパッタを用いて作製したSpindt型エミッタ用陰極の構造制御2014

    • 著者名/発表者名
      木村光佑、成田智基、板村賢明、中野武雄、長尾昌善、大崎 壽、政岡文平
    • 学会等名
      第55回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      I-site なんば
    • 年月日
      2014-11-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] Diagnostics of impulse magnetron sputtering plasma with modified target bias voltage during pulse-off period2011

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, N. Hirukawa, S. Saeki, S. Baba
    • 学会等名
      11th International Symposium on Sput-tering & Plasma Processes
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2011-07-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff期のターゲット電位を変化させた高電力パルスマグネトロンスパッタにおけるプラズマ診断2011

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 日留川紀彦, 佐伯修平, 馬場茂
    • 学会等名
      第56回応用物理関係連合講演会19p-ZB-5
    • 発表場所
      東海大,神奈川
    • 年月日
      2011-03-27
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Application of high power impulse sputtering to reactive deposition of titanium nitride to suppress oxygen impurity from environment2011

    • 著者名/発表者名
      T.Sekiya, H.Ishida, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      11th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, SP P-10
    • 発表場所
      京都リサーチパーク,京都
    • 年月日
      2011-07-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Electrical breakdown characteristics of MgO films deposited by RF magnetron dputtering and its dependence on process gas pressure2011

    • 著者名/発表者名
      R.Kosone, Y.Nakagawa, K.Arai, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      15th Internation Conference on Thin Films, P-S17-05
    • 発表場所
      京都テルサ,京都
    • 年月日
      2011-11-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Structural and optical properties of V2O5 thin films prepared by reactive magnetron sputtering : preparation and annealing behavior2011

    • 著者名/発表者名
      K. Maki, T. Fukuda, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      15th International Conference on Thin Films
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2011-11-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Structural and optical properties of V_2O_5 thin films prepared by reactive magnetron sputtering : preparation and snnealing behavior2011

    • 著者名/発表者名
      K.Maki, T.Fukuda, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      15th Internation Conference on Thin Films, P-S1-02
    • 発表場所
      京都テルサ,京都
    • 年月日
      2011-11-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff期のターゲット電位を変化させた高電力パルスマグネトロンスパッタにおけるプラズマ診断2011

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 日留川紀彦, 佐伯修平, 馬場茂
    • 学会等名
      第58回応用物理関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川
    • 年月日
      2011-03-27
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Growth of target race track profile during magnetron sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      M. Ueda, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      11th Interna-tional Symposium on Sputtering & Plasma Processes
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2011-07-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Growth of target race track profile during magnetron sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      M.Ueda, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      11th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, SP P-9
    • 発表場所
      京都リサーチパーク,京都
    • 年月日
      2011-07-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Application of high power impulse sputtering to reactive deposition of titanium nitride to suppress oxygen im-purity from environment2011

    • 著者名/発表者名
      T. Sekiya, H. Ishida, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      11th Inter-national Symposium on Sputtering & Plasma Processes
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2011-07-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Electrical breakdown characteristics of MgO films deposited by RF magnetron sputtering and its dependence on process gas pressure2011

    • 著者名/発表者名
      R. Kosone, Y. Nakagawa, K. Arai, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      15th Interna-tional Conference on Thin Films
    • 発表場所
      京都
    • 年月日
      2011-11-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Diagnostics of impulse magnetron sputtering plasma with modified target bias voltage during pulse-off period2011

    • 著者名/発表者名
      Nakano, N.Hirukawa, S.Saeki, S.Baba
    • 学会等名
      11th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, SP 1-4
    • 発表場所
      京都リサーチパーク,京都
    • 年月日
      2011-07-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Structure modification of films deposited by HiPIMS with target bias voltage during pulse-off period2010

    • 著者名/発表者名
      N.Hirukawa, R.Hara, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      18th International Vacuum Congress, P1-Tf1-546266a94-6
    • 発表場所
      Beijing, 中国
    • 年月日
      2010-08-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] 低付着性の炭素系薄膜の力学特性および界面エネルギー2010

    • 著者名/発表者名
      丸山淳, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第122回表面技術講演大会 7D-16
    • 発表場所
      東北大学(川内北), 仙台
    • 年月日
      2010-09-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Structure modification of films de-posited by HiPIMS with target bias voltage during pulse-off period2010

    • 著者名/発表者名
      N. Hirukawa, R. Hara, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      18th Interna-tional Vacuum Congress
    • 発表場所
      Beijing,中国
    • 年月日
      2010-08-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] 低付着性の炭素系薄膜の力学特性および界面エネルギー2010

    • 著者名/発表者名
      丸山淳, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第122回表面技術講演大会
    • 発表場所
      仙台
    • 年月日
      2010-09-07
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] マグネトロンスパッタリングにおけるターゲットエロージョンの時間発展2010

    • 著者名/発表者名
      植田麻理子, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第51回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2010-11-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Secondary electron emission and elec-trical breakdown properties of sputtered MgO films at low gas pressures2010

    • 著者名/発表者名
      K. Arai, T. Sekiya, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      18th International Vacuum Congress
    • 発表場所
      Beijing,中国
    • 年月日
      2010-08-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff期のターゲット電位を変化させたパルスマグネトロンスパッタによる薄膜構造制御2010

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 原良輔, 日留川紀彦, 馬場茂
    • 学会等名
      第57回応用物理関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川
    • 年月日
      2010-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff時のターゲット電位を制御した高電力パルススパッタにおけるプラズマ分析2010

    • 著者名/発表者名
      日留川紀彦, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第51回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2010-11-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] マグネトロンスパッタリングにおけるターゲットエロージョンの時間発展2010

    • 著者名/発表者名
      植田麻理子, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第51回真空に関する連合講演会 5P-045
    • 発表場所
      大阪大学(吹田),大阪
    • 年月日
      2010-11-05
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff時のターゲット電位を制御した高電力パルススパッタにおけるプラズマ分析2010

    • 著者名/発表者名
      日留川紀彦, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第51回真空に関する連合講演会 4Ba-04
    • 発表場所
      大阪大学(吹田),大阪
    • 年月日
      2010-11-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Secondary electron emission and electrical breakdown properties of sputtered MgO films at low gas pressures2010

    • 著者名/発表者名
      K Arai, T.Sekiya, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      18th International Vacuum Congress, P3 TF1-4 17ff6e2d-e
    • 発表場所
      Beijing, 中国
    • 年月日
      2010-08-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルス off 期のターゲット電位を変化させたパルスマグネトロンスパッタによる薄膜構造制御2010

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 原良輔, 日留川紀彦, 馬場茂
    • 学会等名
      第56回応用物理関係連合講演会 19p-ZB-5
    • 発表場所
      東海大, 神奈川
    • 年月日
      2010-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] MgOスパッタ膜の電子放出特性と絶縁破壊特性の製膜時圧力依存性2009

    • 著者名/発表者名
      新井完, 関谷賢明, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第50回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2009-11-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルス off 時のバイアス電位を制御したパルスマグネトロンスパッタの特性(2)2009

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 新井完, 馬場茂
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会 9a-N-5
    • 発表場所
      富山大, 富山
    • 年月日
      2009-09-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Effects of vacuum environment on oxygen impurity during the reactive sputtering deposition of metal nitrides2009

    • 著者名/発表者名
      Hirukawa, Nakamura, Suzuki, Nakano, Baba
    • 学会等名
      10th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(日本真空協会)SP P2-5
    • 発表場所
      金沢国際ホテル, 石川
    • 年月日
      2009-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff時のバイアス電位を制御したパルスマグネトロンスパッタの特性(2)2009

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 新井完, 馬場茂
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山
    • 年月日
      2009-09-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] パルスoff時のバイアス電位を制御したパルスマグネトロンスパッタの特性(2)2009

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 新井完, 馬場茂
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      2009-09-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] パルスoff期のターゲット電位を変化させたパルスマグネトロンスパッタによる薄膜構造制御2009

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 原良輔, 日留川紀彦, 馬場茂
    • 学会等名
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2009-03-19
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] Ef-fects of vacuum environment on oxygen impurity during the reac-tive sputtering deposition of metal nitrides2009

    • 著者名/発表者名
      H. Hirukawa, T. Nakamura, A. Suzuki, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      ISSP2009
    • 発表場所
      Kanazawa (Japan)
    • 年月日
      2009-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] PTFE・フラーレン重ね蒸着薄膜の摩擦・摩耗特性2009

    • 著者名/発表者名
      丸山淳, 塚本英貴, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      表面技術協会第120回講演大会
    • 発表場所
      千葉
    • 年月日
      2009-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Effects of vacuum environment on oxygen impurity during the reactive sputtering deposition of metal nitrides2009

    • 著者名/発表者名
      N. Hirukawa, A. Suzuki, T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      10th International Symposium on Sput-tering & Plasma Processes
    • 発表場所
      石川
    • 年月日
      2009-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Effects of vacuum environment on oxygen impurity during the reactive sputtering deposition of metal nitrides2009

    • 著者名/発表者名
      N.Hirukawa, T.Nakamura, A.Suzuki, T.Nakano, S.Baba
    • 学会等名
      10th Intl.Symp.on Sputtering and Plasma Processes(ISSP2009)
    • 発表場所
      金沢国際ホテル(金沢市)
    • 年月日
      2009-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] Effect of the bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sput-tering2009

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, C. Murata, S. Baba
    • 学会等名
      10th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes
    • 発表場所
      石川
    • 年月日
      2009-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Effect of the bias voltage during off-pulse period on the impulse magnetron sputtering2009

    • 著者名/発表者名
      T.Nakano, C.Murata, S.Baba
    • 学会等名
      10th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes(日本真空協会)SP 3-2
    • 発表場所
      金沢国際ホテル, 石川
    • 年月日
      2009-07-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] PTFE・フラーレン(C60)重ね蒸着薄膜の摩擦・摩耗特性2009

    • 著者名/発表者名
      丸山淳, 塚本英貴, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      表面技術協会第120回講演大会 18D-02
    • 発表場所
      幕張メッセ, 千葉
    • 年月日
      2009-09-18
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] MgOスパッタ膜の電子放出特性と絶縁破壊特性の製膜時圧力依存性2009

    • 著者名/発表者名
      新井完, 関谷賢明, 中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      第50回真空に関する連合講演会 4Ba-2
    • 発表場所
      学習院大, 東京
    • 年月日
      2009-11-04
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21560054
  • [学会発表] Thickness and compositional uniformity of reactively sputter-deposited films: A consideration from particle transport processes2008

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      ICCG-7
    • 発表場所
      Eindhoven (The Netherlands)
    • 年月日
      2008-06-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] スパッタリングにおける粒子輸送とプロセス圧力の効果2008

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 馬場茂
    • 学会等名
      日本真空協会SP部会
    • 発表場所
      第111回定例研究会(機械振興会館)
    • 年月日
      2008-11-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] Thickness and compositional uniformity of reactively sputter-deposited films : A consideration from particle transport processes (Invited lecture)2008

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, S. Baba
    • 学会等名
      7^<th> Intl. Conf. on Coatings on Glass and Plastics
    • 発表場所
      オランダ王国Eindhoven 市
    • 年月日
      2008-06-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] Con-taminating Oxygen Incorporation during Reactive Sputter Deposi-tion of Metal Nitride Films2008

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, T. Nakamura, A. Su-zuki, N. Hirukawa, S. Baba
    • 学会等名
      VASSCAA-4
    • 発表場所
      Matsue (Japan)
    • 年月日
      2008-10-28
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] スパッタリングにおける粒子輸送とプロセス圧力の効果2008

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 馬場 茂
    • 学会等名
      真空協会SP部会第111回定例研究会
    • 発表場所
      東京・機械振興会館
    • 年月日
      2008-11-20
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] Effects of sputtered atom weight and ambient gas pressure on the target mode transition during reactive sputtering of metal oxides2007

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, Y. Iimura, S. Baba
    • 学会等名
      IVC-17/ICSS-13 and ICN+T2007
    • 発表場所
      Stockholm (Sweden)
    • 年月日
      2007-07-06
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] Effects of sputtered atom weight and ambient gas pressure on the target mode transition during reactive sputtering of metal oxides2007

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Yasuhiro Iimura And shigeru baba
    • 学会等名
      IVC-17/ICSS-13 and ICN+T2007
    • 発表場所
      Sweden,Stockholm
    • 年月日
      2007-07-06
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19560048
  • [学会発表] 大電力パルススパッタとプラズマ電位制御による薄膜構造の変化

    • 著者名/発表者名
      中野武雄
    • 学会等名
      東京都立産業技術研究センター・表面技術協会三部会合同シンポジウム
    • 発表場所
      都立産業技術研究センター
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] 大電力パルススパッタのイオン化金属粒子を用いた薄膜構造の制御

    • 著者名/発表者名
      中野武雄, 馬場 茂
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] Dependence of transport process of sputtered atoms on atom weight, gas pressure and target to substrate distance

    • 著者名/発表者名
      Ryo Yamazaki, Takeo Nakano, Shigeru Baba
    • 学会等名
      The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2013)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park (Kyoto, Japan)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] スパッタ製膜プロセスにおけるプラズマ電位の計測・制御と薄膜構造への効果

    • 著者名/発表者名
      中野武雄
    • 学会等名
      真空学会 スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会 第132回定例研究会
    • 発表場所
      機械振興会館
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] スパッタ製膜におけるプラズマ電位制御

    • 著者名/発表者名
      中野武雄、馬橋琢哉、馬場 茂
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] Film structure modification by plasma potential control in triode HPPMS

    • 著者名/発表者名
      Takuya Umahashi, Takeo Nakano, Shigeru Baba
    • 学会等名
      The 12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2013)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park (Kyoto, Japan)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] プラズマ電位制御用電極を追加した三極スパッタによる銅薄膜構造の変化

    • 著者名/発表者名
      馬橋琢哉、中野武雄、馬場 茂
    • 学会等名
      第53回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      甲南大学ポートアイランドキャンパス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] スパッタ製膜におけるプラズマ電位制御(2)

    • 著者名/発表者名
      馬橋琢哉、中野武雄、馬場 茂
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] 三極スパッタを用いたプラズマ電位制御における電極配置の影響

    • 著者名/発表者名
      馬橋琢哉, 中野武雄, 馬場 茂
    • 学会等名
      第54回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      つくば国際会議場
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] スパッタ成膜速度・膜厚分布のガス圧力・ターゲットー基板配置依存性

    • 著者名/発表者名
      山崎 遼, 中野武雄, 馬場 茂
    • 学会等名
      第54回真空に関する連合講演会
    • 発表場所
      つくば国際会議場
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • [学会発表] Film structure modification by plasma potential control in triode HPPMS

    • 著者名/発表者名
      Takeo Nakano, Takuya Umahashi, Shigeru Baba
    • 学会等名
      19th International Vacuum Congress
    • 発表場所
      Palais des Congres (Paris, France)
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24560063
  • 1.  馬場 茂 (80114619)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 43件

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