川端健詞 KAWABATA Kenshi

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ORCID連携する *注記

研究者番号	50432422
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2007年度: 大阪大学, 接合科学研究所, 特任助教 2007年度: 大阪大学, 接合科学研究所, 特任助教(常勤) 2006年度: 大阪大学, 接合科学研究所, 特任助手(常勤)
審査区分/研究分野	研究代表者材料加工・処理研究代表者以外機械材料・材料力学
キーワード	研究代表者マグネシウム / 強加工 / 超塑性研究代表者以外降伏応力 / 集合組織 / 強塑性加工 / マグネシウム / 異方性 / Mg-Siスパッタ薄膜 / 引張強さ … もっと見る / 非晶質 / 水素ガス / 熱ダメージ / マグネシウム合金 / マグネシウムシリサイド / 薄膜 / スパッタ法 / 界面 / ヤング率 / ヘルツ応力 / 粒成長 / Mg-Si sputtered thin film / tensile strength / amorphous / hydrogen gas / thermal damage 隠す

強加工マグネシウム合金の降伏現象発現メカニズムの解析
- 研究代表者
  
  近藤勝義
- 研究期間 (年度)
  2007 – 2008
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  機械材料・材料力学
- 研究機関
  大阪大学
超塑性を利用した強加工微細化マグネシウム合金粉体大型成形材の創製研究代表者
- 研究代表者
  
  川端健詞
- 研究期間 (年度)
  2007
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  材料加工・処理
- 研究機関
  大阪大学
Mg-Si系薄膜における静的および動的強度の結晶構造依存性に関する研究
- 研究代表者
  
  近藤勝義
- 研究期間 (年度)
  2005 – 2006
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  機械材料・材料力学
- 研究機関
  大阪大学
   東京大学

すべて雑誌論文

[雑誌論文] Effect of substrate voltage on formation of Mg-Si sputtered film2006
- 著者名/発表者名
  Kenshi KAWABATA
- 雑誌名
  
  Proceefding of the JSPS Annual Meeting 2
  
  ページ: 677-677
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560063
[雑誌論文] スパッタMg-Si膜形成におよぼす基板電圧印加効果2006
- 著者名/発表者名
  川端健詞
- 雑誌名
  
  応用物理学関係連合講演会講演概要集(第2分冊)
  
  ページ: 677-677
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-17560063

1. 近藤勝義 (50345138)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
2. 芹川正 (10345168)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
3. 今井久志 (30452379)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
4. 住田雅樹 (50376662)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件