山村和也 YAMAMURA Kazuya

研究者番号	60240074
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所属 (現在)	2023年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2023年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 2017年度 – 2022年度: 大阪大学, 工学研究科, 教授 2015年度 – 2016年度: 大阪大学, 工学研究科, 准教授 2015年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 2011年度 – 2015年度: 大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 … もっと見る 2012年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 2009年度 – 2012年度: 大阪大学, 工学研究科, 准教授 2007年度 – 2010年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授 2009年度: 大阪大学, 工学研究部, 准教授 2008年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 2006年度: 大阪大学, 大学院工学研究科, 助教授 2003年度 – 2005年度: 大阪大学, 工学研究科, 助教授 2001年度 – 2005年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教授 2003年度: 大阪大学, 助教授 1998年度 – 2000年度: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 助手 1998年度 – 1999年度: 大阪大学, 工学研究科, 助手 1992年度 – 1997年度: 大阪大学, 工学部, 助手隠す
審査区分/研究分野	研究代表者生産工学・加工学 / 機械工作・生産工学 / 中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野 / 大区分C 研究代表者以外機械工作・生産工学 / 生産工学・加工学 / 量子ビーム / 小区分80040:量子ビーム科学関連 / 量子ビーム科学 / 素粒子・原子核・宇宙線・宇宙物理 … もっと見る / 機械材料・材料力学 / 機械工作 / 工学 / 理工系隠す
キーワード	研究代表者大気圧プラズマ / プラズマCVM / SiC / スラリーレス / ワイドギャップ半導体 / 研磨 / 数値制御加工 / ラジカル / 難加工材料 / ダメージフリー … もっと見る / 超精密加工 / プラズマ / 電気化学機械研磨 / 金型材料 / 陽極酸化 / GaN / 表面改質 / フッ素樹脂 / 無電解銅めっき / 無歪加工 / 回転電極 / 第一原理分子動力学 / 超音波 / 超音波振動 / スラリーレス研磨 / 表面仕上げ / 形状創成 / ビトリファイドボンド砥石 / 脱粒フリー / 窒化アルミニウム基板 / ドレスフリー / ワイドギャップ半導体基板 / プラズマ改質 / プラズマ援用研磨 / シリコンカーバイド / 非球面 / 金型 / 形状修正 / 反応焼結SiC / サファイア / ダイヤモンド / ラジカル基 / グラフト共重合 / 無電解めっき / マイクロ波基板 / 低環境負荷 / オストワルド熟成 / ナノ粒子 / 銅張積層板 / 自己組織化 / パルス変調プラズマ / ATカット水晶ウエハ / OHラジカル / 水蒸気プラズマ / スクラッチフリー / 特殊加工 / 薄板化 / 高周波 / 水晶 / SOIウエハ / 非球面ミラー / X線ミラー / ラジカル反応 / 高速回転電極 / Cl / F / シリコン / ハロゲン / 高圧力 … もっと見る研究代表者以外 EEM / 数値制御加工 / 大気圧プラズマ / スーパーミラー / プラズマCVM / プラズマCVD / ラジカル / SOI / シリコン / 超精密加工 / レプリカ法 / ウォルターミラー / 中性子顕微鏡 / SiH_4 / Low temperature deposition / Thin film / Silicon / Surface modification / Ion gun / イオン照射 / シリコン薄膜 / 低温成膜 / 表面改質 / ultra-fine particle / plasma CVD / 磁性 / 量子ビーム / 数値制御ローカルウェットエッチング法 / 非球面ミラー / 放射光 / X線集光 / X線顕微鏡 / X線ミラー / SPV / 表面電子準位 / 分光 / 表面光起電力 / 高速回転電極 / Wolterミラー / 数値制御プラズマCVM / 中性子スピン / 超精密金型転写 / 計測工学 / 中性子検出器 / マンドレル / レプリカミラー / Wolter mirror / supermirror / Microscope / Neutron / 磁気イメージング / イオンビームスパッタ法 / 大気圧マイクロ波プラズマジェット / 未知短距離力 / 量子束縛状態 / CCD / 超冷中性子 / ブチルゴム / 銅ペースト / 銀インク / 密着強度 / 異種材料接着 / 加熱 / 大気圧プラズマ処理 / 接着強度 / 金属 / ゴム / 脆弱層 / 表面温度 / 熱 / プラズマ / 接着 / ポリテトラフルオロエチレン（PTFE） / asymmetric aspheric figure / goniometers / normal vector / slope error / surface figuring / EUV / Synchrotron radiation optics / 基準面 / 法線ベクトル測定 / X線光学素子 / 大型ミラー / 非基準面 / 法線ベクトル計測 / 非球面形状 / 集効用ミラー / ナノメータ / 非球面 / スロープエラー / ゴニオメータ / 法線ベクトル / 基準面無し / 形状計測 / plane mirror / synchrotron radiation / numerical controlled / high-speed rotary electrode / radical / atmospheric pressure / plasma CVM / 薄膜化 / 平面ミラー / シンクロトロン放射光 / シリコンイオン / TFT / 太陽電池 / 液体金属イオン源 / 多結晶 / 基板改質 / SF6 / Spatial resolution / Pulse modulation / Radical / Atmospheric plasma / 分解過程 / 六フッ化硫黄 / プラズマの局在化 / パルス変調 / ラジカル加工 / 高圧力プラズマ / ultra-precision machining / crystallographic properties / non-destructive / high sensitive / Si / surface photovaltage effects / 起精密加工 / 半導体 / 低温 / 加工変質層 / 非接触 / 超精密加工面 / 微弱表面電位計測システム / atmospheric plasma / 微細粉末 / 超微粒子 / 表面制御 / 薄膜用基板 / 薄膜 / イオンガン / coating / surface preparation / マイクロ波プラズマ / コーティング / 表面処理 / 粉末粒子 / 非球面形状創成 / 多層膜 / 中性子反射法 / ビーム集光 / 角度発散型中性子反射法 / 中性子集光スーパーミラー / 超薄膜 / 表面・界面物性 / 微細加工 / 数値制御ローカルウェットエッチング / 臨界角 / 中性子集光 / 即発γ線分析 / 回転非球面 / 中性子回折散乱 / 中性子収束 / リソグラフィー / 精密研磨 / プラズマ加工 / 石英ガラス / ローカルウエットエッチング / 平坦度 / ウエットエッチング / フォトマスク基板 / 液晶 / X 線光学 / X線自由電子レーザ / X線自由電子レーザー / ナノ集光 / 波面光学 / X線光学 / コヒーレントX線 / 超精密形状計測 / CEM / エッチング / ポリシング / アモルファスシリコン / 高速成膜隠す

プラズマナノ製造プロセスによる完全無歪加工の実現とその学理の探究研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2025
- 研究種目
  
  基盤研究(S)
- 審査区分
  
  大区分C
- 研究機関
  大阪大学
超音波を援用したワイドギャップ半導体基板のスラリーレス電気化学機械研磨装置の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2021 – 2022
- 研究種目
  
  挑戦的研究(萌芽)
- 審査区分
  
  中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
深部磁気構造研究のための中性子顕微鏡の開発
- 研究代表者
  
  曽山和彦
- 研究期間 (年度)
  2020 – 2022
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 審査区分
  
  小区分80040:量子ビーム科学関連
- 研究機関
  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
能動制御型電気化学機械研磨による難加工材料のスラリーレス高能率加工研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2019
- 研究種目
  
  挑戦的研究(萌芽)
- 審査区分
  
  中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料の高能率ダメージフリー加工研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2018 – 2020
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 審査区分
  
  中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
- 研究機関
  大阪大学
熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の接着剤レス強力接合
- 研究代表者
  
  大久保雄司
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
磁気イメージングのためのWolter型中性子顕微鏡の研究
- 研究代表者
  
  曽山和彦
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
大気圧プラズマを援用した硬脆ワイドギャップ半導体基板の高能率無歪仕上げ法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2016
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
陽極酸化を援用した金型用SiC材の高能率・高精度形状創成と表面仕上げ法の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2014
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
超冷中性子の重力による量子効果を用いた等価原理の検証と未知短距離力の探索
- 研究代表者
  
  駒宮幸男
- 研究期間 (年度)
  2012 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  素粒子・原子核・宇宙線・宇宙物理
- 研究機関
  東京大学
フッ素樹脂を絶縁被覆材料とする無電解銅めっきシールド超極細同軸ケーブルの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2012
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
高精度ビーム集光による角度発散型中性子反射法の開発
- 研究代表者
  
  山崎大
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  独立行政法人日本原子力研究開発機構
大気開放プラズマを用いた無歪高能率ナノ精度形状創成プロセスの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
高臨界角スーパーミラーを用いた多重チャネル中性子収束デバイスの研究
- 研究代表者
  
  曽山和彦
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2010
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  量子ビーム
- 研究機関
  独立行政法人日本原子力研究開発機構
触媒フリー・無電解銅めっきプロセスの開発とPTFE基板の素子化研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2008 – 2009
- 研究種目
  
  挑戦的萌芽研究
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
硬Ｘ線Ｓｕｂ―１０ｎｍビーム形成と顕微鏡システムの構築
- 研究代表者
  
  山内和人
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2010
- 研究種目
  
  特別推進研究
- 審査区分
  
  理工系
   工学
- 研究機関
  大阪大学
液晶用メーター超級大型フォトマスク基板の高精度・高能率作製プロセスの開発
- 研究代表者
  
  森勇蔵
- 研究期間 (年度)
  2006 – 2008
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
基準面を用いない高精度非球面X線ミラーの超精密形状計測に関する研究
- 研究代表者
  
  東保男
- 研究期間 (年度)
  2004 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
超高精度X線ミラー作製による高分解能硬X線顕微鏡の開発
- 研究代表者
  
  山内和人
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2007
- 研究種目
  
  基盤研究(S)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
大気圧プラズマを用いた高周波水晶デバイス用水晶基板の無歪薄板化プロセスの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  若手研究(A)
- 研究分野
  
  生産工学・加工学
- 研究機関
  大阪大学
ナノデバイス用基板としての超薄膜SOIウエハの開発
- 研究代表者
  
  佐野泰久, 森勇蔵
- 研究期間 (年度)
  2002 – 2003
- 研究種目
  
  萌芽研究
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
大気圧プラズマによる高密度ラジカル反応を用いた超精密加工に関する研究研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  2000 – 2001
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
プラズマCVMを用いた超精密非球面光学素子加工装置の開発
- 研究代表者
  
  森勇藏 (森勇蔵)
- 研究期間 (年度)
  1998 – 1999
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
大気圧プラズマを利用したラジカル反応による形状加工装置の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
表面光起電力を利用したSiウエハの加工変質層の高感度計測
- 研究代表者
  
  山内和人
- 研究期間 (年度)
  1997 – 1998
- 研究種目
  
  萌芽的研究
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
回転電極を用いた大気圧汎用プラズマCVD装置の開発
- 研究代表者
  
  森勇蔵
- 研究期間 (年度)
  1996 – 1997
- 研究種目
  
  萌芽的研究
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
大気圧プラズマを利用したラジカル反応加工に関する研究-反応素過程の理論的解明-研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  1995
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
大気圧プラズマを利用したラジカル加工におけるラジカル生成機構の解明
- 研究代表者
  
  森勇藏 (森勇蔵)
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1996
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
イオン照射による薄膜用基板の表面制御-結晶性薄膜作製の低温プロセス化-
- 研究代表者
  
  山内和人
- 研究期間 (年度)
  1995 – 1996
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
高圧力プラズマによる高効率ラジカル反応加工に関する研究-加工面評価及び有効な反応系の究明-研究代表者
- 研究代表者
  
  山村和也
- 研究期間 (年度)
  1994
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
大気圧プラズマを利用したEEM用粉末粒子作製装置の開発
- 研究代表者
  
  森勇蔵 (森勇藏)
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1995
- 研究種目
  
  試験研究(B)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
表面光起電力効果を利用したSi表面加工変質層の高感度計測
- 研究代表者
  
  山内和人
- 研究期間 (年度)
  1994 – 1995
- 研究種目
  
  一般研究(C)
- 研究分野
  
  機械工作・生産工学
- 研究機関
  大阪大学
イオン照射による薄膜用基板の表面制御に関する研究
- 研究代表者
  
  森勇蔵 (森勇藏)
- 研究期間 (年度)
  1993 – 1994
- 研究種目
  
  一般研究(B)
- 研究分野
  
  機械材料・材料力学
- 研究機関
  大阪大学
EEM(Elastic Emission Machining)用粉末粒子の表面コーティングに関する研究
- 研究代表者
  
  森勇藏
- 研究期間 (年度)
  1992 – 1993
- 研究種目
  
  試験研究(B)
- 研究分野
  
  機械工作
- 研究機関
  大阪大学

[図書] 精密加工と微細構造の形成技術　第1章第2節[9]プラズマ援用研磨による SiCのスクラッチフリー・ダメージフリー仕上げ2013
- 著者名/発表者名
  山村和也
- 総ページ数
  6
- 出版者
  技術情報協会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[図書] 大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5 マイクロ/ナノ加工2009
- 著者名/発表者名
  佐野泰久, 山村和也, 山内和人
- 出版者
  日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会, オーム社
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[図書] 次世代パワー半導体 -省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線- 第1章第1節2PCVM を用いたSiC 基板の薄化2009
- 著者名/発表者名
  佐野泰久, 山村和也, 山内和人
- 出版者
  NTS
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[図書] 月刊ディスプレイ2009年1月号、ローカルウエットエッチング法による超精密非接触加工2009
- 著者名/発表者名
  山村和也(分担執筆)
- 総ページ数
  5
- 出版者
  (株)テクノタイムズ社
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[図書] 大気圧プラズマ基礎と応用 6.7.5マイクロ/ナノ加工(分担執筆)2009
- 著者名/発表者名
  佐野泰久, 山村和也, 山内和人
- 総ページ数
  6
- 出版者
  オーム社
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[図書] 次世代パワー半導体-省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線-第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化(分担執筆)2009
- 著者名/発表者名
  佐野泰久, 山村和也, 山内和人
- 総ページ数
  12
- 出版者
  NTS
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[図書] 第1章第10節ローカルウエットエッチング法による光学素子の高精度加工, ウエットエッチングのメカニズムと処理パラメータの最適化2008
- 著者名/発表者名
  山村和也(分担執筆)
- 総ページ数
  15
- 出版者
  サイエンス&テクノロジー(株)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[図書] サイエンス&テクノロジー2008
- 著者名/発表者名
  山村和也
- 出版者
  第1章第10節ローカルウェットエッチング法による光学素子の高精度加工, ウエットエッチングのメカニズムと処理パラメータの最適化
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Charge utilization efficiency in the electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001)2022
- 著者名/発表者名
  X. Yang, X. Yang, H. Gu, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura,
- 雑誌名
  
  Journal of the Electrochemical Society
  
  巻: 169 号: 2 ページ: 023501-023501
- DOI
  10.1149/1945-7111/ac4b1f
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20J10524, KAKENHI-PROJECT-21K18677
[雑誌論文] Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing2022
- 著者名/発表者名
  Liu Nian、Sugimoto Kentaro、Yoshitaka Naoya、Yamada Hideaki、Sun Rongyan、Kawai Kentaro、Arima Kenta、Yamamura Kazuya
- 雑誌名
  
  Diamond and Related Materials
  
  巻: 124 ページ: 108899-108899
- DOI
  10.1016/j.diamond.2022.108899
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-21J11028
[雑誌論文] Dominant factors and their action mechanisms on material removal rate in electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface2021
- 著者名/発表者名
  X. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Applied Surface Science
  
  巻: 562 ページ: 150130-150130
- DOI
  10.1016/j.apsusc.2021.150130
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20J10524, KAKENHI-PROJECT-21K18677
[雑誌論文] Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing2021
- 著者名/発表者名
  Sun Rongyan、Nozoe Atsunori、Nagahashi Junji、Arima Kenta、Kawai Kentaro、Yamamura Kazuya
- 雑誌名
  
  Precision Engineering
  
  巻: 72 ページ: 224-236
- DOI
  10.1016/j.precisioneng.2021.05.003
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-19J20167
[雑誌論文] Comparison of surface and subsurface damage of mosaic single-crystal diamond substrate processed by mechanical and plasma-assisted polishing2021
- 著者名/発表者名
  Liu Nian、Yamada Hideaki、Yoshitaka Naoya、Sugimoto Kentaro、Sun Rongyan、Kawai Kentaro、Arima Kenta、Yamamura Kazuya
- 雑誌名
  
  Diamond and Related Materials
  
  巻: 119 ページ: 108555-108555
- DOI
  10.1016/j.diamond.2021.108555
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-21J11028
[雑誌論文] Obtaining Atomically Smooth 4H-SiC (0001) Surface by Controlling Balance Between Anodizing and Polishing in Electrochemical Mechanical Polishing2019
- 著者名/発表者名
  Xu. Yang, X. Yang, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Nanomanufacturing and Metrology
  
  巻: 2 号: 3 ページ: 140-147
- DOI
  10.1007/s41871-019-00043-5
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[雑誌論文] 自動車を取り巻く電磁環境とEMC試験2019
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 石原健人, 佐藤悠, 遠藤勝義, 山村和也
- 雑誌名
  
  表面技術
  
  巻: 70 号: 11 ページ: 551-556
- DOI
  10.4139/sfj.70.551
- NAID
  130007838846
- ISSN
  0915-1869, 1884-3409
- 年月日
  2019-11-01
- 言語
  日本語
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Ultrasonic-assisted anodic oxidation of 4H-SiC (0001) surface2019
- 著者名/発表者名
  X. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Electrochemistry Communications
  
  巻: 100 ページ: 1-5
- DOI
  10.1016/j.elecom.2019.01.012
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[雑誌論文] Surface Modification and Microstructuring of 4H-SiC(0001) by Anodic Oxidation with Sodium Chloride Aqueous Solution2019
- 著者名/発表者名
  X. Yang, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Applied Materials & Interfaces
  
  巻: 11 号: 2 ページ: 2535-2542
- DOI
  10.1021/acsami.8b19557
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[雑誌論文] Highly efficient planarization of sliced 4H-SiC (0001) wafer by slurryless electrochemical mechanical polishing2019
- 著者名/発表者名
  Xu. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  International Journal of Machine Tools and Manufacture
  
  巻: 144 ページ: 103431-103431
- DOI
  10.1016/j.ijmachtools.2019.103431
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[雑誌論文] Etching Characteristics of Quartz Crystal Wafers Using Argon-Based Atmospheric Pressure CF4 Plasma Stabilized by Ethanol Addition2019
- 著者名/発表者名
  R. Sun, Xu. Yang, K. Watanabe, S. Miyazaki, T. Fukano, M. Kitada, K. Arima, K. Kawai, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Nanomanufacturing and Metrology
  
  巻: Vol. 2 号: 3 ページ: 168-176
- DOI
  10.1007/s41871-019-00044-4
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-19J20167
[雑誌論文] Investigation of anodic oxidation mechanism of 4H-SiC (0001) for electrochemical mechanical polishing2018
- 著者名/発表者名
  X. Yang, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Electrochimica Acta
  
  巻: 271 ページ: 666-676
- DOI
  10.1016/j.electacta.2018.03.184
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[雑誌論文] Surface modification of fluoropolymer using open-air plasma treatment at atmospheric pressure with Ar, Ar + O2, and Ar + H2 for application in high-adhesion metal wiring patterns2018
- 著者名/発表者名
  Y. Kodama, Y. Ohkubo, T. Oshita, Y. Nakano, T. Uehara, T. Aoyama, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  表面技術
  
  巻: 69 ページ: 155-162
- NAID
  130007539092
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Damage-free highly efficient polishing of single-crystal diamond wafer by plasma-assisted polishing2018
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, K. Emori, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP
  
  巻: 67 号: 1 ページ: 353-356
- DOI
  10.1016/j.cirp.2018.04.074
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[雑誌論文] Effect of rubber compounding agent on adhesion strength between rubber and heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE)2018
- 著者名/発表者名
  Y. Ohkubo, M. Shibahara, K. Ishihara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Journal of Adhesion
  
  巻: 印刷中号: 3 ページ: 242-257
- DOI
  10.1080/00218464.2018.1428095
- NAID
  120007149414
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing2017
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endob, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Int. J. Mach. Tool. Man.
  
  巻: 115 ページ: 38-46
- DOI
  10.1016/j.ijmachtools.2016.11.002
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Adhesive-free adhesion between polytetrafluoroethylene (PTFE) and isobutylene-isoprene rubber (IIR) via heat-assisted plasma treatment2017
- 著者名/発表者名
  Y. Ohkubo, K. Ishihara, H. Sato, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  RSC Advances
  
  巻: 7 号: 11 ページ: 6432-6438
- DOI
  10.1039/c6ra27642c
- 査読あり / 謝辞記載あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Drastic improvement in adhesion property of polytetrafluoroethylene (PTFE) via heat-assisted plasma treatment using a heater2017
- 著者名/発表者名
  Y. Ohkubo, K. Ishihara, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Scientific Reports
  
  巻: 7 号: 1
- DOI
  10.1038/s41598-017-09901-y
- NAID
  120007149410
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] フッ素樹脂／異種材料（ゴム・金属）の強力接着2016
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 山村和也
- 雑誌名
  
  接着の技術
  
  巻: 35 ページ: 38-42
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] 大気圧プラズマを用いたフッ素樹脂と異種材料の革新的接合技術2016
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 山村和也
- 雑誌名
  
  エレクトロニクス実装学会誌
  
  巻: 19 ページ: 127-131
- NAID
  130005155005
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Preliminary study on atmospheric-pressure plasma-based chemical dry figuring and finishing of reaction-sintered silicon carbide2016
- 著者名/発表者名
  X. Shen, H. Deng, X. Zhang, K. Peng, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Opt. Eng.
  
  巻: 55 号: 10 ページ: 105102-105102
- DOI
  10.1117/1.oe.55.10.105102
- 査読あり / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] ケミカルエンジニヤリング2016
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 山村和也
- 雑誌名
  
  接着剤なしでフッ素樹脂と異種材料を接合する技術
  
  巻: 61 ページ: 34-40
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Study on removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing2016
- 著者名/発表者名
  C. Kageyama, K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Advanced Materials Research
  
  巻: 1136 ページ: 317-320
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/amr.1136.317
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006, KAKENHI-PROJECT-13J00581
[雑誌論文] 熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質2016
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 山村和也
- 雑誌名
  
  機能材料
  
  巻: 36 ページ: 13-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Figuring and finishing of reaction-sintered SiC by anodic oxidation assisted process2015
- 著者名/発表者名
  N. Shimozono, X. Shen, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Key Eng. Mater.
  
  巻: 625 ページ: 570-575
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/kem.625.570
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[雑誌論文] Competition between surface modification and abrasive polishing: a method of controlling the surface atomic structure of 4H-SiC (0001)2015
- 著者名/発表者名
  Hui Deng, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Scientific Reports
  
  巻: 5 号: 1
- DOI
  10.1038/srep08947
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13J00581, KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Efficient processing of reaction-sintered silicon carbide by anodically oxidation-assisted polishing2015
- 著者名/発表者名
  X. Shen, Q. Tu, J. Zhou, H. Deng, G. Jiang, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Opt. Eng.
  
  巻: 54 号: 10 ページ: 055106-055106
- DOI
  10.1117/1.oe.54.10.105113
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Atomic-scale and pit-free flattening of GaN by combination of plasma pretreatment and time-controlled chemical mechanical polishing2015
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Lett.
  
  巻: 107 号: 5 ページ: 051602-051602
- DOI
  10.1063/1.4928195
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006, KAKENHI-PROJECT-13J00581
[雑誌論文] PTFEの用途を拡大する革新的な表面処理技術2015
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 山村和也
- 雑誌名
  
  加工技術
  
  巻: 50 ページ: 316-322
- NAID
  120007160767
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[雑誌論文] Finishing of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing2015
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Key Eng. Mater.
  
  巻: 625 ページ: 192-195
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/kem.625.192
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface2015
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP
  
  巻: 64 号: 1 ページ: 531-534
- DOI
  10.1016/j.cirp.2015.04.002
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006, KAKENHI-PROJECT-13J00581
[雑誌論文] Investigation of removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing2015
- 著者名/発表者名
  K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Key Eng. Mater.
  
  巻: 625 ページ: 458-462
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/kem.625.458
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Electro-chemical mechanical polishing of single-crystal SiC using CeO2 slurry2015
- 著者名/発表者名
  Hui Deng, Kenji Hosoya, Yusuke Imanishi, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Electrochemistry Communications
  
  巻: 52 ページ: 5-8
- DOI
  10.1016/j.elecom.2015.01.002
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-13J00581, KAKENHI-PROJECT-25630026
[雑誌論文] Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for highly effective planarization of 4H-SiC2014
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP
  
  巻: 63 号: 1 ページ: 529-532
- DOI
  10.1016/j.cirp.2014.03.043
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Damage-free and atomically-flat finishing of single crystal SiC by combination of oxidation and soft abrasive polishing2014
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Procedia CIRP
  
  巻: 13 ページ: 203-207
- DOI
  10.1016/j.procir.2014.04.035
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Experimental studies on water vapor plasma oxidation and thermal oxidation of 4H-SiC(0001) for clarification of the atomic-scale flattening mechanism in plasma assisted polishing2014
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Materials Science Forum
  
  巻: 778-780 ページ: 587-590
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.587
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Comparison of thermal oxidation and plasma oxidation of 4H-SiC (0001) for surface flattening2014
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Lett.
  
  巻: 104 号: 10
- DOI
  10.1063/1.4868487
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Preliminary study on highly efficient polishing of 4H-SiC by utilization of anodic oxidation2014
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, K. Hosoya, Y. Imanishi, H. Deng, K. Endo
- 雑誌名
  
  Adv. Mater. Res.
  
  巻: 1017 ページ: 509-514
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/amr.1017.509
- 査読あり / 謝辞記載あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[雑誌論文] Open-air type plasma chemical vaporization machining by applying pulse-width modulation control2014
- 著者名/発表者名
  Y. Takeda, Y. Hata, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  J. Phys. D: Appl. Phys.
  
  巻: 47 号: 11 ページ: 115503-115503
- DOI
  10.1088/0022-3727/47/11/115503
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] Atomic-scale planarization of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing2013
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. Lett.
  
  巻: 103 号: 11 ページ: 111603-111603
- DOI
  10.1063/1.4821068
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[雑誌論文] One-dimensional neutron focusing with large beam divergence by 400mm-long elliptical supermirror2012
- 著者名/発表者名
  Nagano M, Yamaga F, Yamazaki D, Maruyama R, Hayashida H, Soyama K, Yamamura K
- 雑誌名
  
  J Phys Conf Series
  
  巻: 340
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22604008
[雑誌論文] Effect of Si interlayers on the magnetic and mechanical properties of Fe/Ge neutron polarizing multilayer mirrors2012
- 著者名/発表者名
  Maruyama R, Yamazaki D, Okayasu S, Takeda M, Zettsu N, Nagano M, Yamamura K, Hayashida H, Soyama K
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys.
  
  巻: 111 ページ: 63904-63904
- NAID
  130007036462
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22604008
[雑誌論文] Adhesion strength of electroless copper plated layer on fluoropolymer surface modified by medium pressure plasma2012
- 著者名/発表者名
  K. Ooka、Y. Yamamoto、Y. Hara、N. Zettsu, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials
  
  巻: 523-524 ページ: 262-266
- DOI
  10.4028/www.scientific.net/kem.523-524.262
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[雑誌論文] Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressure polishing2011
- 著者名/発表者名
  M.Nagano, F.Yamaga, N.Zettsu, D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama, K.Yamamura
- 雑誌名
  
  Nucl.Instr.and Meth.A
  
  巻: 634 ページ: 112-116
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] A Spheroidal Supermirror2011
- 著者名/発表者名
  K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Proceedings of Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering
  
  ページ: 446-446
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressure polishing2011
- 著者名/発表者名
  M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Nucl. Instr. and Meth. A
  
  巻: 634 ページ: 112-116
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressurepolishing2011
- 著者名/発表者名
  Nagano M, Yamaga F, Zettsu N, Yamazaki D, Maruyama R, Soyama K, Yamamura K
- 雑誌名
  
  Nucl Instrum Meth A
  
  巻: 634
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22604008
[雑誌論文] One-dimensional sub-10-nm hard X-ray focusing using laterally graded multilayer mirror2011
- 著者名/発表者名
  H.Mimura, S.Handa, T.Kimura, H.Yumoto, D.Yamakawa, H.Yokoyama, S.Matsuyama, K.Inagaki, K.Yamamura, Y.Sano, K.Tamasaku, Y.Nishino, M.Yabashi,T.Ishikawa, K.Yamauchi
- 雑誌名
  
  Nucl.Instrum.Meth.A 616
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18002009
[雑誌論文] High-reflectivity(m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition2010
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, M. Nagano, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama
- 雑誌名
  
  Nucl. Instr. and Meth. A
  
  巻: 616 ページ: 193-196
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces2010
- 著者名/発表者名
  D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, M. Nagano, F. Yamaga, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  J. Phys : Conf. Series
  
  巻: 251 ページ: 12076-12076
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] High-reflectivity (m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter de position2010
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura, M.Nagano, N.Zettsu, D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama
- 雑誌名
  
  Nucl.Instr.and Meth.A
  
  巻: 616 ページ: 193-196
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] Fabrication of Damage-free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010
- 著者名/発表者名
  Mao Hosoda, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Shoichi Shimada, Kazuo Taniguchi, Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials 447-448
  
  ページ: 213-217
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Effect of Substrate Heating in Thickness Correction of Quartz Crystal Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010
- 著者名/発表者名
  Masaki Ueda, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials 447-448
  
  ページ: 218-222
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces2010
- 著者名/発表者名
  D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama, M.Nagano, F.Yamaga, K.Yamamura
- 雑誌名
  
  J.Phys : Conf.Series
  
  巻: 251 ページ: 12076-12076
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces2010
- 著者名/発表者名
  Yamazaki D, Maruyama R, Soyama K, Takai H, Nagano M, Yamamura K
- 雑誌名
  
  J Phys Conf Series
  
  巻: 251 ページ: 12076-12076
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22604008
[雑誌論文] High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing2010
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu
- 雑誌名
  
  Advanced Materials Research 126-128
  
  ページ: 423-428
- NAID
  10029507410
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Breaking the 10 nm barrier in hard-X-ray focusing2010
- 著者名/発表者名
  H.Mimura, S.Handa, T.Kimura, H.Yumoto, D.Yamakawa, H.Yokoyama, S.Matsuyama, K.Inagaki, K.Yamamura, Y.Sano, K.Tamasaku, Y.Nishino, M.Yabashi,T.Ishikawa, K.Yamauchi
- 雑誌名
  
  Nature Physics 6
  
  ページ: 122-125
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18002009
[雑誌論文] High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing2010
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  Advanced Materials Research
  
  巻: 126-128 ページ: 423-428
- NAID
  10029507410
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials
  
  巻: 407-408 ページ: 343-346
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching2009
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  IEEE Trans.Ultrason.Ferroelectr.Freq.Control
  
  巻: 56 ページ: 1128-1130
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching2009
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Masafumi Shibahara
- 雑誌名
  
  IEEE Trans.Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 56
  
  ページ: 1128-1130
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials 407-408
  
  ページ: 343-346
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials 407-408
  
  ページ: 343-346
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Figuring of Elliptical Neutron Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching2009
- 著者名/発表者名
  Mikinori Nagano, Hiroyuki Takai, Kazu ya Yamamura, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama
- 雑誌名
  
  Key Engineering Materials 407-408
  
  ページ: 376-379
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Figuring of plano-elliptical neutron focusing mirror by local wet etching2009
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, M. Nagano, H. Takai, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, S. Shimada
- 雑誌名
  
  OPTICS EXPRESS 6420 Vo.17, No.8
  
  ページ: 6414-6420
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[雑誌論文] Uniformalization of AT cut quartz crystal wafer thickness using open-air type plasma CVM process, Surf.2008
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Yuzo Mori
- 雑誌名
  
  Interface Anal. 40
  
  ページ: 1007-1010
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2008
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP 56
  
  ページ: 541-544
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Surface Functionalization of PTFE Sheet through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach2008
- 著者名/発表者名
  N. Zettsu, H. Ito, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  Surface Coating Technology 202
  
  ページ: 5284-5288
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[雑誌論文] Figuring of elliptical hard X-ray focusing mirror using 1-dimensional numerically controlled local wet etching2008
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  Surf. Interface Anal. 40
  
  ページ: 1014-1018
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2008
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, S. Shimada, Y. Mori
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP 57
  
  ページ: 567-570
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Figuring of elliptical hard X-ray focusing mirror using 1-dimensional numerically controlled local wet etching2008
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Hiroyuki Takai
- 雑誌名
  
  Surf. Interface Anal. 40
  
  ページ: 1014-1018
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Uniformalization of AT cut quartz crystal wafer thickness using open-air type plasma CVM process2008
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, et al.
- 雑誌名
  
  Surf. Interface Anal. 40
  
  ページ: 1007-1010
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[雑誌論文] Plasma-chemical surface functionalization of flexible substrates at atmospheric pressure2008
- 著者名/発表者名
  N. Zettsu, H. Ito, K. Yamamura
- 雑誌名
  
  This Solid Films 516
  
  ページ: 6683-6687
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[雑誌論文] Development of numeric ally controlled local wet etching2007
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Science and Technology of Advanced Materials 8
  
  ページ: 158-161
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Fabrication of Ultra Precision Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP 56
  
  ページ: 541-544
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Fabrication of Ultra Precisi on Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Annals of the CIRP 56
  
  ページ: 541-544
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Efficient focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror2007
- 著者名/発表者名
  H.Mimura, H.Yumoto, S.Matsuyama, Y.Sano, K.Yamamura, Y.Mori, M.Yabashi, Y.Nishino, K.Tamasaku, T.Ishikawa, K.Yamauchi
- 雑誌名
  
  Appl.Phys.Lett. vol.90
  
  ページ: 51903-51903
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18002009
[雑誌論文] Development of numerically controlled local wet etching2007
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura
- 雑誌名
  
  Science and Technology of Advanced Materials 8
  
  ページ: 158-161
- NAID
  130004658449
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics2006
- 著者名/発表者名
  Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
- 雑誌名
  
  SR12006, Proc.of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] A New Designed Ultra-high Precision Profiler - Study on Slope Error Measurement of a Mandrel for Wolter type-I mirror Fabrication -2006
- 著者名/発表者名
  Yasuo.HIGASHI^<*a>.Yuichi.TAKAIE^b, Katsuyoshi.ENDO^b, Tatsuya.KUME^a, Kazuhiro.ENAMI^a, Kazuto.YAMAUCHI^c, Kazuya.YAMAMURA^c, Toshihisa.SANO^c, Kenji.UENO^a, Yuzo.MORI^c
- 雑誌名
  
  Proc.Of the 8^<th> International Conference on X-ray Microscopy ; 26-30, July, at Egret Himeji 2006.6月発行(In printing)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics -Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-2006
- 著者名/発表者名
  Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenii Ueno, Yuzo mori
- 雑誌名
  
  SR12006, Proc. of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA (In printing)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics2006
- 著者名/発表者名
  Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenii Ueno, Yuzo mori
- 雑誌名
  
  SR12006, Proc. of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA (In printing)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] A New Designed Ultra-high Precision Profiler2006
- 著者名/発表者名
  Y.HIGASHI^a, Y.TAKAIE^b, K.ENDO^b, T.KUME^a, K.ENAMI^a, K.YAMAUCHI^c, K.YAMAMURA^c, H.SANO^c, K.UENO^a, Y.MORI^c
- 雑誌名
  
  Proc of SPIE : Advances in Mirror Technology for X-ray, EUV Lithography, laser, and Other Applications, 3 August 2005, Sandiego, CA, USA Vol.# 5921(In printing)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-2006
- 著者名/発表者名
  Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
- 雑誌名
  
  SR12006, Proc.of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化-2005
- 著者名/発表者名
  柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 71・5
  
  ページ: 655-659
- NAID
  10015529822
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15686007
[雑誌論文] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-加工装置の開発と基本的加工特性の取得-2005
- 著者名/発表者名
  山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 71・4
  
  ページ: 455-459
- NAID
  110001824145
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15686007
[雑誌論文] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-円筒形回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化-2005
- 著者名/発表者名
  柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 (in press)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15686007
[雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler2005
- 著者名/発表者名
  Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
- 雑誌名
  
  SPIE Annual Meeting (Opto photonics) Proceedings, San Diego, USA (in printing)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler-Study on Mandrel measurement-2005
- 著者名/発表者名
  Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
- 雑誌名
  
  XRM2005 International Meeting Proceedings Himeji, Japan (in printing)
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler - Study on Mandrel measurement-2005
- 著者名/発表者名
  Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
- 雑誌名
  
  XRM2005 International Meeting Proceedings Hirneji, Japan, in printing (2005) (In printing)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] A new Designed High-Precision Profiler2005
- 著者名/発表者名
  Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
- 雑誌名
  
  SPIE Annual Meeting (Opto photonics) Proceedings, San Diego, USA, in printing (2005) (In printing)
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16360073
[雑誌論文] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-加工装置の開発と基本的加工特性の取得-2005
- 著者名/発表者名
  山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山剛, 遠藤勝義, 森勇藏
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 (in press)
- NAID
  110001824145
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15686007
[雑誌論文] Improvement of thickness distribution of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining2005
- 著者名/発表者名
  Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori
- 雑誌名
  
  Rev.Sci.Instrum. 76・9
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15686007
[雑誌論文] Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly (4-vinylpyridine)-grafted-poly (tetrafluoroethylene) surface and their autocatalytic properties
- 著者名/発表者名
  H.Akiyama, N.Zettsu^*, K.Yamamura,
- 雑誌名
  
  Thin Solid Films (ASAP)(印刷中)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[雑誌論文] Surface copperization of poly (4-vinylpyrdine)-grafted-poly (tetrafluoroethylene) surface
- 著者名/発表者名
  H.Akiyama, N.Zettsu^*, K.Yamamura
- 雑誌名
  
  Trans.Mater.Res.Soc.Jpn (accepted)(印刷中)
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[産業財産権] 表面処理方法及び装置2018
- 発明者名
  大下貴也、上原剛、青山哲平、山村和也、大久保雄司、小玉欣典
- 権利者名
  大下貴也、上原剛、青山哲平、山村和也、大久保雄司、小玉欣典
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2018-019880
- 出願年月日
  2018
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[産業財産権] 積層体及びその製造方法2017
- 発明者名
  大久保雄司、山村和也、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
- 権利者名
  大久保雄司、山村和也、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2017-108427
- 出願年月日
  2017
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[産業財産権] フッ素系樹脂フィルムの表面処理装置及び方法2016
- 発明者名
  中野良憲, 上原剛, 山村和也, 大久保雄司
- 権利者名
  中野良憲, 上原剛, 山村和也, 大久保雄司
- 産業財産権種類
  特許
- 出願年月日
  2016-11-04
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[産業財産権] フッ素系樹脂フィルムの表面処理装置及び方法2016
- 発明者名
  中野良憲、上原剛、山村和也、大久保雄司
- 権利者名
  中野良憲、上原剛、山村和也、大久保雄司
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2016-007202
- 出願年月日
  2016-01-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[産業財産権] 金属含有膜付き誘電体基材の製造方法2015
- 発明者名
  大久保雄司、山村和也、小玉欣典、澤田公平、久保田和宏
- 権利者名
  大久保雄司、山村和也、小玉欣典、澤田公平、久保田和宏
- 産業財産権種類
  特許
- 産業財産権番号
  2015-169648
- 出願年月日
  2015-08-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[産業財産権] 表面改質成型体の製造方法、及び該表面改質成型体を用いた複合体の製造方法2015
- 発明者名
  山村和也、大久保雄司、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
- 権利者名
  山村和也、大久保雄司、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
- 産業財産権種類
  特許
- 出願年月日
  2015-09-04
- 外国
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[産業財産権] 誘電体基材表面の触媒フリー金属化方法および金属膜付き誘電体基材2008
- 発明者名
  是津信行山村和也
- 権利者名
  大阪大学
- 産業財産権番号
  2008-335528
- 出願年月日
  2008-12-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[産業財産権] 表面加工装置の平板状被加工物の垂直保持装置および表面加工装置2007
- 発明者名
  山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
- 権利者名
  東ソー(株)
- 産業財産権番号
  2007-312538
- 出願年月日
  2007-12-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[産業財産権] 表面加工方法および表面加工装置2007
- 発明者名
  山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
- 権利者名
  東ソー(株)
- 産業財産権番号
  2007-157999
- 出願年月日
  2007-06-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[産業財産権] 表面加工方法および表面加工装置2007
- 発明者名
  山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
- 権利者名
  国立大学法人大阪大学東ソー(株)
- 産業財産権番号
  2007-184393
- 出願年月日
  2007-07-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[産業財産権] 加工ヘッドおよびこの加工ヘッドを用いた加工方法2007
- 発明者名
  山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
- 権利者名
  東ソー(株)
- 産業財産権番号
  2007-157998
- 出願年月日
  2007-06-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[産業財産権] 表面加工方法および表面加工装置2007
- 発明者名
  山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
- 権利者名
  東ソー(株)
- 産業財産権番号
  2007-158000
- 出願年月日
  2007-06-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第25報）－RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価－2022
- 著者名/発表者名
  陶通，孫栄硯，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2022年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Relative motion improvement and parameter optimization in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers2022
- 著者名/発表者名
  H. Gu, Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 16th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP2022)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K18677
[学会発表] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工（第3報）－研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性に関する検討－2022
- 著者名/発表者名
  杉本健太郎，劉念，吉鷹直也，川合健太郎，有馬健太，山田英明，赤羽優子，山村和也
- 学会等名
  2022年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第12報）: エッチレートにおける投入電力とギャップ長の相関2022
- 著者名/発表者名
  大阪大学工学研究科須場健太, 山本有悟, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構丸山龍治, 曽山和彦, 総合科学研究機構中性子科学センター林田洋寿
- 学会等名
  精密工学会秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H04457
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第24報）－CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化－2022
- 著者名/発表者名
  孫栄硯，陶通，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2022年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 難加工材料に対するスラリーレス超音波援用電気化学機械研磨法の開発（第3報）－4インチSiCウエハ研磨の検討－2022
- 著者名/発表者名
  谷海洋，楊旭，楊暁喆，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2022年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K18677
[学会発表] SiCウエハの超音波援用スラリーレス電気化学機械研磨に関する研究－研磨パラメータと砥石形状の最適化－2021
- 著者名/発表者名
  谷海洋，楊旭，楊暁喆，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2021年度砥粒加工学会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K18677
[学会発表] SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨法における砥石/ウエハ相対運動の改善2021
- 著者名/発表者名
  谷海洋，楊旭，楊暁喆，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K18677
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第11報）: 精密加工のためのマンドレル高精度形状測定2021
- 著者名/発表者名
  大阪大学工学研究科山本有悟, 須場健太, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構丸山龍治, 曽山和彦, 総合科学研究機構中性子科学センター林田洋寿
- 学会等名
  精密工学会秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H04457
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第22報）－フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制－2021
- 著者名/発表者名
  孫栄硯，陶通，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨における研磨パラメータの最適化2021
- 著者名/発表者名
  谷海洋，楊旭，楊暁喆，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  精密工学会2021年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K18677
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第23報）－AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関－2021
- 著者名/発表者名
  陶通，孫栄硯，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Consideration on suppression of grinding stone components adhesion in dry polishing with the aid of surface modification by fluorine-based plasma2021
- 著者名/発表者名
  R. Sun, T. Tao, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2021)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Optimization of polishing parameters to make the polishing amount distribution uniform in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers2021
- 著者名/発表者名
  H. Gu, Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2021)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K18677
[学会発表] プラズマを援用した大面積モザイク単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー研磨2021
- 著者名/発表者名
  吉鷹直也，劉念，杉本健太郎，菅原宏輝，山田英明，赤羽優子，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  第３５回ダイヤモンドシンポジウム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 減圧プラズマフッ化における焼結AlN基板のフッ化レートの評価2021
- 著者名/発表者名
  孫栄硯，陶通，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  精密工学会2021年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] ビトリファイドボンド砥石とフッ素系プラズマを用いたドレスフリー研磨法の開発2021
- 著者名/発表者名
  孫栄硯，陶通，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2021年度砥粒加工学会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 中性子集光用高精度 Wolter ミラーマンドレルの作製（第 10 報）: プラズマCVM加工後の表面粗さの改善2021
- 著者名/発表者名
  大阪大学工学研究科山本有悟，川合健太郎，有馬健太，山村和也，国立研究開発法人日本原子力研究開発機構丸山龍治，曽山和彦総合科学研究機構中性子科学センター林田洋寿
- 学会等名
  精密工学会大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H04457
[学会発表] 窒化アルミニウムセラミックス材のプラズマ援用研磨に関する研究－異なる粒径のビトリファイドボンドダイヤモンド砥石を用いたAlN基板の研磨特性－2021
- 著者名/発表者名
  陶通，孫栄硯，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2021年度砥粒加工学会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 減圧プラズマ酸化における反応焼結SiCの酸化特性2021
- 著者名/発表者名
  陶通，孫栄硯，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  精密工学会2021年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究（第1報）－研磨レートおよび表面性状の研磨プレート材質依存性－2021
- 著者名/発表者名
  杉本健太郎，劉念，吉鷹直也，川合健太郎，有馬健太，山田英明，赤羽優子，山村和也
- 学会等名
  2021年度砥粒加工学会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第9報）: プラズマCVM加工後の形状および表面粗さの評価2020
- 著者名/発表者名
  大阪大学工学研究科山本有悟，荒川翔平，川合健太郎，有馬健太，山村和也，国立研究開発法人日本原子力研究開発機構丸山龍治，曽山和彦，総合科学研究機構中性子科学センター林田洋寿
- 学会等名
  精密工学会大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20H04457
[学会発表] 電気化学機械研磨による SiC の高能率スラリーレス加工法の開発(第4報) －4H-SiC（0001）スライス面のスラリーレス電気化学機械研磨－2020
- 著者名/発表者名
  楊旭、楊暁喆、川合健太郎、有馬健太、山村和也
- 学会等名
  2020年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] 電気化学機械研磨による SiC の高能率スラリーレス加工法の開発(第5報) －表面粗さを低減させる電位条件の基礎検討－2020
- 著者名/発表者名
  楊旭、楊暁喆、川合健太郎、有馬健太、山村和也
- 学会等名
  2020年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] プラズマを援用したダイヤモンド基板の高精度加工（第1報）－誘導結合プラズマを用いた単結晶ダイヤモンドの加工特性－2019
- 著者名/発表者名
  鈴木蓮、劉念、劉智志、川合健太郎、有馬健太、山村和也
- 学会等名
  2019年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Development of high-efficient and damage-free ultrasonic assisted electrochemical mechanical polishing for difficult-to-machine materials -Effects of mass concentration of electrolyte (NaCl) on the anode oxidation rate and the promotion performance of ultrasonic vibration-2019
- 著者名/発表者名
  X. Yang, X. Yang, K. Kawqai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  2019年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] Comparison of two-step and simultaneous slurryless electrochemical mechanical polishing for obtaining smooth 4H-SiC (0001) surface2019
- 著者名/発表者名
  Xu. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 15th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] Preliminary study on slurryless electrochemical mechanical polishing of sliced 4H-SiC (0001) surface2019
- 著者名/発表者名
  Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 8th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] Slurryless electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surfaces2019
- 著者名/発表者名
  Xu. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究（第3報）－反応焼結SiC材の加工における反応生成堆積物の影響－2019
- 著者名/発表者名
  孫栄硯、川合健太郎、有馬健太、大久保雄司、山村和也
- 学会等名
  精密工学会2019年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 誘導結合プラズマを用いた単結晶ダイヤモンドの加工特性2019
- 著者名/発表者名
  鈴木蓮、劉念、川合健太郎、有馬健太、山村和也
- 学会等名
  精密工学会2019年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Optimization of polishing parameters for obtaining smooth 4H-SiC (0001) surface by slurryless electrochemical mechanical polishing2019
- 著者名/発表者名
  Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 22nd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2019)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] 電気化学機械研磨による SiC の高能率スラリーレス加工法の開発(第 3 報) -酸化レートと研磨レートとのバランスが表面粗さに与える影響の調査-2019
- 著者名/発表者名
  楊旭，楊暁喆，川合健太郎，有馬健太，山村和也
- 学会等名
  2019年度精密工学会春季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] Stabilization of argon-based atmospheric pressure CF4 plasma by adding ethanol for precision thickness correction of quartz crystal wafer2019
- 著者名/発表者名
  R. Sun, K. Watanabe, S. Miyazaki, T. Fukano, M. Kitada, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 15th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Aspherical Shape Figuring on Reaction-sintered Silicon Carbide by Plasma Chemical Vaporization Machining2019
- 著者名/発表者名
  R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 8th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第18報）－フッ素系プラズマの照射によるAlN基板の表面改質効果の評価－2019
- 著者名/発表者名
  孫栄硯、川合健太郎、有馬健太、山村和也
- 学会等名
  2019年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Surface modification of AlN by irradiation of fluorine-based atmospheric pressure plasma for damage-free polishing2019
- 著者名/発表者名
  R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 22nd International Symposium on Advances in Abrasive Technology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第5報）－ PCVM加工における加工変質層が及ぼす加工特性への影響の評価－2018
- 著者名/発表者名
  小林勇輝，荒川翔平，遠藤勝義，山村和也，山崎大，丸山龍治，曽山和彦，林田洋寿
- 学会等名
  2017年度精密工学会秋季大会(大阪大学）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料のダメージフリー加工2018
- 著者名/発表者名
  山村和也
- 学会等名
  平成30年度砥粒の日企画オープンセミナー「超精密加工の複合化」
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 反応性プラズマを援用したセラミックス材料のダメージフリー形状創成・仕上げ加工技術の開発2018
- 著者名/発表者名
  山村和也
- 学会等名
  粉体粉末冶金協会平成30年度春季大会（第121回講演大会）[
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Application of Plasma Chemical Vaporization Machining for Figuring of Reaction-sintered Silicon Carbide2018
- 著者名/発表者名
  R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  18th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Plasma nanoManufacturing for ultraprecise shape creation and damage-free finishing2018
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura
- 学会等名
  International Symposium on Extreme Optical Manufacturing and Laser-Induced Damage in Optics
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 数値制御プラズマCVM加工による中性子顕微鏡用高精度Wolterミラーマンドレルの作製2018
- 著者名/発表者名
  荒川翔平、小林勇輝、遠藤勝義、山村和也、山崎大、丸山龍治、曽山和彦、林田洋寿
- 学会等名
  精密工学会　2018年度春季大会（中央大学）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] プラズマCVMによる水晶ウエハの加工に関する研究－エタノール添加によるCF4含有大気圧Arプラズマの安定化－2018
- 著者名/発表者名
  孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 渡辺啓一郎, 宮崎史朗, 深野徹, 北田勝信
- 学会等名
  精密工学会2018年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 固定砥粒を用いた4H-SiC (0001)表面の電気化学機械研磨2018
- 著者名/発表者名
  楊旭, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2018年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] Damage-free figuring of reaction-sintered silicon carbide by plasma chemical vaporization machining2018
- 著者名/発表者名
  R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 14th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Adhesion property of heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE) －Realization in extremely high adhesion of PTFE and other types of material－2018
- 著者名/発表者名
  Y. Ohkubo, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  6th World Congress on Adhesion and Related Phenomena (WCARP-VI)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究（第2報）－反応燒結SiC材に対する非球面形状の創成－2018
- 著者名/発表者名
  孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 大久保雄司
- 学会等名
  2018年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] 電気化学機械研磨によるSiCの高能率ダメージフリー加工法の開発（第2報）－酸化レートの変化による表面粗さの改善－2018
- 著者名/発表者名
  楊旭, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也
- 学会等名
  2018年度精密工学会秋季大会学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] Plasma nanoManufacturing for ultraprecise shape creation and damage-free finishing2018
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura
- 学会等名
  International Symposium on Application of Intellectual Precision Engineering to Support Next Generation IC Manufacturing
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18H03754
[学会発表] Preliminary study on the electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface2018
- 著者名/発表者名
  X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
- 学会等名
  The 14th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] 深部磁気モーメント可視化の為のウォルタ－スーパーミラー中性子顕微鏡の開発2018
- 著者名/発表者名
  曽山和彦、林田洋寿、丸山龍治、山崎大、山村和也、後藤惟樹、小林勇輝
- 学会等名
  2017年度量子ビームサイエンスフェスタ
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] AFM observation of initial oxidation stage of 4H-SiC (0001) in electrochemical mechanical polishing2018
- 著者名/発表者名
  X. Yang, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  The 19th CIRP Conference on Electro Physical and Chemical Machining
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18K18810
[学会発表] 熱アシストプラズマ処理の接着性向上効果に対する表面温度の影響－プラズマ処理中のヒータ加熱によるフッ素樹脂の接着性向上効果－2017
- 著者名/発表者名
  中川哲哉、大久保雄司、青木智紀、小玉欣典、遠藤勝義、山村和也
- 学会等名
  精密工学会 2017年度秋季大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] Effect of O2 or H2 gas addition to Ar gas on surface modification of fluoropolymer using atmospheric pressure plasma －Application for highly adhesive Ag wiring pattern on plasma-treated fluoropolymer－2017
- 著者名/発表者名
  Y. Kodama, Y. Ohkubo, T. Oshita, T. Aoki, T. nakagawa, K. Endo, and K. Yamamura
- 学会等名
  Advanced Materials and Nanotechnology
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 深部磁気モーメント可視化の為のウォルタ－スーパーミラー中性子顕微鏡の開発2017
- 著者名/発表者名
  曽山和彦, 林田洋寿, 丸山龍治, 山崎大, 山村和也, 後藤惟樹, 小林勇輝
- 学会等名
  2016年度量子ビームサイエンスフェスタ
- 発表場所
  つくば国際会議場（エポカルつくば）（茨城県つくば市）
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] 大気開放型ガス加熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質2017
- 著者名/発表者名
  小玉欣典, 大久保雄司, 青木智紀, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 大下貴也, 山村和也
- 学会等名
  表面技術協会第135回講演大会
- 発表場所
  東洋大学川越キャンパス
- 年月日
  2017-03-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 熱アシストプラズマ処理したポリテトラフルオロエチレンとゴムとの接着性に及ぼすゴム配合剤の影響2017
- 著者名/発表者名
  大久保雄司、柴原正文、長谷朝博、本田幸司、遠藤勝義、山村和也
- 学会等名
  日本接着学会第55回年次大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 熱アシストプラズマ処理の接着性向上効果に対する電極間距離の影響－凹凸を含む三次元構造体への応用に向けた検討－2017
- 著者名/発表者名
  中川哲哉、大久保雄司、青木智紀、小玉欣典、遠藤勝義、山村和也
- 学会等名
  精密工学会関西支部 2017年度関西地方定期学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第4報）－石英ガラス製回転体基盤に対するプラズマジェット加工特性の評価－2017
- 著者名/発表者名
  小林勇輝, 後藤惟樹, 遠藤勝義, 山村和也, 山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿
- 学会等名
  2017年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  慶應大学矢上キャンパス（神奈川県横浜市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] 微量ガス添加が大気圧Arプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質効果に及ぼす影響－フッ素樹脂とAgインク膜の密着性向上への応用－2017
- 著者名/発表者名
  小玉欣典、大久保雄司、青木智紀、中川哲哉、遠藤勝義、大下貴也、山村和也
- 学会等名
  表面技術協会第136回講演大会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] フッ素樹脂の接着性を向上する熱アシストプラズマ処理の実用化に向けた検討2017
- 著者名/発表者名
  中川哲哉、大久保雄司、小玉欣典、青木智紀、柴原正文、長谷朝博、本田幸司、遠藤勝義、山村和也
- 学会等名
  日本接着学会第13回若手の会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 未来のエレクトロニクス社会を実現するプロセス技術への挑戦2017
- 著者名/発表者名
  上原剛、中野良憲、大下貴也、小玉欣典、大久保雄司、山村和也
- 学会等名
  PLASMA2017シンポジウム
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] プラズマ処理時のプロセスガスがPTFEの密着性に及ぼす影響2017
- 著者名/発表者名
  中川哲哉, 大久保雄司, 青木智紀, 小玉欣典, 原田朋実, 遠藤勝義, 大下貴也, 山村和也
- 学会等名
  日本機械学会関西学生会平成28年度学生員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  大阪大学吹田キャンパス
- 年月日
  2017-03-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] プラズマを援用した砥粒を用いない単結晶ダイヤモンドウエハの高能率研磨2017
- 著者名/発表者名
  江守健, 道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
- 学会等名
  日本機械学会関西学生会平成28年度学生員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  大阪大学吹田キャンパス（大阪府・吹田市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨によるワイドギャップ半導体基板のダメージフリー仕上げ2017
- 著者名/発表者名
  辻内健太郎, 蔭山千華, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  日本機械学会関西学生会平成28年度学生員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  大阪大学吹田キャンパス（大阪府・吹田市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 中性子集束用高精度Wolterミラーマンドレルの作製― 集束性能に影響を及ぼす形状誤差の光線追跡シミュレーションによる評価 ―2016
- 著者名/発表者名
  後藤惟樹, 小林勇輝, 遠勝勝義, 山村和也, 山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿
- 学会等名
  精密工学会　2016年度春季大会
- 発表場所
  東京理科大学（千葉県野田市）
- 年月日
  2016-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] 熱アシストプラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンシート上への無粗化高密着性銅ペースト膜の作製2016
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 小玉欣典, 久保田和宏, 澤田公平, 石原健人, 青木智紀, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  表面技術協会第133回講演大会
- 発表場所
  早稲田大学西早稲田キャンパス（東京都・新宿区）
- 年月日
  2016-03-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] Planarization of CVD grown single crystal diamond wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining2016
- 著者名/発表者名
  H. Dojo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura
- 学会等名
  16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Nottingham, UK
- 年月日
  2016-05-30
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Investigation of determining factor of etching rate of single crystal diamond in plasma chemical vaporization machining2016
- 著者名/発表者名
  H. Dojo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura
- 学会等名
  16th International Conference on Precision Engineering (ICPE2016)
- 発表場所
  アクトシティ浜松（静岡県・浜松市）
- 年月日
  2016-11-14
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第8報）－エッチングレートの基板温度依存性の調査－2016
- 著者名/発表者名
  道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
- 学会等名
  2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  茨城大学水戸キャンパス（茨城県・水戸市）
- 年月日
  2016-09-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第16報）－砥石の表面性状とGaNの研磨レートの相関－2016
- 著者名/発表者名
  蔭山千華, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2016年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東京理科大学野田キャンパス（千葉県野田市）
- 年月日
  2016-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨によるGaNの高能率ドライ仕上げ加工に関する研究－プラズマ照射における初期酸化レート算出の基礎検討－2016
- 著者名/発表者名
  蔭山千華, 辻内健太郎, Deng Hui, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2016年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  島津製作所三条事業所（京都府・京都市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Surface modification of polytetrafluoroethylene (PTFE) by heat-assisted atmospheric pressure plasma treatment for improving adhesion between PTFE and isobutylene-isoprene rubber (IIR)2016
- 著者名/発表者名
  Y. Ohkubo, K. Ishihara, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, T. Aoki, Y. Kodama, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  15th International Conference on Plasma Surface Engineering（PSE2016）
- 発表場所
  Garmisch-Partenkirchen, Germany
- 年月日
  2016-09-13
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製-円筒石英ガラス基盤に対するプラズマジェット加工特性の評価-2016
- 著者名/発表者名
  小林勇輝, 後藤惟樹, 遠勝勝義, 山村和也, 山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿
- 学会等名
  機械学会関西学生会卒業研究発表講演会
- 発表場所
  大阪電気通信大学（大阪府寝屋川市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第７報）-プラズマエッチング反応領域の制限によるエッチピット成長の抑制-2016
- 著者名/発表者名
  道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
- 学会等名
  2016年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東京理科大学野田キャンパス（千葉県野田市）
- 年月日
  2016-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 大気圧プラズマ処理を用いたフッ素樹脂の表面改質におけるプロセスガス加熱の効果2016
- 著者名/発表者名
  小玉欣典, 大久保雄司, 青木智紀, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 大下貴也, 山村和也
- 学会等名
  表面技術協会関西支部第18回関西表面技術フォーラム
- 発表場所
  甲南大学ポートアイランドキャンパス
- 年月日
  2016-11-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] フッ素樹脂の密着性に及ぼす熱アシストプラズマ処理の効果2016
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  日本接着学会関西支部第12回若手の会
- 発表場所
  関西大学千里山キャンパス
- 年月日
  2016-10-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] Precise correction of cylindrical shape by numerically controlled plasma chemical vaporization machining2016
- 著者名/発表者名
  Y. Goto, Y. Kobayashi, K. Endo, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura
- 学会等名
  16th International Conference on Precision Engineering (ICPE2016)
- 発表場所
  アクトシティ浜松（静岡県浜松市）
- 年月日
  2016-11-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] Highly-efficient pit-free and slurryless finishing of GaN by plasma-assisted polishing2016
- 著者名/発表者名
  C. Kageyama, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  16th International Conference on Precision Engineering (ICPE2016)
- 発表場所
  アクトシティ浜松（静岡県・浜松市）
- 年月日
  2016-11-14
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第3報）－石英ガラス基板のプラズマジェット加工における加工速度の基板温度依存性－2016
- 著者名/発表者名
  後藤惟樹, 小林勇輝, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也
- 学会等名
  2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  茨城大学水戸キャンパス（茨城県水戸市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] High-spatial Resolution Figuring by Pulse Width Modulation Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining2016
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, Y. Takeda, S. Sakaiya, D. Funato, K. Endo
- 学会等名
  18th CIRP Conference on Electro Physical and Chemical Machining (ISEM XVIII)
- 発表場所
  東京大学本郷キャンパス（東京都・文京区）
- 年月日
  2016-04-19
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製（第2報）－マイクロ波プラズマジェット加工における加工速度のCF4/O2組成依存性－2016
- 著者名/発表者名
  小林勇輝, 後藤惟樹, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也
- 学会等名
  2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  茨城大学水戸キャンパス（茨城県水戸市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] Highly-efficient slurryless finishing of GaN by plasma-assisted polishing using a resin bonded grinding stone2016
- 著者名/発表者名
  C. Kageyama, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Nottingham, UK
- 年月日
  2016-05-30
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 電気化学機械研磨による金型用SiC材の高能率・ダメージフリー研磨（第 1 報） -研磨中における電気化学測定の結果と得られた表面性状の相関-2015
- 著者名/発表者名
  今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2015年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東洋大学・白山キャンパス
- 年月日
  2015-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第15報）-ウエハ用研磨装置の試作とその性能評価-2015
- 著者名/発表者名
  蔭山千華, 門奈剛毅, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  東北大学川内北キャンパス（宮城県仙台市青葉区）
- 年月日
  2015-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨によるダイヤモンドウエハの研磨における砥石材質と研磨特性の相関2015
- 著者名/発表者名
  道上久也, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明
- 学会等名
  精密工学会2015年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  京都工芸繊維大学松ヶ崎キャンパス（京都府京都市左京区）
- 年月日
  2015-06-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Development of A Neutron Microscope using Wolter Supermirror2015
- 著者名/発表者名
  Kazuhiko Soyama, Dai Yamazaki, Ruji Maruyama, Hayashida Hayashida, Kazuya Yamamura, Yuki Goto, and Yuki Kobayashi
- 学会等名
  4th International Workshop on Neutron Delivery Systems 2015
- 発表場所
  ILL Grenoble, FRANCE
- 年月日
  2015-09-28
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03593
[学会発表] Planarization and Smoothing of CVD Grown Diamond Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Based Process2015
- 著者名/発表者名
  H. Dojo, T. Tabata, K. Endo, H. Yamada, A. Chayayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura
- 学会等名
  The 6th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Harbin, China
- 年月日
  2015-08-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] サファイア基板のプラズマ援用研磨における加工モデルの提唱とサファイア表面の水和化の検証2015
- 著者名/発表者名
  蔭山千華, Deng Hui, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2015年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  京都工芸繊維大学松ヶ崎キャンパス（京都府京都市左京区）
- 年月日
  2015-06-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第 12 報）-金型用CVD-SiCの研磨特性の評価-2015
- 著者名/発表者名
  鄧輝, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2015年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東洋大学・白山キャンパス
- 年月日
  2015-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] ポリテトラフルオロエチレンの密着性に及ぼすプラズマ処理中の加熱の影響　－ポリテトラフルオロエチレンと異種材料の強力接合－2015
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 石原健人, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  日本接着学会第11回若手の会
- 発表場所
  兵庫県立大学-姫路工学キャンパス（兵庫県姫路市）
- 年月日
  2015-11-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] Plasma-assisted polishing: Novel damage-free atomically flat finishing technique for wide gap semiconductor materials2015
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura
- 学会等名
  The 16th International Manufacturing Conference in China
- 発表場所
  Hangzhou, China
- 年月日
  2015-10-23
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 大気圧プラズマを用いたフッ素樹脂の表面改質　-大気圧プラズマ処理と熱アシスト大気圧プラズマ処理の比較-2015
- 著者名/発表者名
  石原健人、大久保雄司, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 柴原正文, 長谷朝博, 本田幸司, 山村和也
- 学会等名
  第17回関西表面技術フォーラム
- 発表場所
  甲南大学ポートアイランドキャンパス（兵庫県・神戸市）
- 年月日
  2015-11-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] Improvement of Form Accuracy in NC-PCVM by Compensation of Surface Temperature Change2015
- 著者名/発表者名
  S. Sakaiya, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  The 6th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Harbin, China
- 年月日
  2015-08-15
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface2015
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  65th CIRP General Assembly
- 発表場所
  Cape Town, South Africa
- 年月日
  2015-08-23
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の長寿命表面改質　-フッ素樹脂の高密着性メタライジング-2015
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 石原健人, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  第17回関西表面技術フォーラム
- 発表場所
  甲南大学ポートアイランドキャンパス（兵庫県・神戸市）
- 年月日
  2015-11-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第6報）-ラマン分光法を用いた表面構造の解析によるダイヤモンド除去モデルの提唱-2015
- 著者名/発表者名
  道上久也, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明
- 学会等名
  2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  東北大学川内北キャンパス（宮城県仙台市青葉区）
- 年月日
  2015-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 大気圧プラズマをベースとした単結晶CVDダイヤモンドウエハの平坦化・平滑化2015
- 著者名/発表者名
  道上久也, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明
- 学会等名
  精密工学会第22回学生会員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  東洋大学・白山キャンパス
- 年月日
  2015-03-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂と金属膜の強力接合2015
- 著者名/発表者名
  大久保雄司, 石原健人, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  表面技術協会第132回講演大会
- 発表場所
  信州大学長野キャンパス（長野県・長野市）
- 年月日
  2015-09-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15K05723
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第 13 報） -単結晶GaNの研磨における表面改質条件の最適化-2015
- 著者名/発表者名
  鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2015年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東洋大学・白山キャンパス
- 年月日
  2015-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Polishing characteristics of CVD-SiC in plasma-assisted polishing2015
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Leuven, Belgium
- 年月日
  2015-06-01
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化（第 5 報） -XPSとFTIR-ATR法を用いた表面終端構造の解析による平滑化モデルの提唱-2015
- 著者名/発表者名
  田畑雄壮, 道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
- 学会等名
  2015年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  東洋大学・白山キャンパス
- 年月日
  2015-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第14 報） -プラズマをベースとした金型用 CVDSiCの形状創成と表面仕上げに関する研究-2015
- 著者名/発表者名
  鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  東北大学川内北キャンパス（宮城県仙台市青葉区）
- 年月日
  2015-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] マイクロ波プラズマジェットの数値制御走査による単結晶 CVD ダイヤモンドウエハの平坦化2015
- 著者名/発表者名
  道上久也, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
- 学会等名
  日本機械学会関西学生会平成26年度学生員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  京都大学・桂キャンパス
- 年月日
  2015-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Study on removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing2015
- 著者名/発表者名
  C. Kageyama, K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  The 18th International Symposium on Advances in Abrasive Technology
- 発表場所
  Jeju, Korea
- 年月日
  2015-10-04
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨におけるサファイア基板の加工モデルの提唱とその検証2015
- 著者名/発表者名
  蔭山千華, 門奈剛毅, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  日本機械学会関西学生会平成26年度学生員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  京都大学・桂キャンパス
- 年月日
  2015-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] セリアスラリーを用いた研磨における化学作用と機械作用のバランスによる4H-SiCのステップ/テラス構造の制御2014
- 著者名/発表者名
  鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2014年度砥粒加工学会学術講演会
- 発表場所
  岩手大学
- 年月日
  2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 反応焼結SiC材の陽極酸化援用研磨法における加工状態の電気化学的モニタリングに関する検討2014
- 著者名/発表者名
  今西勇介, 下園直樹, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  電気加工学会全国大会
- 発表場所
  新潟大学
- 年月日
  2014-12-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] 大気圧雰囲気下で生成したArベースの水蒸気プラズマによる単結晶サファイア(0001)面の水和化2014
- 著者名/発表者名
  門奈剛毅, 蔭山千華, 鄧輝, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2014年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  近畿大学・東大阪キャンパス
- 年月日
  2014-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] プラズマ援用研磨による単結晶GaN基板の高能率研磨 -プラズマ照射により改質された表面状態の評価-2014
- 著者名/発表者名
  鄧　輝, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2014年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  近畿大学・東大阪キャンパス
- 年月日
  2014-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 陽極酸化援用研磨による4H-SiCの平滑化に関する研究－セリアスラリーを電解液とした場合の研磨特性－2014
- 著者名/発表者名
  細谷憲治, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2014年度砥粒加工学会学術講演会
- 発表場所
  岩手大学
- 年月日
  2014-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] 陽極酸化援用研磨による4H-SiCの平滑化に関する研究 ‐膜形成速度および膜除去速度の最適化－2014
- 著者名/発表者名
  細谷憲治, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  電気加工学会全国大会
- 発表場所
  新潟大学
- 年月日
  2014-12-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] 反応焼結SiC材の陽極酸化援用研磨における電極/研磨パッド複合ヘッドの開発2014
- 著者名/発表者名
  今西勇介, 下園直樹, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2014年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  近畿大学・東大阪キャンパス
- 年月日
  2014-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] プラズマ援用研磨法の開発（第11報）－サファイア基板のプラズマ援用研磨における加工メカニズムの調査－2014
- 著者名/発表者名
  門奈剛毅, 蔭山千華, 鄧輝, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也
- 学会等名
  2014年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  鳥取大学
- 年月日
  2014-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 大気圧プラズマ化学液相堆積法を用いたフッ素ポリマー表面における選択的銅メタライジングプロセスの開発 -インクジェット法を用いた銅配線のダイレクトパターニング-2013
- 著者名/発表者名
  佐藤悠、大岡健人、山村和也
- 学会等名
  日本機械学会関西学生会平成 24 年度学生員卒業研究発表講演会
- 発表場所
  大阪工業大学大宮キャンパス
- 年月日
  2013-03-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Adhesion strength of electroless copper plated layer on fluoropolymer surface modified by medium pressure plasma2012
- 著者名/発表者名
  K. Ooka、Y. Yamamoto、Y. Hara、N. Zettsu、K. Yamamura
- 学会等名
  The 14th International Conference on Precision Engineering(ICPE2012)
- 発表場所
  Awaji, Japan
- 年月日
  2012-11-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Effect of Atmospheric Plasma Treatment on Adhesion Strength of Electroless Copper Film/Fluorocarbon Polymer Interface2012
- 著者名/発表者名
  K. Ooka、Y. Hara、K. Yamamura
- 学会等名
  Fifth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
- 発表場所
  Osaka, JAPAN
- 年月日
  2012-10-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング-電解銅めっき膜の密着強度におけるプラズマ発生圧力依存性-2012
- 著者名/発表者名
  大岡健人、山本悠人、是津信行、山村和也
- 学会等名
  2012 年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
- 発表場所
  首都大学東京南大沢キャンパス
- 年月日
  2012-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Interfacial Analysis of Electroless Copper Thin Film on Fluorocarbon Polymer Fabricated by Plasma Irradiation with Graft Copolymerization2012
- 著者名/発表者名
  K. Ooka、Y. Hara、K. Yamamura
- 学会等名
  International Symposium on Dry Process(DPS2012)
- 発表場所
  Tokyo, Japan
- 年月日
  2012-11-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジングー電解銅めっき膜の密着強度におけるプラズマ発生圧力依存性－2012
- 著者名/発表者名
  大岡健人, 山本悠人, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  2012年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  首都大学東京　南大沢キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] プラズマを用いたフッ素ポリマー表面の高密着性銅メタライジングプロセスの開発 -無電解銅めっき膜の剥離界面の調査-2012
- 著者名/発表者名
  大岡健人、原安寛、山村和也
- 学会等名
  2012 年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
- 発表場所
  九州工業大学
- 年月日
  2012-09-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] 中圧プラズマを用いたフッ素ポリマー表面の銅メタライジング2012
- 著者名/発表者名
  大岡健人、原安寛、山村和也
- 学会等名
  精密工学会 2012 年度関西地方定期学術講演会講演論文集
- 発表場所
  立命館大学びわこ・くさつキャンパス
- 年月日
  2012-06-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Fabrication of Patterned Metal Layer on Poly(tetrafluoroethylene)Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach2011
- 著者名/発表者名
  K. Ooka, H. Akiyama, Y. Yamamoto, N. Zettsu, K. Yamamura
- 学会等名
  Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
- 発表場所
  大阪大学中之島センター
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] A Spheroidal Supermirror2011
- 著者名/発表者名
  K.Soyama, D.Yamazaki, R.Maruyama, H.Hayashida, M.Nagano, N.Zettsu, K.Yamamura
- 学会等名
  Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering
- 発表場所
  つくば国際会議場
- 年月日
  2011-11-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング2011
- 著者名/発表者名
  大岡健人、秋山弘貴、山本悠人、是津信行、山村和也
- 学会等名
  精密工学会 2011 年度関西地方定期学術講演会講演論文集
- 発表場所
  兵庫県立大学姫路書写キャンパス
- 年月日
  2011-06-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング-過酸化物ラジカルの存在形態と無電解銅めっき膜の密着強度の相関-2011
- 著者名/発表者名
  大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  2011年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  金沢大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Study on Adhesion Strength of Cu Plating Film Formed on PTFE Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition2011
- 著者名/発表者名
  Y. Hara、K. Oooka、H. Akiyama、N. Zettsu、K. Yamamura
- 学会等名
  Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
- 発表場所
  Osaka, JAPAN
- 年月日
  2011-11-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Study on Adhesion Strength of Cu Plating Film Formed on PTFE Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition2011
- 著者名/発表者名
  Y. Hara, K. Oooka, H. Akiyama, N. Zettsu, K. Yamamura
- 学会等名
  Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
- 発表場所
  大阪大学中之島センター
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Fabrication of Patterned Metal Layer on Poly(tetrafluoroethylene)Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach2011
- 著者名/発表者名
  K. Ooka、H. Akiyama、Y. Yamamoto、N. Zettsu、K. Yamamura
- 学会等名
  Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
- 発表場所
  Osaka, JAPAN
- 年月日
  2011-11-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工(第4報)-表面粗さの生成要因に関する検討-2011
- 著者名/発表者名
  細田真央, 永野幹典, 是津信行, 山村和也, 島田尚一, 谷口一雄
- 学会等名
  東日本大震災のため予稿集の発行のみ,2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 505-506
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] A Spheroidal Supermirror2011
- 著者名/発表者名
  K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura
- 学会等名
  Proceedings of Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering
- 発表場所
  Tsukuba
- 年月日
  2011-11-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング-過酸化物ラジカルの存在形態と無電解銅めっき膜の密着強度の相関-2011
- 著者名/発表者名
  大岡健人、秋山弘貴、山本悠人、是津信行、山村和也
- 学会等名
  2011 年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
- 発表場所
  金沢大学
- 年月日
  2011-09-21
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング2011
- 著者名/発表者名
  大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2011年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  兵庫県立大学姫路書写キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Finishing of reaction sintered SiC by plasma assisted polishing -Analysis of chemical and morphological structure of processed surface-2011
- 著者名/発表者名
  Hui Deng, Masaki Ueda, Sho Morinaga, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura
- 学会等名
  東日本大震災のため予稿集の発行のみ,2011 年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 287-288
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 大気圧プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面への高密着性金属配線パタン作製2011
- 著者名/発表者名
  大岡健人、秋山弘貴、山本悠人、原安寛、山村和也、是津信行
- 学会等名
  Plasma Conference (PLASMA2011)
- 発表場所
  石川県立音楽堂
- 年月日
  2011-11-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] 大気圧プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面への高密着性金属配線パターン作製2011
- 著者名/発表者名
  大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 原　安寛, 山村和也, 是津信行
- 学会等名
  Plasma Conference (PLASMA2011)
- 発表場所
  石川県立音楽堂
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23656105
[学会発表] Effect of Substrate Heating in Thickness Correction of Quartz Crystal Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010
- 著者名/発表者名
  上田真己, 柴原正文, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  International Conference on Precision Engineering (ICoPE2010&13th ICPE)
- 発表場所
  Singapore
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Surface Modification by Water Vapor Plasma for Damage-free Roughness Smoothing of 4H-SiC2010
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura
- 学会等名
  63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP)
- 発表場所
  Paris, France
- 年月日
  2010-10-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Plasma Assisted Polishing of Reaction-Sintered Silicon Carbide2010
- 著者名/発表者名
  山村和也, 上田真己, 瀧口達也, 是津信行
- 学会等名
  25th Annual Meeting of the ASPE 61-64
- 発表場所
  Atlanta, USA.
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Development of Atmospheric Pressure Plasma Assisted High efficient and High integrity Machining Process of Difficult to Machine Materials2010
- 著者名/発表者名
  山村和也, 瀧口達也, 是津信行
- 学会等名
  10th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology(299-302)
- 発表場所
  Delft, Netherland.
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] プラズマ援用ポリシングによる4H-SiC (0001)のスクラッチフリー加工2010
- 著者名/発表者名
  山村和也, 上田真己, 瀧口達也, 是津信行
- 学会等名
  2010年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集 107-108
- 発表場所
  岡山大学
- 年月日
  2010-08-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工(第3報)-形状創成加工後の表面粗さの低減-2010
- 著者名/発表者名
  細田真央, 植田和晃, 是津信行, 山村和也,島田尚一, 谷口一雄
- 学会等名
  2010年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 731-732
- 発表場所
  名古屋大学
- 年月日
  2010-09-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] プラズマ援用加工法の開発(第2報)-反応焼結SiC 材の加工特性-2010
- 著者名/発表者名
  上田真己, 森永翔, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  2010年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 339-340
- 発表場所
  名古屋大学
- 年月日
  2010-09-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] プラズマ援用加工法の開発(第1報)-基礎実験装置の試作と加工特性の評価-2010
- 著者名/発表者名
  上田真己, 瀧口達也, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2010年度関西地方定期学術講演会講演論文集 62-63
- 発表場所
  京都大学
- 年月日
  2010-05-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Plasma Assisted Polishing of Reaction-Sintered Silicon Carbide2010
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura
- 学会等名
  25th Annual Meeting of the ASPE
- 発表場所
  Atlanta, USA
- 年月日
  2010-11-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲結晶のダメージフリー加工2010
- 著者名/発表者名
  細田真央, 植田和晃, 是津信行, 山村和也, 島田尚一, 谷口一雄
- 学会等名
  精密工学会第17 回学生会員卒業研究発表講演会講演論文集 17-18
- 発表場所
  埼玉大学
- 年月日
  2010-03-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Surface Modification by Water Vapor Plasma for Damage-free Roughness Smoothing of 4H-SiC2010
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu
- 学会等名
  63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP) DTP-067
- 発表場所
  Paris, France
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工(第2報)2010
- 著者名/発表者名
  細田真央, 植田和晃, 是津信行, 山村和也, 島田尚一, 谷口一雄
- 学会等名
  精密工学会2010 年度関西地方定期学術講演会講演論文集 82-83
- 発表場所
  京都大学
- 年月日
  2010-05-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] A Neutron Focusing Device with Spheroidal Supermirrors (invited)2010
- 著者名/発表者名
  K.Soyama, D.Yamazaki, R.Maruyama, M.Nagano, K.Yamamura
- 学会等名
  International Workshop on Neutron Optics (NOP2010)
- 発表場所
  Grenoble(FRANCE)
- 年月日
  2010-03-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] Development of Atmospheric-Pressure-Plasma-Assisted High-efficient and High-integrity Machining Process of Difficult-to-Machine Materials2010
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura
- 学会等名
  10th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Delft, Netherland
- 年月日
  2010-06-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Plasma assisted finishing of difficult-to-machine materials2010
- 著者名/発表者名
  山村和也
- 学会等名
  2nd International Conference on Nanomanufacturing (nanoMan2010)
- 発表場所
  Tianjin, China
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Figuring of Damage-Free Cylindrical Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010
- 著者名/発表者名
  M.Hosoda, M.Nagano, N.Zettsu, S.Shimada, K.Taniguchi, K.Yamamura
- 学会等名
  Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology Nov.24-26, P-7, 72-73
- 発表場所
  Osaka, JAPAN
- 年月日
  2010-11-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing2010
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattoril, Nobuyuki Zettsu
- 学会等名
  The 13th International Symposium on Advances in Abrasive Technology
- 発表場所
  Taipei, Taiwan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Machining Properties of Reaction-Sintered Silicon Carbide by Plasma Assisted Machining2010
- 著者名/発表者名
  M.Ueda, S.Morinaga, H.Deng, N.Zettsu, K.Yamamura
- 学会等名
  Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology Nov.24-26, P-65, 188-189
- 発表場所
  Osaka, JAPAN
- 年月日
  2010-11-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハ厚さの修正加工-基板加熱による加工速度の向上-2010
- 著者名/発表者名
  上田真己, 永野幹典, 柴原正文, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  2010年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 307-308
- 発表場所
  埼玉大学
- 年月日
  2010-03-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Fabrication of Damage-free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010
- 著者名/発表者名
  Mao Hosoda, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Shoichi Shimada, Kazuo Taniguchi, Kazuya Yamamura
- 学会等名
  International Conference on Precision Engineering (ICoPE2010&13th ICPE)
- 発表場所
  Singapore
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009
- 著者名/発表者名
  山村和也, 森川徹也, 上田真己
- 学会等名
  9th International Conference on Progress of Machining Technology (9th ICPMT)
- 発表場所
  Kunming, China
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on P4VP-grafted-PTFE surface and their autocatalytic properties2009
- 著者名/発表者名
  H.Akiyama, K.Yamamura, N.Zettsu
- 学会等名
  第19回日本MRS学術シンポジウム
- 発表場所
  横浜市開港記念会館, 横浜市
- 年月日
  2009-12-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -加工精度に影響を及ぼす要因の考察-2009
- 著者名/発表者名
  上田真己, 森川徹也, 山村和也, 柴原正文
- 学会等名
  2009年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 259-260
- 発表場所
  中央大学
- 年月日
  2009-03-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 大気圧プラズマ化学液相堆積法をもちいた、触媒フリー無電解金属めっきプロセスの開発2009
- 著者名/発表者名
  秋山弘貴, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  表面技術協会第119回講演大会
- 発表場所
  山梨大学(山梨)
- 年月日
  2009-03-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly (4-vinylpyridine) -grafted-poly (tetrafuoroethylene) surface and their autocatalytic properties2009
- 著者名/発表者名
  H.Akiyama, K.Yamamura N.Zettsu
- 学会等名
  Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
- 発表場所
  Osaka Univ., Osaka
- 年月日
  2009-11-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach2009
- 著者名/発表者名
  H.Akiyama, N.Zettsu, K.Yamamura
- 学会等名
  22nd Symposium on Plasma Science for Materials
- 発表場所
  Tokyo Univ., Tokyo
- 年月日
  2009-06-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -加工精度向上のための2 分割加工による温度変化の低減-2009
- 著者名/発表者名
  上田真己, 森川徹也, 柴原正文, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2009 年度関西地方定期学術講演会講演論文集 57-58
- 発表場所
  千里ライフサイエンスセンター
- 年月日
  2009-05-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 数値制御ローカルウェットエッチング法による高精度光学素子の作製-中性子集光用楕円面ミラーの作製第IV報-2009
- 著者名/発表者名
  (阪大)永野幹典, 高井宏之, 是津信行, 山村和也, (JAEA)丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
- 学会等名
  2009年度精密工学会春季大会学術講演会
- 発表場所
  中央大学
- 年月日
  2009-03-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] High-precision finishing of AT-cut quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2009
- 著者名/発表者名
  上田真己, 永野幹典, 是津信行, 柴原正文, 山村和也
- 学会等名
  3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN2009) 1P2-1P6
- 発表場所
  Kitakyushu, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressureplasma liquid deposition approach2009
- 著者名/発表者名
  H. Akiyama, N. Zettsu, K. Yamamura
- 学会等名
  First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing-
- 発表場所
  大阪大学(大阪)
- 年月日
  2009-02-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] 大気圧プラズマを援用した難加工材料加工プロセスの開発(第1報)2009
- 著者名/発表者名
  瀧口達也, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  2009年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 163-164
- 発表場所
  神戸大学
- 年月日
  2009-09-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハ厚さの均一化 -分光学的手法によるパルス変調プラズマの解析と加工特性との相関の考察-2009
- 著者名/発表者名
  上田真己, 瀧口達也, 押鐘寧, 柴原正文, 山村和也
- 学会等名
  2009年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 159-160
- 発表場所
  神戸大学
- 年月日
  2009-09-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] High-precision correction of thickness distribution of AT-cut quartz crystal wafer by pulse-modulated atmospheric pressure plasma etching2009
- 著者名/発表者名
  上田真己, 永野幹典, 是津信行, 柴原正文, 山村和也
- 学会等名
  Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology PO.72, 178-179
- 発表場所
  Osaka, JAPAN
- 年月日
  2009-11-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressureplasma liquid deposition approach2009
- 著者名/発表者名
  H. Akiyama, H. Itoh, N. Zettsu, K. Yamamura
- 学会等名
  プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会(PSS-2009/SPP26)
- 発表場所
  名古屋大学(名古屋)
- 年月日
  2009-02-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] 回転楕円スーパーミラーによる中性子収束デバイスの開発2009
- 著者名/発表者名
  曽山和彦、丸山龍治、山崎大、永野幹典、山村和也
- 学会等名
  日本原子力学会「2009年秋の大会」
- 発表場所
  仙台(東北大学)
- 年月日
  2009-09-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 高精度非球面基板上の高性能中性子スーパーミラーによる中性子集光と斜入射小角散乱2009
- 著者名/発表者名
  (JAEA)山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, (阪大)高井宏之, 永野幹典, 山村和也
- 学会等名
  日本物理学会第64回年次大会
- 発表場所
  立教大学
- 年月日
  2009-03-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] Improvement of the Thickness Distribution of AT-cut Quartz Crystal Wafer by Pulse-Modulated Atmospheric Pressure Plasma2009
- 著者名/発表者名
  上田真己, 森川徹也, 永野幹典, 是津信行, 柴原正文, 山村和也
- 学会等名
  22ndSymposium on Plasma Science for Materials 64
- 発表場所
  Tokyo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009
- 著者名/発表者名
  K.Yamamura
- 学会等名
  9th International Conference on Progress of Machining Technology
- 発表場所
  Kunming, China
- 年月日
  2009-04-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 大気圧プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の高密着性極薄銅メタライジング2009
- 著者名/発表者名
  秋山弘貴, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  2009年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  神戸大学,神戸市
- 年月日
  2009-09-10
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20656026
[学会発表] 大気開放型プラズマCVM によるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -パルス変調プラズマの適用による厚み修正時間の短縮-2008
- 著者名/発表者名
  森川徹也, 上田真己, 山村和也, 柴原正文, 森勇藏
- 学会等名
  精密工学会2008 年度関西地方定期学術講演会講演論文集 53-54
- 発表場所
  堺市産業振興センター
- 年月日
  2008-07-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] Figuring of ultraprecision aspherical focusing mirror using numerically controlled local wet etching2008
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, H. Takai
- 学会等名
  10th Anniversary International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Zurich, Switzerland
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] 高臨界角スーパーミラーによる中性子集光デバイスの開発2008
- 著者名/発表者名
  曽山和彦,丸山龍治,山崎大,(阪大)山村和也
- 学会等名
  日本原子力学会「2008年秋の大会」
- 発表場所
  (木)高知工科大学
- 年月日
  2008-09-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 大気開放型プラズマCVM によるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -パルス変調プラズマを用いた修正加工の高精度化2008
- 著者名/発表者名
  森川徹也, 上田真己, 山村和也, 柴原正文, 森勇藏
- 学会等名
  2008年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 805-806
- 発表場所
  東北大学
- 年月日
  2008-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製-中性子集光用ミラーの作製第二報-2008
- 著者名/発表者名
  (阪大)高井宏之, 山村和也, (JAEA)丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
- 学会等名
  精密工学会2008年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  堺市産業振興センター
- 年月日
  2008-07-29
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 高精度非球面基板上の高性能スーパーミラーによる中性子集光2008
- 著者名/発表者名
  (JAEA)山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, (阪大)高井宏之, 永野幹典, 山村和也
- 学会等名
  日本中性子科学会第8回年回
- 発表場所
  名古屋大学
- 年月日
  2008-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 高臨界角スーパーミラーによる中性子集光デバイスの開発2008
- 著者名/発表者名
  (JAEA)曽山和彦, 丸山龍治, 山崎大, (阪大)山村和也
- 学会等名
  日本原子力学会「2008年秋の大会」
- 発表場所
  高知工科学
- 年月日
  2008-09-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製-中性子集光用ミラーの作製第三報-2008
- 著者名/発表者名
  (阪大)高井宏之, 山村和也, (JAEA)丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
- 学会等名
  2008年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  東北大学
- 年月日
  2008-09-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] 数値制御ローカルウェットエッチングによる中性子集光用楕円面ミラーの作製とその評価2008
- 著者名/発表者名
  (阪大)永野幹典, 高井宏之, 山村和也, (JAEA)山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦
- 学会等名
  日本中性子科学会第8回年回
- 発表場所
  名古屋大学
- 年月日
  2008-12-01
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20612017
[学会発表] Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2008
- 著者名/発表者名
  Kazuya Yamamura, et al.
- 学会等名
  58^(th) CIRP General Assembly
- 発表場所
  Manchester, UK
- 年月日
  2008-08-27
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-20360068
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング法を用いたSOIの膜厚均一化加工 -フッ硝酸を用いたSiの加工特性-2007
- 著者名/発表者名
  三谷卓朗, 山村和也
- 学会等名
  2007年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  旭川市、北海道
- 年月日
  2007-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] Fabrication of Ultra Precision Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura
- 学会等名
  57th CIRP General Assembly
- 発表場所
  Dresden, Germany
- 年月日
  2007-08-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング(Numerically Controlled Local Wet Etching)法による高精度光学素子の作製2007
- 著者名/発表者名
  高井宏之, 三谷卓朗, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2007年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  大東市、大阪府
- 年月日
  2007-08-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング(Numerically Controlled Local Wet Etching)法を用いたSOIの膜厚均一化加工-エッチャント組成比の最適化-2007
- 著者名/発表者名
  三谷卓朗, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2007年度関西地方定期学術講演会
- 発表場所
  大東市、大阪府
- 年月日
  2007-08-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチッングによる中性子集光用楕円面ミラー作製プロセスの開発2007
- 著者名/発表者名
  高井宏之, 山村和也, 丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
- 学会等名
  日本中性子科学会第7回年回
- 発表場所
  福岡市、福岡県
- 年月日
  2007-11-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製 -5軸制御NC加工装置の試作-2007
- 著者名/発表者名
  高井宏之, 山村和也
- 学会等名
  2007年度精密工学会秋季大会学術講演会
- 発表場所
  旭川市、北海道
- 年月日
  2007-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] Fabrication of Ultra Precisi on Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura
- 学会等名
  57th CIRP General Assembly
- 発表場所
  Dresden, Germany
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] Improvement of Thickness Distribution of SOI Using Numerically Controlled Local Wet Etching2007
- 著者名/発表者名
  T. Mitani and K. Yamamura
- 学会等名
  Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007
- 発表場所
  Gwangju, Korea
- 年月日
  2007-11-07
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング(Numerically Controlled Local Wet Etching)法による高精度光学素子の作製
- 著者名/発表者名
  高井宏之, 三谷卓朗, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2007年度関西地方定期学術講演会講演論文集
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] Polishing characteristics of single crystal SiC assisted by plasma oxidation using different kinds of abrasives
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  14th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
- 発表場所
  Dubrovnik, Croatia
- 年月日
  2014-06-02 – 2014-06-05
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Surface modification of GaN by irradiation of atmospheric pressure plasma for damage-free polishing
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K Yamamura
- 学会等名
  The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
- 発表場所
  Kanazawa, Japan
- 年月日
  2014-07-23 – 2014-07-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Plasma-assisted polishing for damage-free atomically flat finishing of wide gap semiconductor materials
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, H. Deng, K. Endo
- 学会等名
  ISPlasma2015/IC-PLANTS2015
- 発表場所
  Nagoya, Japan
- 年月日
  2015-03-26 – 2015-03-31
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Study on oxidation processes of 4H-SiC (0001) for investigation of the atomically flattening mechanism in plasma assisted polishing
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Yamamura
- 学会等名
  2nd CIRP Conference on Surface Integrity (CSI)
- 発表場所
  Nottingham, UK
- 年月日
  2014-05-28 – 2014-05-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Investigation of the anodic oxide layer/SiC interface morphology during anodic oxidation assisted polishing
- 著者名/発表者名
  K. Hosoya, Y. Imanishi, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
- 発表場所
  Kanazawa, Japan
- 年月日
  2014-07-23 – 2014-07-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for highly effective planarization of 4H-SiC
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  64th CIRP General Assembly
- 発表場所
  Nantes, France
- 年月日
  2014-08-24 – 2014-08-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製 -5軸制御NC加工装置の試作-
- 著者名/発表者名
  高井宏之, 山村和也
- 学会等名
  2007年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] ローカルウエットエッチングにより加工した表面の評価 -加工後残留物による表面粗さへの影響-
- 著者名/発表者名
  永野幹典, 是津信行, 山村和也
- 学会等名
  精密工学会2008年度関西地方定期学術講演会講演論文集
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] Preliminary study on highly efficient polishing of 4H-SiC utilizing anodic oxidation
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, K. Hosoya, Y. Imanishi, H. Deng, K. Endo
- 学会等名
  The 17th International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2014)
- 発表場所
  Hawaii, USA
- 年月日
  2014-09-22 – 2014-09-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25630026
[学会発表] Effect of plasma irradiation in removal rate of single crystal diamond in plasma assisted polishing with quartz glass tool
- 著者名/発表者名
  T. Tabata, K. Monna, Y. Yamamoto, S. Makiyama, H. Deng, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, S. Shikata, K. Yamamura
- 学会等名
  The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
- 発表場所
  Kanazawa, Japan
- 年月日
  2014-07-23 – 2014-07-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Flattening of 4H-SiC by combination of oxidation and abrasive polishing
- 著者名/発表者名
  H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  The 10th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP) and 2014 International Conference on Surface Finishing Technology (ICSFT)
- 発表場所
  Jiaozuo, China
- 年月日
  2014-10-17 – 2014-10-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] Highly efficient planarization of CVD-grown single-crystal diamond substrate by atmospheric-pressure microwave plasma jet figuring
- 著者名/発表者名
  K. Yamamura, S. Makiyama, T. Tabata, H. Yamada, A. Cyayahara, Y. Mokuno, S. Shikata, K. Endo
- 学会等名
  International Conference on Diamond and Carbon Materials 2014
- 発表場所
  Madrid, Spain
- 年月日
  2014-09-07 – 2014-09-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006
[学会発表] ローカルウエットエッチングにより加工した表面の評価 -加工後表面の表面粗さ悪化の原因解明-
- 著者名/発表者名
  永野幹典, 高井宏之, 是津信之, 山村和也
- 学会等名
  2008年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-18206017
[学会発表] Dependency of OH emission intensity in material removal rate of sapphire substrates in plasma assisted polishing
- 著者名/発表者名
  K. Monna, H. Deng, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura
- 学会等名
  The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
- 発表場所
  Kanazawa, Japan
- 年月日
  2014-07-23 – 2014-07-25
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25249006

1. 佐野泰久 (40252598)

共同の研究課題数: 15件

共同の研究成果数: 7件
2. 森勇蔵 (00029125)

共同の研究課題数: 14件

共同の研究成果数: 10件
3. 山内和人 (10174575)

共同の研究課題数: 13件

共同の研究成果数: 13件
4. 曽山和彦 (90343912)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 39件
5. 遠藤勝義 (90152008)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 10件
6. 稲垣耕司 (50273579)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 2件
7. 是津信行 (10432519)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 51件
8. 丸山龍治 (90379008)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 24件
9. 三村秀和 (30362651)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 3件
10. 片岡俊彦 (50029328)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
11. 林田洋寿 (50444477)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 15件
12. 高橋幸生 (00415217)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
13. 松山智至 (10423196)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
14. 山崎大 (80391259)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 4件
15. 山田英明 (90443233)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 13件
16. 東保男 (70208742)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
17. 上野健治 (40370069)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
18. 久米達哉 (40353362)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
19. 江波和宏 (00370073)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
20. 大久保雄司 (10525786)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 27件
21. 駒宮幸男 (80126060)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
22. 神谷好郎 (90434323)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
23. 佐貫智行 (70323491)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
24. 柴原正文 (80470219)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 8件
25. 長谷朝博 (10470220)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 8件
26. 本田幸司 (20553085)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 8件
27. 有馬健太 (10324807)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
28. 孫栄硯 (50963451)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
29. YANG XIAOZHE

共同の研究課題数: 0件

共同の研究成果数: 4件

山村 和也 YAMAMURA Kazuya

研究課題

研究成果

共同研究者

プラズマナノ製造プロセスによる完全無歪加工の実現とその学理の探究研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

超音波を援用したワイドギャップ半導体基板のスラリーレス電気化学機械研磨装置の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

能動制御型電気化学機械研磨による難加工材料のスラリーレス高能率加工研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料の高能率ダメージフリー加工研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

大気圧プラズマを援用した硬脆ワイドギャップ半導体基板の高能率無歪仕上げ法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

陽極酸化を援用した金型用SiC材の高能率・高精度形状創成と表面仕上げ法の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

フッ素樹脂を絶縁被覆材料とする無電解銅めっきシールド超極細同軸ケーブルの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

大気開放プラズマを用いた無歪高能率ナノ精度形状創成プロセスの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

山村和也 YAMAMURA Kazuya