• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

志村 美知子  SHIMURA Michiko

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 60087294
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1998年度: 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 教授
1995年度: 東京都立大学, 工学部・電子情報工学科, 助教授
1991年度 – 1994年度: 東京都立大学, 工学部, 助教授
1990年度: 東京都立大学, 工学部・電気工学科, 助教授
1990年度: 東京都立大学, 工学部電気工学科, 助教授
1989年度: 東京都立大学, 工学部, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
工業物理化学 / 工業物理化学・複合材料
研究代表者以外
応用物性 / 環境保全 / 表面界面物性
キーワード
研究代表者
Electrochemical catalyst / Organic semiconductor / Oxygen detector / Electrochromism / Naphthalocyanine / In situ measurement / Photocurrent / inorganic built-up fi / Organic / Phthalocyanine … もっと見る / Epitaxial growth / ヘテロ積層膜 / GaS / 層状物質 / ヘテロ積尻膜 / フタロシフニン / 量子井戸構造 / 超格子 / その場測定 / 光電流 / 無機累積膜 / 有機 / フタロシアニン / エピタキシャル成長 / Dissolved Oxygen Detector / OxygenーReduction … もっと見る
研究代表者以外
Surface Damage / Hydrogen Cleaning / Remote Plasma / a-Si / XPS / Fuluoride / Plasma Fluorination / GaAs / 透過電子顕微鏡 / X線光電子分光法 / 表面損傷 / 水素クリーニング / リモートプラズマ / アモルファスひ素 / X線光電子分光 / フッ化物 / プラズマフッ化 / ひ化ガリウム / Hetero-junction / Gallium Telluride / Gallium Selenide / Lamellar Semiconductor / エピタキシ- / 異方性 / ヘテロ接合 / ガリウムセレン / ガリウムテルル / ガリウムひ素 / 層状化合物半導体 / 金属水酸化物 / 浸出水処理 / 電解反応 / 磁性フロック / 磁気分離 / 光電気化学エッチング / めっき / 電気化学プロセス / ショットキー接触 / 砒化ガリウム / 化合物半導体 隠す
  • 研究課題

    (6件)
  • 共同研究者

    (7人)
  •  磁気分離用フロック生成の研究 -電解反応による磁性フロックの生成-

    • 研究代表者
      渡辺 恒雄
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      萌芽的研究
    • 研究分野
      環境保全
    • 研究機関
      東京都立大学
  •  色素の超格子を用いた量子井戸構造の作製と物性応用の検討研究代表者

    • 研究代表者
      志村 美知子
    • 研究期間 (年度)
      1994 – 1995
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      工業物理化学
    • 研究機関
      東京都立大学
  •  ショットキー障壁形成機構解明のための電気化学的アプローチ

    • 研究代表者
      奥村 次徳
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      東京都立大学
  •  ガリウムひ素表面の低温フッ化

    • 研究代表者
      奥村 次徳
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      東京都立大学
  •  新規エレクトロニクス材料としてのナフタロシアニン錯体の検討研究代表者

    • 研究代表者
      志村 美知子
    • 研究期間 (年度)
      1990 – 1991
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      工業物理化学・複合材料
    • 研究機関
      東京都立大学
  •  ガリウムひ素と層状化合物半導体とのヘテロ接合に関する研究

    • 研究代表者
      奥村 次徳
    • 研究期間 (年度)
      1989 – 1990
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      応用物性
    • 研究機関
      東京都立大学
  • 1.  奥村 次徳 (00117699)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  志村 幸雄 (00162727)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  海部 宏昌 (40224331)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  渡辺 恒雄 (90240499)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  釜崎 清治 (60106614)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  伊藤 大佐 (90254151)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  小原 健司
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

URL: 

この研究者とORCID iDの連携を行いますか?
※ この処理は、研究者本人だけが実行できます。

Are you sure that you want to link your ORCID iD to your KAKEN Researcher profile?
* This action can be performed only by the researcher himself/herself who is listed on the KAKEN Researcher’s page. Are you sure that this KAKEN Researcher’s page is your page?

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi