鈴木恵友 Keisuke Suzuki

研究者番号	50585156
その他のID
所属 (現在)	2025年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2021年度 – 2023年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授 2015年度 – 2018年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 教授 2017年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院・機械情報工学研究系, 教授 2013年度 – 2015年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授 2012年度: 九州工業大学, 情報工学研究院, 准教授 2011年度: 九州工業大学, 大学院情報工学研究院, 准教授
審査区分/研究分野	研究代表者生産工学・加工学 / 小区分18020:加工学および生産工学関連研究代表者以外生産工学・加工学 / 設計工学・機械機能要素・トライボロジー
キーワード	研究代表者水酸化フラーレン / CMP / 化学的機械的研磨 / ナノチューブ・フラーレン / ナノ材料 / 精密研磨 / サファイアCMP / 電界 / 紫外線 / 選択加工技術 … もっと見る / 炭素微粒子 / 難加工材料 / 研削 / ラッピング / フラーレン / 研磨 / ダイヤモンド / SiC / パワー半導体 / 表面改質 / 研磨微粒子 / 精密加工 / 機械工作・生産工学 / 複合研磨微粒子 / 高速研磨 / 計測工学 / エバネッセント / ポリシングパッド / 結合型スマート研磨微粒子 / ナノ炭素微粒子 / 材料除去メカニズム / 炭素結合型スマート研磨微粒子 / 難加工材研磨技術 / ピンニング効果 / 超伝導加工法 / ナノ微細研磨技術 / ３次元加工 / 中空加工 / ピンニング / 磁気浮上工具 / 超伝導援用加工 / 超伝導 / マイクロ・ナノデバイス / 省エネルギー / 国際情報交換 / 混合微粒子 / 超精密加工 … もっと見る研究代表者以外可視化 / レーザ / ナノ粒子 / 摩耗 / 下降流 / 上昇流 / 相関 / 研磨速度 / 流れの相似則 / 研磨パッド / 研磨レート / 循環流れ / ミクロスケール / スラリー流れ / 化学的機械研磨 / １分子計測(SMD) / 精密研磨 / 超精密計測 / 機械工作・生産工学 / CMP / 粒径 / 計測 / 加工現象 / ポリシング / 3次元 / 三次元 / 全反射顕微鏡 / 多波長 / 三次元位置計測 / ブラウン運動 / 全反射顕微鏡法 / エバネッセント光 / 散乱光 / 界面 / 散乱 / 微粒子 / 近接場 / エバネッセント / 国際研究者交流（米国） / surface / scattering / near field / evanescent / polishing / particle / visualization / laser / evanescent wave / optical microscopy / SiC / scattering light / nanoparticle / polishing phenomena 隠す

触媒活性型フラーレンナノ微粒子を用いた加工制御法に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  鈴木恵友
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2023
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分18020:加工学および生産工学関連
- 研究機関
  九州工業大学
ナノスケール加工現象における作用単粒子の三次元空間追跡法及び粒径計測法の確立
- 研究代表者
  
  カチョーンルンルアンパナート
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2018
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  九州工業大学
フラーレン複合型スマート研磨微粒子を用いた難加工材研磨メカニズムに関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  鈴木恵友
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  九州工業大学
ミクロスケール・スラリー流れ可視化観察による研磨メカニズムの解明
- 研究代表者
  
  福田明
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  徳山工業高等専門学校
超伝導砥粒を用いた磁気援用選択加工技術に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  鈴木恵友
- 研究期間 (年度)
  2014 – 2016
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  九州工業大学
機上ポリシング加工現象観察装置の開発およびその現象解析
- 研究代表者
  
  カチョーンルンルアンパナート
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2014
- 研究種目
  
  若手研究(B)
- 研究分野
  
  設計工学・機械機能要素・トライボロジー
- 研究機関
  九州工業大学
フラーレンナノ微粒子を用いた超精密加工技術に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  鈴木恵友
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2013
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  九州工業大学

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すべて雑誌論文学会発表産業財産権

[雑誌論文] 難加工技術における現状と課題2022
- 著者名/発表者名
  SUZUKI Keisuke
- 雑誌名
  
  精密工学会誌
  
  巻: 88 号: 6 ページ: 431-434
- DOI
  10.2493/jjspe.88.431
- ISSN
  0912-0289, 1882-675X
- 年月日
  2022-06-05
- 言語
  日本語
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[雑誌論文] Study on the reactive nano carbon fine particle for SiC-CMP2022
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki,Panart Khajornrungruan,Yuta Todoroki,Masaki Morii and Hideaki Nishizawa
- 雑誌名
  
  Proceeding of ICPT
  
  巻: -
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[雑誌論文] Study on Mechanism of High Material Removal in Sapphire-CMP with Sub-10nm Silica Particles using Evanescent Field Light2018
- 著者名/発表者名
  Natthaphon Bun-Athuek、Panart Khajornrungruang、Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  Proc. of ICPT 2018
  
  巻: 2018 ページ: 76-81
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[雑誌論文] Effects of mixed ultrafine colloidal silica particles on chemical mechanical polishing of sapphire2018
- 著者名/発表者名
  Natthaphon Bun-Athuek, Hiroko Takazaki, Takuo Yasunaga, Yutaka Yoshimoto, Panart Khajornrungruang, and Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: in press
- NAID
  210000149384
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] Study on Structure and Optimization of Hybrid Silica Particles on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire2018
- 著者名/発表者名
  Bun-Athuek Natthaphon、Takazaki Hiroko、Yasunaga Takuo、Yoshimoto Yutaka、Khajornrungruang Panart、Suzuki Keisuke
- 雑誌名
  
  WCMNM 2018 World Congress on Micro and Nano Manufacturing, ISBN: 978-981-11-2727-4
  
  巻: 2018 ページ: 47-50
- DOI
  10.3850/978-981-11-2728-1_20
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[雑誌論文] Evaluation Method of the Approach of Nanoparticles-to-Surface in Chemical Mechanical Polishing using Optical Evanescent Field2018
- 著者名/発表者名
  Thitipat Permpatdechakul, Yutaka Terayama, Panart Khajornrungruang, Keisuke Suzuki, Natthaphon Bun-Athuek
- 雑誌名
  
  Proc. of ICPT 2018
  
  巻: 2018 ページ: 356-360
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[雑誌論文] In situ measurement method for film thickness using transparency resin sheet with low refractive index under wet condition on chemical mechanical polishing2017
- 著者名/発表者名
  Takahiro Oniki, Panart Khajornrungruang, and Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  Japanese journal of applied physics (JJAP).
  
  巻: in press
- NAID
  210000148115
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] In situ measurement method for film thickness using transparency resin sheet with low refractive index under wet condition on chemical mechanical polishing2017
- 著者名/発表者名
  Takahiro Oniki, Panart Khajornrungruang, Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 7S
- NAID
  210000148115
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[雑誌論文] Analytical on mixed colloidal silica particle in slurry of sapphire Chemical Mechanical Polishing2017
- 著者名/発表者名
  Natthaphon Bun-Athuek, Yutaka Yoshimoto, Koya Sakai, Panart Khajornrungruang, and Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  The 9th International Conference on Leading Edge Manufacturing in 21st Century (LEM21)
  
  巻: ０ページ: 173-173
- NAID
  130006744679
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] Nanoparticle Application of Polyhydroxylated Fullerene (Fullerenol) on Post Cleaning Process of Copper Wafer2017
- 著者名/発表者名
  Yueh-Hsun Tsai, Keisuke Suzuki,Chao-Chung Chen,Panart Khajornrungruang
- 雑誌名
  
  WCMNM2017
  
  巻: - ページ: 95-98
- NAID
  130006043939
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] Study on effect of the surface variation of colloidal silica abrasive during chemical mechanical polishing of sapphire2017
- 著者名/発表者名
  Natthaphon Bun-Athuek, Yutaka Yoshimoto, Koya Sakai, Panart Khajornrungruang, and Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  Japanese journal of applied physics (JJAP).
  
  巻: in press
- NAID
  210000148099
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] Study on effect of the surface variation of colloidal silica abrasive during chemical mechanical polishing of sapphire2017
- 著者名/発表者名
  Natthaphon Bun-Athuek, Yutaka Yoshimoto, Koya Sakai, Panart Khajornrungruang, and Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 56
- NAID
  210000148099
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] In-situ measurement method of the film thickness using transparency micro-patterned pad with low refractive index under the wet condition2016
- 著者名/発表者名
  Takahiro Oniki, Panart Khajornrungruang, and Keisuke Suzuki
- 雑誌名
  
  ADMETA 2016
  
  巻: -
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[雑誌論文] Study on Sapphire CMP slurry using fullerenol as novel functional fine particle2013
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki et.al.
- 雑誌名
  
  ICOMM2014
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[雑誌論文] Study on Sapphire CMP using Fullerenol mixed slurry-Effect on the size of silica and diamond fine particles-Advanced Metallization Conference2013
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki et.al.
- 雑誌名
  
  23th Asian Session (ADMETA 2013)
  
  ページ: 90-91
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[雑誌論文] Effect of Fullerenol as Fine Particles in Sapphire CMP Slurry2011
- 著者名/発表者名
  Takashi Saito, Keisuke Suzuki et. al.
- 雑誌名
  
  International Conference on Planarization/CMP Technology (2011 ICPT)
  
  ページ: 502-506
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[雑誌論文] Study on Sapphire CMP Slurry using Water-soluble Fullerenol as Fine Particles2011
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki et. al.
- 雑誌名
  
  International Conference on Planarization/CMP Technology (2011 ICPT)
  
  ページ: 287-292
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[雑誌論文] Performance of water-solble fullerenol as novel functional fine particles for sapphire CMP2011
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki et. al.
- 雑誌名
  
  21th Asian Session (ADMETA2011)
  
  ページ: 118-119
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[産業財産権] 超伝導体を利用した加工装置及び加工方法2015
- 発明者名
  鈴木恵友，日高裕,小田部荘司,上原和晃
- 権利者名
  九州工業大学
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2015-228714
- 出願年月日
  2015-11-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26630029
[産業財産権] 研磨剤2011
- 発明者名
  鈴木恵友,木村景一,カチョーンルンルアンパナート,齊藤貴志,是澤龍哉
- 権利者名
  国立大学法人九州工業大学
- 産業財産権種類
  特許
- 出願年月日
  2011-05-26
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[産業財産権] 研磨剤2011
- 発明者名
  鈴木恵友
- 権利者名
  九州工業大学
- 産業財産権番号
  2011-117617
- 出願年月日
  2011
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] フラーレン構造体を用いた新規研磨微粒子に関する研究2023
- 著者名/発表者名
  鈴木恵友
- 学会等名
  2023年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[学会発表] Study on nano carbon fine particles based on C60 molecule for diamond CMP2023
- 著者名/発表者名
  Keiuske Suzuki
- 学会等名
  ADMETA2023
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[学会発表] 難加工材における高効率研磨微粒子の探索2022
- 著者名/発表者名
  鈴木恵友
- 学会等名
  砥粒加工学会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[学会発表] Study on Reactive Nano Carbon Fine Particle for SiC-CMP2022
- 著者名/発表者名
  鈴木恵友
- 学会等名
  公益社団法人精密工学会プラナリゼーション CMP とその応用技術専門委員会第 203 回研究会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[学会発表] Study on the reactive nano carbon fine particle for SiC-CMP2022
- 著者名/発表者名
  Keiuske Suzuki
- 学会等名
  ICPT2022
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[学会発表] 難加工材におけるナノ研磨微粒子複合化に関する研究2021
- 著者名/発表者名
  鈴木恵友
- 学会等名
  学振136委員会
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21H01229
[学会発表] FDTD法によるガラス表面近傍における移動ナノ粒子の光散乱特性解析2019
- 著者名/発表者名
  ○平佳那子， ◎カチョーンルンルアンパナート，鈴木恵介，荒牧弘親
- 学会等名
  2019年度精密工学会第26回学生会員卒業研究発表講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] The Performance Evaluation of Developed Apparatus for Observing the Nanoparticles Phenomena During CMP Process by Applying Evanescent Field2019
- 著者名/発表者名
  PERMPATDECHAKUL THITIPAT, Khajornrungruang Panart, Suzuki Keisuke, Blattler Aran, Kanako Taira
- 学会等名
  日本機械学会九州支部第72期総会・講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] Study on On-Machine Visualization of Surface Processing Phenomena in Nanoscale -5th report: Investigation on 3D Motion of Standard Particle-2019
- 著者名/発表者名
  ブラドラー・アラン、カチョーンルンルアン・パナート、鈴木恵友、パームパッデーチャークン・ティティパット
- 学会等名
  2019年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] High Speed Three-dimensional Tracking of Individual Polystyrene Standard Nanoparticle in Multi-wavelength Evanescent Fields2019
- 著者名/発表者名
  Aran Blattler, Panart Khajornrungruang, Keisuke Suzuki
- 学会等名
  International Symposium on Measurement Technology and Intelligent Instruments （受理された）
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] ナノスケールにおける加工現象可視化に関する研究第 4 報:縦分解能の検討2018
- 著者名/発表者名
  白川裕晃，ブラッドラーアラン，カチョーンルンルアンパナート，鈴木恵友, 竹元亨
- 学会等名
  2018 年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] Proposal of Optical Measurement Method for 3D Single Nanoparticle Position Near a Surface2018
- 著者名/発表者名
  Panart Khajornrungruang, Hiroaki Shirakawa, Keisuke Suzuki, Koya Sakai
- 学会等名
  21 st International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] Development of in-situ observation apparatus for investigating the nanoparticles phenomenon on surface in CMP using evanescent field2018
- 著者名/発表者名
  PERMPATDECHAKUL THITIPAT, ,KHAJORNRUNGRUANG PANART, KEISUKE SUZUKI, YUTAKA TERAYAMA
- 学会等名
  精密工学会九州支部北九州地方講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] ナノスケール被加工表面上におけるナノ粒子の三次元挙動観測法に関する研究2018
- 著者名/発表者名
  カチョーンルンルアンパナート、白川裕晃，ブラッドラーアラン，竹元亨，鈴木恵友
- 学会等名
  精密工学会切削加工専門委員会・知的ナノ計測専門委員会合同ワークショップ
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] 低屈折率の透明樹脂パッドを用いたCMPにおけるモニタリング技術に関する研究2017
- 著者名/発表者名
  鬼木喬玄，鈴木恵友，カチョーンルンルアンパナート
- 学会等名
  精密工学会
- 発表場所
  慶応大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[学会発表] Optimization of mixed colloidal silica and fullerenol slurry in chemical mechanical polishing of sapphire2017
- 著者名/発表者名
  atthaphon Bun-Athuek, Panart Khajornrungruang, Wataru Murakawa, Tokihito Satou, and Keisuke Suzuki
- 学会等名
  JSME Conference
- 発表場所
  佐賀大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[学会発表] Nanoparticle Application of Polyhydroxylated Fullerene (Fullerenol) on Post Cleaning Process of Copper Wafer2017
- 著者名/発表者名
  Yueh-Hsun Tsai, Keisuke Suzuki,Chao-Chung Chen,Panart Khajornrungruang
- 学会等名
  JSPE2017(Spring)
- 発表場所
  慶応大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03903
[学会発表] ナノスケールにおける加工現象可視化に関する研究第 3 報:散乱光強度評価2017
- 著者名/発表者名
  白川裕晃, カチョーンルンルアンパナート, 鈴木恵友
- 学会等名
  2017 年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] Investigation on 3D Position of Individual Nanoparticle in Multi Wavelength Evanescent Field2017
- 著者名/発表者名
  Aran Blatter, 白川裕晃、カチョーンルンルアンパナート、鈴木恵友、竹元亨
- 学会等名
  2017年度精密工学会九州支部熊本地方講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] Proposal of Individual Sub 100 nm Nano-Particle 3D-Tracking Method in Multi Wavelength Evanescent Fields2017
- 著者名/発表者名
  Panart Khajornrungruang, Hiroaki Shirakawa, Keisuke Suzuki, and Ryo Takemoto
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2017
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] 二波長エバネッセント光を用いた実時間三次元計測法に関する研究（ナノ粒子の散乱光強度検出装置の設計）2016
- 著者名/発表者名
  白川裕晃，カチョーンルンルアンパナート，鈴木恵友
- 学会等名
  2016年度精密工学会九州支部北九州地方講演会
- 発表場所
  北九州工業高等専門学校（福岡県北九州市）
- 年月日
  2016-12-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06015
[学会発表] 超伝導援用による浮上工具を利用した中空加工技術に関する研究2015
- 著者名/発表者名
  鈴木恵友
- 学会等名
  JST新技術発表会
- 発表場所
  JST市ヶ谷
- 年月日
  2015-12-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-26630029
[学会発表] エバネッセント光を用いたナノ微粒子観察によるポリシング加工の現象解析2015
- 著者名/発表者名
  今井祐太，鈴木恵友，カチョーンルンルアン　パナート
- 学会等名
  日本機械学会九州支部第68期総会・講演会
- 発表場所
  福岡大学，福岡県
- 年月日
  2015-03-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25870514
[学会発表] Study on Sapphire CMP slurry using fullerenol as novel functional fine particle2014
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki et.al.,
- 学会等名
  ICOMM2014
- 発表場所
  Singapore
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] 水酸化フラーレンを利用したサファイアCMP高効率研磨手法に関する研究2013
- 著者名/発表者名
  河北誠也,鈴木恵友他
- 学会等名
  2013年度精密工学会春季大会
- 発表場所
  東京工業大学
- 年月日
  2013-03-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] MEMS技術を応用したCMPマイクロハターンハットの研究−Niめっき金型を用いたマイクロハターンハットの製作—2013
- 著者名/発表者名
  磯野慎太郎,伊藤高廣,鈴木恵友他
- 学会等名
  2013年度精密工学会春季大会
- 発表場所
  東京工業大学
- 年月日
  2013-03-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] 水酸化フラーレン混合スラリーによるサファイアCMPに関する研究材料除去メカニズムの検討2013
- 著者名/発表者名
  齊藤貴志,鈴木恵友他
- 学会等名
  2012年度精密工学会春季大会
- 発表場所
  首都大学
- 年月日
  2013-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] Study on Sapphire CMP using Fullerenol mixed slurry-Effect on the size of silica and diamond fine particles2013
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki et. al.,
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2013 23th Asian Session (ADMETA 2013)
- 発表場所
  The university of Tokyo
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] 他水酸化フラーレン混合スラリーを用いたサファイアCMPに関する研究‐研磨性能における定量的評価‐2013
- 著者名/発表者名
  村川渉,鈴木恵友
- 学会等名
  精密工学会九州支部学生研究発表会
- 発表場所
  宮崎大学工学部
- 年月日
  2013-12-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] 水酸化フラーレンを利用したサファイアCMP高効率研磨手法に関する研究2013
- 著者名/発表者名
  河北誠也，山城天心，木村景一，カチョーンルンルアンパナート，鈴木恵友
- 学会等名
  2013年度精密工学会春季大会
- 発表場所
  東京工業大学大岡山キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] CMP用マイクロハターンハットの開発-ホリシンクへの適用-2012
- 著者名/発表者名
  磯野慎太郎,鈴木恵友他
- 学会等名
  2012年度精密工学会春季大会
- 発表場所
  九州工業大学
- 年月日
  2012-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] サファイアCMPにおける水酸化フラーレン混合スラリーに関する研究コロイタルシリカスラリーをヘースとした研磨特性の検証2012
- 著者名/発表者名
  齊藤貴志,鈴木恵友他
- 学会等名
  2011年度精密工学会秋季大会
- 発表場所
  金沢大学
- 年月日
  2012-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] 水酸化フラーレン混合スラリーによるサファイアCMP に関する研究̶材料除去メカニズムの検討2011
- 著者名/発表者名
  齊藤貴志，鈴木恵友，パナートカチョーンルンルアン，烏谷恵里香，木村景一
- 学会等名
  ２０１２年度精密工学会春季大会
- 発表場所
  首都大学　東京
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] Effect of Fullerenol as Fine Particles in Sapphire CMP Slurry2011
- 著者名/発表者名
  Takashi Saito, Keisuke Suzuki, Panart Khajornrungruang, Tatsuya Korezawa, and Keiichi Kimura
- 学会等名
  2011 International Conference on Planarization/CMP Technology (2011 ICPT)
- 発表場所
  COEX Soul
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] Study on Sapphire CMP Slurry using Water-soluble Fullerenol as Fine Particles2011
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki,Takashi Saito, Erika Karasudani, Tatsuya Korezawa, Panart Khajornrungruang
- 学会等名
  2011 International Conference on Planarization/CMP Technology (2011 ICPT)
- 発表場所
  COEX Soul
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] サファイアCMPにおける水酸化フラーレン混合スラリーに関する研究̶コロイダルシリカスラリーをベースとした研磨特性の検証̶2011
- 著者名/発表者名
  齊藤貴志鈴木恵友, パナートカチョーンルンルアン,烏谷恵里香,木村景一,
- 学会等名
  ２０１１年度精密工学会秋季大会
- 発表場所
  金沢大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129
[学会発表] Performance of Water-soluble Fullerenol as Novel Functional Fine Particles for Sapphire CMP2011
- 著者名/発表者名
  Keisuke Suzuki,Takashi Saitou,Tatsuya Korezawa, Panart Khajornrungruang and Keiichi Kimura
- 学会等名
  Advanced Metallization Conference 2011 21th Asian Session (ADMETA 2011)
- 発表場所
  Japan, Tokyo
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560129

1. カチョーンルンルアンパナート (60404092)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 31件
2. 木村景一 (80380723)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 5件
3. 伊藤高廣 (10367401)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 1件
4. 安永卓生 (60251394)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 1件
5. 福田明 (80643220)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
6. 小田部荘司 (30231236)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
7. 白川裕晃

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 7件
8. ブラッドラーアラン

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 2件
9. パームパッデーチャークンティティパット

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件
10. BABU Suryadevara V.

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

鈴木 恵友 Keisuke Suzuki

研究課題

研究成果

共同研究者

触媒活性型フラーレンナノ微粒子を用いた加工制御法に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

ナノスケール加工現象における作用単粒子の三次元空間追跡法及び粒径計測法の確立

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フラーレン複合型スマート研磨微粒子を用いた難加工材研磨メカニズムに関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

ミクロスケール・スラリー流れ可視化観察による研磨メカニズムの解明

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

超伝導砥粒を用いた磁気援用選択加工技術に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

機上ポリシング加工現象観察装置の開発およびその現象解析

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フラーレンナノ微粒子を用いた超精密加工技術に関する研究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] 難加工技術における現状と課題2022

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

ISSN

年月日

言語

データソース

[雑誌論文] Study on the reactive nano carbon fine particle for SiC-CMP2022

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Study on Mechanism of High Material Removal in Sapphire-CMP with Sub-10nm Silica Particles using Evanescent Field Light2018

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Effects of mixed ultrafine colloidal silica particles on chemical mechanical polishing of sapphire2018

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Study on Structure and Optimization of Hybrid Silica Particles on Chemical Mechanical Polishing of Sapphire2018

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Evaluation Method of the Approach of Nanoparticles-to-Surface in Chemical Mechanical Polishing using Optical Evanescent Field2018

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] In situ measurement method for film thickness using transparency resin sheet with low refractive index under wet condition on chemical mechanical polishing2017

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

鈴木恵友 Keisuke Suzuki