布村正太 Nunomura Shota

研究者番号	50415725
その他のID	https://orcid.org/0000-0002-6746-2619
所属 (現在)	2025年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 上級主任研究員
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2020年度 – 2024年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 上級主任研究員 2019年度 – 2020年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エネルギー・環境領域, 上級主任研究員 2017年度 – 2018年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エネルギー・環境領域, 主任研究員 2015年度 – 2016年度: 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 太陽光発電研究センター, 主任研究員 2014年度: 独立行政法人産業技術総合研究所, 太陽光発電研究センター, 主任研究員 2012年度 – 2014年度: 独立行政法人産業技術総合研究所, 太陽光発電工学研究センター, 主任研究員
審査区分/研究分野	研究代表者小区分14030:プラズマ応用科学関連 / プラズマエレクトロニクス / プラズマ科学研究代表者以外中区分14:プラズマ学およびその関連分野
キーワード	研究代表者プラズマプロセス / 光電流 / 欠陥 / 太陽電池 / 半導体 / プラズマ / 水素 / シリコン / プラズマエレクトロニクス / ラジカル … もっと見る / 水素化アモルファスシリコン / トラップ / キャリア輸送 / アモルファスシリコン / イオン / イメージセンサー / 先端半導体 / 低欠陥プロセス / 欠陥修復 / ダングリングボンド / 水素パッシベーション / 分光エリプソメトリ / 表面欠陥層 / 水素原子 / 水素プラズマ / フィールドエフェクト / パッシベーション / シリコン窒化膜 / 結晶シリコン / キャリア / プラズマ誘起欠陥 / ポンプ－プローブ法 / トラップキャリア / 実時間観測 / その場測定 / 半導体薄膜 / ＰＥＣＶＤ / プラズマＣＶＤ … もっと見る研究代表者以外プラズマプロセス / EDA / 一般則 / 膜形成 / シース電場揺らぎ / 光ピンセット / エッチング / 高アスペクト比 / ゆらぎ / 高感度電場計測 / 微粒子プラズマ / 高アスペクト比エッチング / シース電場ゆらぎ / 光捕捉 / 2体問題 / 微粒子トラップ / 帯電量導出 / 電場揺動計測 / 電場計測 / 光捕捉微粒子 / 帯電量 / 微粒子 / プラズマシース / 超高感度プラズマ電場計測 / 光ピンセット法隠す

プラズマプロセスによる膜形成の一般則の統合研究
- 研究代表者
  
  白谷正治
- 研究期間 (年度)
  2024 – 2028
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分14:プラズマ学およびその関連分野
- 研究機関
  九州大学
プラズマアニールによる半導体材料の欠陥修復メカニズムの解明研究代表者
- 研究代表者
  
  布村正太
- 研究期間 (年度)
  2023 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分14030:プラズマ応用科学関連
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
プラズマ中光捕捉微粒子を用いたシース電場の時空間構造揺らぎ形成機構の解明
- 研究代表者
  
  白谷正治
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分14:プラズマ学およびその関連分野
- 研究機関
  九州大学
プラズマプロセス下における半導体材料の水素パッシベーション機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  布村正太
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2020
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分14030:プラズマ応用科学関連
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
半導体表面におけるプラズマ誘起欠陥の発生と修復のメカニズム解明研究代表者
- 研究代表者
  
  布村正太
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマエレクトロニクス
- 研究機関
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
薄膜シリコン成長時の半導体特性評価法の開発と欠陥形成機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  布村正太
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2014
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  プラズマ科学
- 研究機関
  独立行政法人産業技術総合研究所

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すべて雑誌論文学会発表図書産業財産権

[図書] プラズマCVD/PVD2015
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 総ページ数
  99
- 出版者
  応用物理学会　プラズマエレクトロニクス分科会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[図書] 発光分光計測法によるプロセスプラズマの実践的計測の基礎と応用第２部　応用～「プロセスモニタリングへの適用」2015
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 総ページ数
  27
- 出版者
  応用物理学会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[図書] シリコン系太陽電池の高効率化に向けたプラズマＣＶＤ技術2014
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 総ページ数
  11
- 出版者
  日本真空学会 Sputtering & Plasma Processes
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[雑誌論文] Stability and gap states of amorphous In-Ga-Zn-Ox thin film transistors: Impact of sputtering configuration and post-annealing on device performance2024
- 著者名/発表者名
  Takenaka Kosuke、Nunomura Shota、Hayashi Yuji、Komatsu Hibiki、Toko Susumu、Tampo Hitoshi、Setsuhara Yuichi
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films
  
  巻: 790 ページ: 140203-140203
- DOI
  10.1016/j.tsf.2024.140203
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374, KAKENHI-PROJECT-23K21051
[雑誌論文] O2 and Ar plasma processing over SiO2/Si stack: Effects of processing gas on interface defect generation and recovery2024
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Tsutsumi Takayoshi、Sakata Isao、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 135 号: 5
- DOI
  10.1063/5.0184779
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] Carrier trapping in diamond Schottky barrier diode2024
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Sakata Isao、Nishida Taiki、Ohmagari Shinya
- 雑誌名
  
  Applied Physics Letters
  
  巻: 124 号: 7
- DOI
  10.1063/5.0190729
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] Defect generation and recovery in high-k HfO2/SiO2/Si stack fabrication2023
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Ota Hiroyuki、Irisawa Toshifumi、Endo Kazuhiko、Morita Yukinori
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 16 号: 6 ページ: 061004-061004
- DOI
  10.35848/1882-0786/acdc82
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] Nanostructure and doping effects of a-Si:H and μc-Si:H anode in lithium-ion battery performance2023
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Uchida Giichiro
- 雑誌名
  
  Materials Letters
  
  巻: 349 ページ: 134777-134777
- DOI
  10.1016/j.matlet.2023.134777
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] Plasma processing and annealing for defect management at SiO2/Si interface2023
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Tsutsumi Takayoshi、Sakata Isao、Hori Masaru
- 雑誌名
  
  Journal of Vacuum Science & Technology B
  
  巻: 41 号: 5
- DOI
  10.1116/6.0002822
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] A review of plasma-induced defects: detection, kinetics and advanced management2023
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota
- 雑誌名
  
  Journal of Physics D: Applied Physics
  
  巻: 56 号: 36 ページ: 363002-363002
- DOI
  10.1088/1361-6463/acd9d5
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] Silicon surface passivation with a-Si:H by PECVD: growth temperature effects on defects and band offset2023
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Sakata Isao、Misawa Tatsuya、Kawai Shinji、Kamataki Kunihiro、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: SL ページ: SL1027-SL1027
- DOI
  10.35848/1347-4065/ace118
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[雑誌論文] Double-sided TOPCon solar cells on textured wafer with ALD SiOx layer2020
- 著者名/発表者名
  Lozac'h Mickael、Nunomura Shota、Matsubara Koji
- 雑誌名
  
  Solar Energy Materials and Solar Cells
  
  巻: 207 ページ: 110357-110357
- DOI
  10.1016/j.solmat.2019.110357
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Real-time monitoring of surface passivation of crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer2020
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Sakata Isao、Sakakita Hajime、Koga Kazunori、Shiratani Masaharu
- 雑誌名
  
  Journal of Applied Physics
  
  巻: 128 号: 3 ページ: 033302-033302
- DOI
  10.1063/5.0011563
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H00142, KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Hydrogen-induced defects in crystalline silicon during growth of an ultrathin a-Si:H layer2020
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Sakata Isao、Matsubara Koji
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 59 号: SH ページ: SHHE05-SHHE05
- DOI
  10.35848/1347-4065/ab7478
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Role of silicon surface, polished 〈100〉 and 〈111〉 or textured, on the efficiency of double‐sided TOPCon solar cells2020
- 著者名/発表者名
  Lozac'h Micka?l、Nunomura Shota
- 雑誌名
  
  Progress in Photovoltaics: Research and Applications
  
  巻: 28 号: 10 ページ: 1001-1011
- DOI
  10.1002/pip.3304
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] In-situ detection of interface defects in a-Si:H/c-Si heterojunction during plasma processing2019
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Sakata Isao、Matsubara Koji
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 12 号: 5 ページ: 051006-051006
- DOI
  10.7567/1882-0786/ab128b
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Formation of electronic defects in crystalline silicon during hydrogen plasma treatment2019
- 著者名/発表者名
  Nunomura Shota、Sakata Isao、Matsubara Koji
- 雑誌名
  
  AIP Advances
  
  巻: 9 号: 4 ページ: 045110-045110
- DOI
  10.1063/1.5089202
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Roles of hydrogen atoms in p-type Poly-Si/SiOx passivation layer for crystalline silicon solar cell applications2019
- 著者名/発表者名
  Lozac’h Mickael、Nunomura Shota、Umishio Hiroshi、Matsui Takuya、Matsubara Koji
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 58 号: 5 ページ: 050915-050915
- DOI
  10.7567/1347-4065/ab14fe
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Plasma-Induced Electronic Defects: Generation and Annihilation Kinetics in Hydrogenated Amorphous Silicon2018
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 雑誌名
  
  Phys. Rev. Applied
  
  巻: 10 号: 5
- DOI
  10.1103/physrevapplied.10.054006
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Passivation property of ultrathin SiOx:H / a-Si:H stack layers for solar cell applicatio2018
- 著者名/発表者名
  Mickael Lozac’h, Shota Nunomura, Hitoshi Sai, and Koji Matsubara
- 雑誌名
  
  Solar Energy Materials and Solar Cells
  
  巻: 185 ページ: 5-5
- DOI
  10.1016/j.solmat.2018.05.004
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[雑誌論文] Electronic properties of ultrathin hydrogenated amorphous silicon2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 雑誌名
  
  Applied Physics Express
  
  巻: 10 号: 8 ページ: 081401-081401
- DOI
  10.7567/apex.10.081401
- NAID
  210000135936
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[雑誌論文] Hydrogen atom kinetics in capacitively coupled hydrogen plasmas2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Hirotaka Katayama, and Isao Yoshida
- 雑誌名
  
  Plasma Sources Science and Technology
  
  巻: 26 号: 5 ページ: 055018-055018
- DOI
  10.1088/1361-6595/aa6610
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[雑誌論文] Impact of band tail distribution on carrier trapping in hydrogenated amorphous silicon for solar cell applications2016
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, K. Matsubara
- 雑誌名
  
  Journal of Non-Crystalline Solids
  
  巻: 436 ページ: 44-50
- DOI
  10.1016/j.jnoncrysol.2016.01.021
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[雑誌論文] Science and Technology of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for High-Efficiency Silicon Solar Cells:Summary2015
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 雑誌名
  
  J. Plasma Fusion Res.
  
  巻: 91 ページ: 360-361
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[雑誌論文] Science and Technology of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for High-Efficiency Silicon Solar Cells: Introduction2015
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 雑誌名
  
  J. Plasma Fusion Res.
  
  巻: 91 ページ: 314-316
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[雑誌論文] Charge Trapping in Mixed Organic Donor-Acceptor Semiconductor Thin Films2014
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Xiaozhou Che, Stephen R. Forrest
- 雑誌名
  
  Advanced Materials
  
  巻: 26 号: 45 ページ: 7555-7560
- DOI
  10.1002/adma.201403198
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[雑誌論文] In-situ characterization of trapped charges in amorphous semiconductor films during plasma-enhanced chemical vapor deposition2014
- 著者名/発表者名
  S Nunomura, I Sakata
- 雑誌名
  
  AIP Advances
  
  巻: 4 号: 9
- DOI
  10.1063/1.4895345
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[雑誌論文] In situ Photocurrent Measurements of Thin-Film Semiconductors during Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition2013
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Michio Kondo
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Express
  
  巻: 6 号: 12 ページ: 126201-126201
- DOI
  10.7567/apex.6.126201
- NAID
  40019923411
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[産業財産権] パッシベーション膜2021
- 発明者名
  布村正太
- 権利者名
  国立研究開発法人産業技術総合研究所
- 産業財産権種類
  特許
- 出願年月日
  2021
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[産業財産権] 酸化物半導体材料の開発とｐｎ接合の作製と光電変換素子への応用2015
- 発明者名
  高島, 菊地, 外岡, 川中, 吉田, 相浦, 布村
- 権利者名
  高島, 菊地, 外岡, 川中, 吉田, 相浦, 布村
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2015-117010
- 出願年月日
  2015-06-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[産業財産権] 太陽電池の製造工程における発電性能の予測方法、並びにそれを用いた製造工程における最適化方法及び異常検知方法2012
- 発明者名
  布村正太、坂田功、吉田郵司、近藤道雄
- 権利者名
  布村正太、坂田功、吉田郵司、近藤道雄
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2012-141225
- 出願年月日
  2012-06-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] Effects of plasma processing gas species to defect generation in SiO2/Si stack2024
- 著者名/発表者名
  布村正太, 堤隆嘉, 坂田功, 堀勝
- 学会等名
  41th Symposium on Plasma Processing
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～RIE-SiO2に伴うSiO2/Si界面の欠陥評価～2024
- 著者名/発表者名
  布村正太, 堤隆嘉, 深沢正永, 堀勝
- 学会等名
  2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] プラズマ反応場とナノ粒子生成：成長制御と応用展開2024
- 著者名/発表者名
  布村正太,白谷正治
- 学会等名
  2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～酸素プラズマがSiO2/Si界面に及ぼす影響～2023
- 著者名/発表者名
  布村正太, 堤隆嘉, 堀勝
- 学会等名
  2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] Silicon surface passivation with an a-Si:H layer:A beneficial effect of Ar ion bombardment2023
- 著者名/発表者名
  布村正太, 坂田功
- 学会等名
  14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] Defect characterization at SiO2/Si interface throughout plasma processing and annealing2023
- 著者名/発表者名
  布村正太, 堤隆嘉, 坂田功, 堀勝
- 学会等名
  The 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] high-k HfO2/SiO2/Siスタック作製工程における欠陥の発生と修復2023
- 著者名/発表者名
  布村正太, 太田裕之, 入沢寿史, 遠藤和彦, 森田行則
- 学会等名
  2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23K03374
[学会発表] [第12回シリコンテクノロジー分科会論文賞受賞記念講演] c-Si表面パッシベーションにおけるプラズマ誘起欠陥とバンド構造2021
- 著者名/発表者名
  布村正太他
- 学会等名
  2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] シリコンにおけるプラズマ誘起欠陥の発生と修復2020
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 学会等名
  応用物理学会シリコンテクノロジー分科会223回研究会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] Plasma-induced electronic defects: formation and recovery kinetics in silicon2020
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 学会等名
  4th Asia Pacific Conference on Plasma Physics
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～c-Siへの水素拡散と欠陥～2020
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  第67回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～Arイオン照射の効果～2020
- 著者名/発表者名
  布村正太、中根一也、堤隆嘉、松原浩司、堀勝
- 学会等名
  第67回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～結晶シリコンの表面パッシベーションへの影響～2020
- 著者名/発表者名
  布村正太他
- 学会等名
  2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] Defect kinetics in c-Si during ultrathin a-Si:H layer growth by PECVD2019
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, K. Matsubara
- 学会等名
  The 41st International Symposium on Dry Process (DPS2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] In-situ monitoring of hydrogen plasma-induced electronic defects in silicon2019
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, K. Matsubara
- 学会等名
  The 2019 Spring Meeting of the European Materials Research Society (E-MRS)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] High-efficiency silicon heterojunction solar cells ~ defect kinetics during solar cell fabrication~2019
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura
- 学会等名
  Symposium on Advanced Solar Cells 2019
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] Generation and annihilation kinetics of plasma-induced electronic defects in hydrogenated amorphous silicon2019
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, K. Matsubara
- 学会等名
  The Joint Conference of XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥：モニタリングと物理化学2019
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  第36回プラズマプロセシング研究会/第31回プラズマ材料科学シンポジウム
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～欠陥抑止半導体プラズマプロセスにむけ～2019
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～結晶シリコン内の水素と欠陥～2019
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  2019年第66回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] Defect generation and annihilation in hydrogenated amorphous silicon2019
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, K. Matsubara
- 学会等名
  the 24th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 24)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] シランプラズマ中の気相化学と表面反応2019
- 著者名/発表者名
  布村正太、
- 学会等名
  東北大学電気通信研究所共同プロジェクト研究会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] ヘテロ接合太陽電池作製時における界面欠陥のその場評価2019
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  2019年第66回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～欠陥修復の活性化エネルギー～2018
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] 極薄a-Si:Hのギャップ内準位と輸送特性～水素希釈とアニールの効果～2018
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～結晶シリコン上でのモニタリング～2018
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] プラズマ誘起欠陥の発生と修復～イオン照射に伴う残留欠陥の形成～2018
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] シリコン PECVD 中の膜評価2018
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 学会等名
  第28回プラズマエレクトロニクス新領域研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] 水素プラズマ照射時の材料内欠陥のその場モニタリング2018
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 学会等名
  第35回プラズマ・核融合学会年会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] Defect kinetics in high-efficiency silicon heterojunction solar cells2018
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, M. Lozac’h, I. Sakata and K. Matsubara
- 学会等名
  the 28th Annual Meeting of MRS-J
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K03603
[学会発表] 極薄a-Si:Hのギャップ内準位とキャリア捕捉2017
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、松原浩司
- 学会等名
  2017年第78回応用物理学会秋季学術講
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] In-Situ Diagnostics of Processing Plasma andSemiconductor Films for High-Efficiency Silicon Hetero-Junction Solar Cells2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura
- 学会等名
  AVS 64th International Symposium and Exhibition (AVS 64)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Electronic transport properties of a-Si:H passivation layers for silicon hetero-junction solar cells2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  The 2017 E-MRS Spring Meeting and Exhibit
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Electronic Properties of Ultrathin a-Si:H Passivation Layers for Silicon Heterojunction Solar Cells2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  EU PVSEC 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Optoelectronic properties of a-Si:H passivation layer for high-efficiency silicon heterojunction solar cells2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  2017 Symposium on Advanced Solar Cells
- 発表場所
  Kyushu Univ. Fukuoka
- 年月日
  2017-02-09
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] シリコンヘテロ太陽電池のトラップとキャリア輸送2017
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 学会等名
  WFF & WFSM 2017
- 発表場所
  Hokkaido Univ., Sapporo
- 年月日
  2017-03-03
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] H atom generation and loss kinetics in VHF plasmas2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Hirotaka Katayama and Isao Yoshida
- 学会等名
  The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Characterization of electronic transport properties of semiconductor films during plasma processing2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura
- 学会等名
  The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG)
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] CHARACTERIZATION OF ELECTRONIC PROPERTIES OF A-SI:H PASSIVATION LAYERS FOR SILICON HETERO-JUNCTION SOLAR CELLS2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  PVSEC-27
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] State of the art silicon heterojunction solar cell devices ~ plasma processing for high-quality passivation~ (Plenary lecture)2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura
- 学会等名
  5th Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2018, 2nd International Symposium on Energy Research and Application
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Experimental and simulation study on hydrogen atom kinetics in low-pressure capacitively coupled plasmas2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Hirotaka Katayama and Isao Yoshida
- 学会等名
  AVS 64th International Symposium and Exhibition (AVS 64)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Real-time monitoring of defects creation and annealing during plasma processing2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura
- 学会等名
  The 82nd IUVSTA Workshop on Plasma-based Atomic Layer Processes
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] H atom generation and loss kinetics in low-pressure processing plasmas2017
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Hirotaka Katayama, and Isao Yoshida
- 学会等名
  第34回プラズマプロセシング研究会(SPP34)／第29回プラズマ材料科学シンポジウム(SPSM29)
- 発表場所
  北海道大学, 北海道
- 年月日
  2017-01-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Characterization of carrier transport and trapping in semiconductor films during plasma processing2016
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, and K. Matsubara
- 学会等名
  Korian vacuum society (KVS) annual meeting
- 発表場所
  Kangwon, Koria
- 年月日
  2016-02-18
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Characterization of charge carrier trapping in semiconductor films for photovoltaic application2016
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, X. Che, and S.R. Forrest
- 学会等名
  EMN Photovoltaics Meeting 2016
- 発表場所
  Hong Kong, China
- 年月日
  2016-01-19
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Measurements of carrier transport and trapping in semiconductor films during plasma processing2016
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  15th International Conference on Plasma Surface Engineering
- 発表場所
  Cogress center, Garmisch-Partenkirchen, Germany
- 年月日
  2016-09-17
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Silicon-based thin-film and heterojunction solar cells2016
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 学会等名
  Symposium on Advanced Solar Cells
- 発表場所
  Kangwon, Koria
- 年月日
  2016-02-17
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] EFFECTS OF CARRIER TRAPPING ON SOLAR CELL PERFORMANCES2016
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  The Photovoltaic Technical Conference 2016
- 発表場所
  the International Center, Marseille, France
- 年月日
  2016-05-10
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Carrier transport and trapping during a-Si:H growth - for more efficient solar cells-2016
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Koji Matsubara
- 学会等名
  The 26th annual meeting of MRS-J
- 発表場所
  Kaikoukinennkaikan, Yokohama
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Defects and carrier transport at growth of amorphous semiconductor2015
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 学会等名
  Joint International Workshop of WFF&WFSM
- 発表場所
  Hokkaido Univ (Hokkaido)
- 年月日
  2015-03-06
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] Carrier transport and trapping in a-Si:H films during growth by plasma enhanced CVD2015
- 著者名/発表者名
  S Nunomura, I. Sakata, and K. Matsubara
- 学会等名
  68th Gaseous Electronics Conference (GEC) / 9th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP)
- 発表場所
  Honolulu, USA
- 年月日
  2015-10-13
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] In-situ monitoring of carrier transport and trapping in amorphous semiconductors under plasma processing2015
- 著者名/発表者名
  S Nunomura and I. Sakata
- 学会等名
  Dry process symposium 2015
- 発表場所
  Awaji, Japan
- 年月日
  2015-11-06
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] 有機薄膜太陽電池のトラップと発電効率との相関2015
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, X. Che, and S.R. Forrest
- 学会等名
  第12回次世代の太陽光発電システムシンポジウム
- 発表場所
  郡山, 福島
- 年月日
  2015-05-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] Real-time monitoring of a defect-rich surface layer during plasma processing2015
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 学会等名
  75th IUVSTA WWorkshop on Sheath Phenomena in Plasma Processing of Advanced Materials
- 発表場所
  Cerklje, Lubiana, Slovenia
- 年月日
  2015-01-20
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] 太陽電池用a-Si:Hのキャリア捕捉とデバイス特性2015
- 著者名/発表者名
  布村正太, 坂田功, 松原浩司
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋, 愛知
- 年月日
  2015-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] リモートプラズマ中の水素原子密度の測定2015
- 著者名/発表者名
  布村正太, 片山博貴, 吉田功
- 学会等名
  第76回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  名古屋, 日本
- 年月日
  2015-09-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K04717
[学会発表] In-situ characterization of carrier transport in semiconductor thin-films under plasma processing2014
- 著者名/発表者名
  S.Nunomura
- 学会等名
  plasma conference 2014
- 発表場所
  朱鷺メッセ（新潟県）
- 年月日
  2014-11-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] In-situ monitoring of carrier transport in semiconductor active layer under plasma processing2014
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, and M. Kondo
- 学会等名
  The 36th International Symposium on Dry Process
- 発表場所
  パシフィコ横浜（神奈川県）
- 年月日
  2014-11-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] In-Situ Diagnostics of Properties of Plasma CVD Si Films for Improving Si Thin-Film Photovoltaics2014
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 学会等名
  International Conference on Microelectronics and Plasma Technology2014
- 発表場所
  Convention center, Gunsan, Korea
- 年月日
  2014-07-10
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] プラズマプロセス下の半導体薄膜の欠陥発生と修復の実時間モニタリング2014
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学（北海道）
- 年月日
  2014-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] 薄膜シリコン成長時のトラップ電荷とキャリア輸送のその場評価2014
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功
- 学会等名
  第75回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  北海道大学（北海道）
- 年月日
  2014-09-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] In situ diagnsotics of properties of plasma CVD Si films for improving Si thin film photovoltaics2014
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura
- 学会等名
  (International Conference on Microelectronics and Plasma Technology 2014
- 発表場所
  Gunsan, Koria
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] In-situ characterization of photoexcited carrier transport during a-Si:H film growth2014
- 著者名/発表者名
  S. Nunomura, I. Sakata, M. Kondo
- 学会等名
  2014 MRS Spring Meeting & Exhibit
- 発表場所
  Moscone West Convention Center, San Francisco, USA
- 年月日
  2014-04-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] プラズマプロセス下における薄膜半導体材料のダメージとアニーリング
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、吉田郵司、近藤道雄
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] In-situ characterization of photoexcited carrier transport during a-Si:H film growth
- 著者名/発表者名
  Shota Nunomura, Isao Sakata, and Michio Kondoa,
- 学会等名
  2014 MRS Spring Meeting & Exhibit
- 発表場所
  San Francisco
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] プラズマを用いた太陽電池開発の最先端
- 著者名/発表者名
  布村正太
- 学会等名
  平成24年度電気関係学会東海支部連合大会
- 発表場所
  豊橋
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] 薄膜シリコン成長時におけるキャリア輸送特性の実時間観測
- 著者名/発表者名
  布村正太、坂田功、吉田郵司、近藤道雄
- 学会等名
  第73回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  愛媛大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546
[学会発表] 低分子有機半導体薄膜のトラップ電荷の評価
- 著者名/発表者名
  布村正太、S. Forrest
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-24540546

1. 坂田功 (60357100)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 26件
2. 白谷正治 (90206293)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 1件
3. 鎌滝晋礼 (60582658)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 松原浩司 (90202324)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 16件
5. 小林達哉 (30733703)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 石川健治 (60417384)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 富田健太郎 (70452729)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 古閑一憲 (90315127)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

布村 正太 Nunomura Shota

研究課題

研究成果

共同研究者

プラズマプロセスによる膜形成の一般則の統合研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

プラズマアニールによる半導体材料の欠陥修復メカニズムの解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

プラズマ中光捕捉微粒子を用いたシース電場の時空間構造揺らぎ形成機構の解明

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

プラズマプロセス下における半導体材料の水素パッシベーション機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

半導体表面におけるプラズマ誘起欠陥の発生と修復のメカニズム解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

薄膜シリコン成長時の半導体特性評価法の開発と欠陥形成機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] プラズマCVD/PVD2015

著者名/発表者名

総ページ数

出版者

データソース

[図書] 発光分光計測法によるプロセスプラズマの実践的計測の基礎と応用 第２部 応用～「プロセスモニタリングへの適用」2015

著者名/発表者名

総ページ数

出版者

データソース

[図書] シリコン系太陽電池の高効率化に向けたプラズマＣＶＤ技術2014

著者名/発表者名

総ページ数

出版者

データソース

[雑誌論文] Stability and gap states of amorphous In-Ga-Zn-Ox thin film transistors: Impact of sputtering configuration and post-annealing on device performance2024

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] O2 and Ar plasma processing over SiO2/Si stack: Effects of processing gas on interface defect generation and recovery2024

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Carrier trapping in diamond Schottky barrier diode2024

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Defect generation and recovery in high-k HfO2/SiO2/Si stack fabrication2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Nanostructure and doping effects of a-Si:H and μc-Si:H anode in lithium-ion battery performance2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

布村正太 Nunomura Shota

[図書] 発光分光計測法によるプロセスプラズマの実践的計測の基礎と応用第２部　応用～「プロセスモニタリングへの適用」2015