蓮見真彦 HASUMI Masahiko

研究者番号	60261153
その他のID
外部サイト
所属 (現在)	2025年度: 東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2022年度 – 2023年度: 東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 2016年度 – 2018年度: 東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 2015年度: 東京農工大学, 大学院工学研究院, 助教 2011年度 – 2013年度: 東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 2012年度: 東京農工大学, 大学院・工学研究院, 助教 1996年度 – 1997年度: 東京農工大学, 工学部, 助手 1996年度: 理化学研究所, ナノ電子材料チーム, フロンティア研究員
審査区分/研究分野	研究代表者電子・電気材料工学 / 小区分21050:電気電子材料工学関連 / 電子・電気材料工学研究代表者以外電子・電気材料工学 / 電子・電気材料工学
キーワード	研究代表者シリコン / マイクロ波 / 太陽電池 / マイクロ波吸収 / 少数キャリアライフタイム / ソーラーセル / キャリアライフタイム / 少数キャリア / 再結合速度 / 活性化熱処理 … もっと見る / pn接合 / 半導体物性 / ナノ材料 / 電子デバイス・機器 / 熱拡散ドーピング / アモルファスシリコン / 加熱炉 / 活性化 / 結晶化 / マイクロ波加熱 / ライフタイム / マイクロ波吸収測定 / 水蒸気熱処理 / クーロンブロッケード / シングルエレクロントランジスタ / シングルエレクトロンデバイス … もっと見る研究代表者以外ソーラーセル / 水蒸気熱処理 / キャリヤライフタイム / マイクロ波吸収 / 光誘起フリーキャリヤ / パッシベション膜 / 光誘起フリーキャリア / キャリアライフタイム / 加熱水 / 低温プロセス技術 / パッシベーション膜 / optical communication / all-Si laser / Er / direct transition / Si quantum dot / quantum size effect / blue light emission / nanocrystalline Si / 量子ドットシステム / レーザー / 光通信 / Siレーザー / 量子サイズ効果 / 青色発光 / ナノ微結晶Si / キャリヤ再接合 / レーザ加熱 / キャリヤ拡散 / キャリヤ再結合 / AlOx薄膜 / A10_x薄膜 / 酸素プラズマ酸化膜 / パッシベーション / 高圧水蒸気熱処理 / 少数キャリヤ実効ライフタイム / マイクロ波フリーキャリヤ吸収 / 評価技術 / 作製隠す

PN接合の内蔵電位を考慮した少数キャリア再結合速度の解析研究代表者
- 研究代表者
  
  蓮見真彦
- 研究期間 (年度)
  2022 – 2024
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 審査区分
  
  小区分21050:電気電子材料工学関連
- 研究機関
  東京農工大学
マイクロ波急速加熱による薄膜シリコン結晶形成技術の開発研究代表者
- 研究代表者
  
  蓮見真彦
- 研究期間 (年度)
  2016 – 2018
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京農工大学
金属仕事関数誘起高効率シリコンソーラーセルの研究
- 研究代表者
  
  鮫島俊之
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京農工大学
結晶シリコンソーラーセルの水蒸気熱処理による特性改善機構の解明研究代表者
- 研究代表者
  
  蓮見真彦
- 研究期間 (年度)
  2011 – 2013
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京農工大学
マイクロ波フリーキャリヤ吸収法による非熱平衡プロセス処理起因欠陥とその制御の研究
- 研究代表者
  
  鮫島俊之
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京農工大学
シングルエレクトロニクス実現への実験的検証・基本単電子ユニット接合系の挙動研究代表者
- 研究代表者
  
  蓮見真彦
- 研究期間 (年度)
  1996
- 研究種目
  
  奨励研究(A)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  東京農工大学
青色発光ナノ微結晶Si材料の開発と応用に関する研究
- 研究代表者
  
  青柳克信
- 研究期間 (年度)
  1996 – 1997
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子・電気材料工学
- 研究機関
  理化学研究所

すべて 2023 2022 2019 2018 2017 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2010 その他

すべて雑誌論文学会発表

[雑誌論文] Quantification of 288 K local photothermal heating and miniaturization in Si plasmonic waveguides integrated with resonators2023
- 著者名/発表者名
  Ota Nana、Shinohara Kota、Hasumi Masahiko、Shimizu Hiromasa
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: 4 ページ: 042002-042002
- DOI
  10.35848/1347-4065/acc917
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04180
[雑誌論文] 無電極ランプを熱源とした加熱装置によるリンイオン注入300 mm径シリコン基板の活性化2023
- 著者名/発表者名
  宮崎智由、鮫島俊之、齋藤宗平、小野寺航、上原琢磨、有馬卓司、蓮見真彦、小林剛、芹澤和泉、久保若奈、上野智雄
- 雑誌名
  
  電子情報通信学会論文誌
  
  巻: 106-C ページ: 30-37
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04180
[雑誌論文] Passivation of cut edges of crystalline silicon by heat treatment in liquid water2023
- 著者名/発表者名
  Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima and Tomohisa Mizuno
- 雑誌名
  
  Japanese Journal of Applied Physics
  
  巻: 62 号: SK ページ: SK1022-SK1022
- DOI
  10.35848/1347-4065/acc666
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-21K04134, KAKENHI-PROJECT-22K04180
[雑誌論文] Carbon Heating Tube Used for Rapid Heating System2019
- 著者名/発表者名
  Sameshima Toshiyuki、Miyazaki Tomoyoshi、Kobayashi Go、Arima Takuji、Kikuchi Toshitaka、Uehara Takuma、Sugawara Takashi、Hasumi Masahiko、Serizawa Izumi
- 雑誌名
  
  IEEE Access
  
  巻: 7 ページ: 23798-23805
- DOI
  10.1109/access.2019.2897981
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[雑誌論文] Activation Behavior of Polycrystalline Silicon Films by Phosphorus Ion Implantation at 200oC2017
- 著者名/発表者名
  T. Sugawara, N. Tanaka, S. Kimura, M. Hasumi, T. Nagao, Y. Inouchi, T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Proc. Workshop on Active Matrix Flatpanel Display and Devices
  
  巻: - ページ: 270-271
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[雑誌論文] Crystallization of Silicon Thin Films By Microwave-Induced Rapid Heating2016
- 著者名/発表者名
  S. Kimura, K. Ota, M. Hasumi, A. Suzuki, M. Ushijima, and T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Proc. in PhotoVoltaic Technical Conference
  
  巻: - ページ: 2118-2118
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[雑誌論文] Crystallization and activation of silicon by microwave rapid annealing2016
- 著者名/発表者名
  S. Kimura, K. Ota, M. Hasumi, A. Suzuki, M. Ushijima, and T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. A
  
  巻: 122 号: 7
- DOI
  10.1007/s00339-016-0220-7
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[雑誌論文] Heat treatment in 110oC liquid water used for passivating siliconsurfaces2016
- 著者名/発表者名
  T. Nakamura, T. Motoki, J. Ubukata, T. Sameshima, M. Hasumi and T. Mizuno
- 雑誌名
  
  Appl. Phys. A.
  
  巻: 122 号: 4
- DOI
  10.1007/s00339-016-9976-z
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[雑誌論文] Passivation of silicon surfaces by heat treatment in liquid water at 110oC2015
- 著者名/発表者名
  T. Nakamura, T. Sameshima, M. Hasumi, and T. Mizuno
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 54 号: 10 ページ: 106503-106503
- DOI
  10.7567/jjap.54.106503
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[雑誌論文] Photoinduced carrier annihilation in silicon pn junction2015
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Motoki, K. Yasuda, T. Nakamura, M. Hasumi, and T. Mizuno
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 54 号: 8 ページ: 081302-081302
- DOI
  10.7567/jjap.54.081302
- NAID
  210000145492
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[雑誌論文] Behavior of Photo Induced Minority Carrier Lifetime in PN Junction with Different Bias Voltages2015
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima and M. Hasumi
- 雑誌名
  
  Energy Procedia
  
  巻: 84 ページ: 110-117
- DOI
  10.1016/j.egypro.2015.12.303
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[雑誌論文] Multi junction solar cells using band-gap induced cascaded light absorption2014
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki Sameshima, Hitomi Nomura, Shinya Yoshidomi, and Masahiko Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 53 号: 5S1 ページ: 05FV07-05FV07
- DOI
  10.7567/jjap.53.05fv07
- NAID
  210000143904
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Photo induced minority carrier annihilation at crystalline silicon surface in metal oxide semiconductor structure2014
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki Sameshima, Jun Furukawa, Tomohiko Nakamura, Satoshi Shigeno, Tomohito Node, Shinya Yoshidomi, and Masahiko Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 53 号: 3 ページ: 031301-031301
- DOI
  10.7567/jjap.53.031301
- NAID
  210000143406
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360, KAKENHI-PROJECT-25420282
[雑誌論文] Activation of silicon implanted with phosphorus and boron atoms by microwave annealing with carbon powder as a heat source2014
- 著者名/発表者名
  Masahiko Hasumi, Tomohiko Nakamura, Shinya Yoshidomi, and Toshiyuki Sameshima
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 53 号: 5S1 ページ: 05FV05-05FV05
- DOI
  10.7567/jjap.53.05fv05
- NAID
  210000143902
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Activation of silicon implanted with phosphorus and boron atoms by microwave annealing with carbon powder as a heat source2014
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, T. Nakamura, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 53
- NAID
  210000143902
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Multi junction solar cells using band-gap induced cascaded light absorption2014
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, H. Nomura, S. Yoshidomi, and M. Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 53
- NAID
  210000143904
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Photo induced minority carrier annihilation at crystalline silicon surface in metal oxide semiconductor structure2014
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, J. Furukawa, T. Nakamura, S. Shigeno, T. Node, S. Yoshidomi, and M. Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 53
- NAID
  210000143406
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Investigation of Silicon Surface Passivation by Microwave Annealing, Jpn2013
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima
- 雑誌名
  
  J. Appl. Phys
  
  巻: Vol.52 号: 1R ページ: 11801-11801
- DOI
  10.7567/jjap.52.011801
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292, KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Investigation of Silicon Surface Passivation by Microwave Annealing Using Multiple-Wavelength Light-Induced Carrier Lifetime Measurement2013
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, R. Ebina, K. Betsuin, Y. Takiguchi, and M. Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 52
- NAID
  210000141723
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Heat treatment of amorphous silicon p-i-n solar cells with high-pressure H2O vapor2012
- 著者名/発表者名
  J. Takenezawa, M. Hasumi, T. Sameshima, T. Koida, T. Kaneko, M. Karasawa, and M. Kondo
- 雑誌名
  
  J. Non-Cryst. Solids
  
  巻: 358
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Laser Induced Formation of Buried Void Layer in Silicon2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, Y. Kanda , M. Hasumi, J. Tatemichi, Y. Inouchi, M. Naito
- 雑誌名
  
  J. Laser Micro/Nanoengineering
  
  巻: Vol.7 号: 1 ページ: 93-96
- DOI
  10.2961/jlmn.2012.01.0018
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[雑誌論文] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Combination of Amorphous Silicon Deposition with High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Nagao, M. Hasumi, A. Shuku, E. Takahashi, and Y. Andoh
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: 51
- NAID
  210000140378
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Combination of Amorphous Silicon Deposition with High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Nagao, M. Hasumi, A.Shuku, E.Takahashi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: Vol.51 号: 3S ページ: 03CA06-03CA06
- DOI
  10.1143/jjap.51.03ca06
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292, KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H2O Vapor2012
- 著者名/発表者名
  J. Takenezawa
- 雑誌名
  
  Journal of Non-Crystalline Solids
  
  巻: 358 号: 17 ページ: 2285-2288
- DOI
  10.1016/j.jnoncrysol.2012.01.057
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292, KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Characterization of Plasma-Irradiated SiO_2/Si Interface Properties by Photoinduced-Carrier Microwave Absorption Method2011
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Nagao, and T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: Vol.50 号: 3S ページ: 03CA03-03CA03
- DOI
  10.1143/jjap.50.03ca03
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[雑誌論文] Characterization of Plasma-Irradiated SiO_2/Si Interface Properties by Photoinduced-Carrier Microwave Absorption Method2011
- 著者名/発表者名
  Masahiko Hasumi, Jun Takenezawa, Tomokazu Nagao, Toshiyuki Sameshima
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys
  
  巻: Vol.50
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[雑誌論文] Fabrication of Aluminum Oxide Films by Aluminum Metal Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere for Surface Passivation2011
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, Y. Kanda, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Technical Digest of the 24^<th> Int. Photovoltaic Solar Energy Conf
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Fabrication of Aluminum Oxide Films by Aluminum Metal Evaporation in Oxygen Gas Atmosphere for Surface Passivation2011
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, Y. Kanda, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
- 雑誌名
  
  Technical Digest of the 24th Int. Photovoltaic Solar Energy Conf.
  
  巻: 1
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[雑誌論文] Minority Carrier Lifetime Measurements by Photo-Induced Carrier Microwave Absorption Method2011
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Nagao, S. Yoshidomi, K. Kogure, and M. Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: Vol.50 号: 3S ページ: 03CA02-03CA02
- DOI
  10.1143/jjap.50.03ca02
- NAID
  210000070162
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[雑誌論文] Minority Carrier Lifetime Measurements by Photo-Induced Carrier Microwave Absorption Method2011
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki Sameshima, Tomokazu Nagao, Shinya Yoshidomi, Kazuya Kogure, Masahiko Hasumi
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys
  
  巻: Vol.50
- NAID
  210000070162
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[雑誌論文] Crystalline Silicon Solar Cells with Two Different Metals2010
- 著者名/発表者名
  T. SAMESHIMA, K. KOGURE, M. HASUMI
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys
  
  巻: Vol.49 号: 11R ページ: 110205-110205
- DOI
  10.1143/jjap.49.110205
- NAID
  40017377249
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[雑誌論文] Crystalline Silicon Solar Cells with Two Different Metals2010
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki SAMESHIMA, Kazuya KOGURE, Masahiko HASUMI
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys
  
  巻: Vol.49 ページ: 110205-110205
- NAID
  40017377249
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Si導波路ヒータの発熱効率の改善2023
- 著者名/発表者名
  篠原宏太、綱島健太、蓮見真彦、清水大雅
- 学会等名
  第84回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04180
[学会発表] 2枚の導体板による2.45 GHzマイクロ波の完全吸収と発熱特性2023
- 著者名/発表者名
  鮫島俊之、宮崎智由、蓮見真彦、久保若奈、上野智雄、水野智久
- 学会等名
  第20回薄膜材料デバイス研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04180
[学会発表] マイクロ波透過測定を用いたイオン注入不純物活性化の非破壊評価2023
- 著者名/発表者名
  蓮見真彦、鮫島俊之、水野智久
- 学会等名
  第20回薄膜材料デバイス研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04180
[学会発表] Passivation of cut edges and surfaces of crystalline silicon by heat treatment in liquid water2022
- 著者名/発表者名
  Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima, Tomohisa Mizuno
- 学会等名
  The 33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-33)
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22K04180
[学会発表] Fabrication of crystalline silicon solar cells by rapid heating with carbon heating tube2019
- 著者名/発表者名
  Toshitaka Kikuchi, Takashi Sugawara, Takuma Uehara, Tomoyoshi Miyazaki, Go Kobayashi, Masahiko Hasumi, Takuji Arima, Toshiyuki Sameshima
- 学会等名
  第66回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] Carbon Heating Tube Used for Rapid Heating System for Semiconductor Annealing2018
- 著者名/発表者名
  T. Miyazaki, G. Kobayashi, T. Sugawara, T. Kikuchi, M. Hasumi, and T. Sameshima
- 学会等名
  THE 25TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] Heat treatment in liquid water at 80oC used to improve the interface characteristic of metal-oxide-semiconductor capacitor2018
- 著者名/発表者名
  Yoshito Hirokawa、Masahiko Hasumi、Toshiyuki Sameshima、Tomohisa Mizuno
- 学会等名
  第65回応用物理学会春季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] Heating equipment with carbon heating used to activate silicon and fabricate its solar cells2018
- 著者名/発表者名
  Toshitaka Kikuchi, Takashi Sugawara, Takuma Uehara, Tomoyoshi Miyazaki, Go Kobayashi, Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima
- 学会等名
  第79回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] Activation Behavior of Polycrystalline Silicon Films by Phosphorus Ion Implantation at 200oC2017
- 著者名/発表者名
  T. Sugawara, N. Tanaka, S. Kimura, M. Hasumi, T. Nagao, Y. Inouchi, T. Sameshima
- 学会等名
  The 24th International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] PN接合におけるバイアス電圧印加による光誘起少数キャリアライフタイムの挙動2017
- 著者名/発表者名
  太田康介, 鮫島俊之, 蓮見真彦, 水野智久
- 学会等名
  第14回薄膜材料デバイス研究会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] PN接合におけるバイアス電圧印加による光誘起少数キャリアライフタイムの挙動2016
- 著者名/発表者名
  太田康介, 蓮見真彦, 鮫島俊之
- 学会等名
  第13回薄膜材料デバイス研究会
- 発表場所
  龍谷大学響都ホール（京都府京都市）
- 年月日
  2016-10-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] Microwave Rapid Heating Used for Diffusing Impurities in Silicon2016
- 著者名/発表者名
  K. Ota, S. Kimura, M. Hasumi, A. Suzuki, M. Ushijima, T. Sameshima
- 学会等名
  The Twenty-Third International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  Avanti Kyoto Hall, Kyoto, Japan
- 年月日
  2016-07-07
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] Crystallization of Silicon Thin Films By Microwave-Induced Rapid Heating2016
- 著者名/発表者名
  S. Kimura, K. Ota, M. Hasumi, A. Suzuki, M. Ushijima, and T. Sameshima
- 学会等名
  The Electrochemical Society 229th meeting
- 発表場所
  San Diego, USA
- 年月日
  2016-06-01
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-16K06255
[学会発表] ＰＮ接合の電圧印加による光誘起少数キャリヤライフタイム挙動の研究2015
- 著者名/発表者名
  鮫島俊之, 中村友彦, 蓮見真彦
- 学会等名
  Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都府京都市)
- 年月日
  2015-10-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Laser Induced Minority Carrier Lifetime in PN Junction2015
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Nakamura, S. Yoshidomi, M. Hasumi
- 学会等名
  Symposium on Laser Precision Microfabrication
- 発表場所
  北九州国際会議場(福岡県北九州市)
- 年月日
  2015-05-26
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Behavior of Photo Induced Minority Carrier Lifetime in PN Junction with Different Bias Voltages2015
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, M. Hasumi
- 学会等名
  E-Mater. Res. Soc. Symp．
- 発表場所
  France, Lille
- 年月日
  2015-05-11
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Annihilation Properties of Photo-Induced Carrier in Silicon PN Junction2015
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, T. Sameshima, T. Motoki, T. Nakamura and T. Mizuno
- 学会等名
  Active Matrix Flat Panel Displays
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都府京都市)
- 年月日
  2015-07-01
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] マイクロ波急速加熱によるシリコンの活性化とドーピングの検討2015
- 著者名/発表者名
  太田康介, 木村駿介, 蓮見真彦, 鈴木歩太, 牛島満, 鮫島俊之
- 学会等名
  Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都府京都市)
- 年月日
  2015-10-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Passivation of Silicon Surfaces by Treatment in Water at 110oC2015
- 著者名/発表者名
  T. Nakamura, T. Sameshima, M. Hasumi, T. Mizuno
- 学会等名
  Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
- 発表場所
  USA, San Francisco
- 年月日
  2015-04-06
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Microwave-Induced Rapid Heating Used to Crystallize Thin Silicon Films2015
- 著者名/発表者名
  S. Kimura, K. Ohta, T. Nakamura, M. Hasumi, A. Suzuki, M. Ushijima, T. Sameshima
- 学会等名
  第76回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場(愛知県名古屋市)
- 年月日
  2015-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Heat treatment in 110oC liquid water used for Passivating silicon surfaces2015
- 著者名/発表者名
  T. Nakamura, T. Sameshima, M. Hasumi, T. Mizuno
- 学会等名
  Active Matrix Flat Panel Displays
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都府京都市)
- 年月日
  2015-07-01
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films by Microwave Heating2014
- 著者名/発表者名
  中村友彦, 吉冨真也, 蓮見真彦, 鮫島俊之
- 学会等名
  応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学
- 年月日
  2014-03-19
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Passivation of Silicon Surface by Laser Rapid Heating2013
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, H. Abe, M. Hasumi, T. Mizuno, and N. Sano
- 学会等名
  レーザー先端材料加工国際会議
- 発表場所
  朱鷺メッセ新潟コンベンションセンター
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Multi-Connected Solar Cells Using Band-Gap Induced Cascaded Light Absorption2013
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, S. Yoshidomi, and M. Hasumi
- 学会等名
  JSAP-MRS Joint Symposia
- 発表場所
  Doshisha Univ
- 年月日
  2013-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Activation of Silicon Implanted with Phosphorus Atoms by Microwave Heating2013
- 著者名/発表者名
  S. Yoshidomi, C. Akiyama, J. Furukawa, M. Hasumi, T. Ishii, T. Sameshima, Y. Inouchi, and M. Nait
- 学会等名
  International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  Ryukoku Univ
- 年月日
  2013-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] MOS構造における結晶シリコン表面の少数キャリア再結合2013
- 著者名/発表者名
  古川潤, 吉冨真也, 蓮見真彦, 鮫島俊之
- 学会等名
  応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2013-03-28
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Microwave Annealing of Phosphorus Implanted ptype Silicon2013
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi , S. Yoshidomi and T. Sameshima
- 学会等名
  2013 JSAP-MRS Joint Symposia
- 発表場所
  同志社大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Minority Carrier Annihilation at Crystalline Silicon Surface in MOS Structure2013
- 著者名/発表者名
  J. Furukawa, S. Yoshidomi, M. Hasumi, and T. Sameshima
- 学会等名
  International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  Ryukoku Univ
- 年月日
  2013-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Silicon Surface oxidation and Passivation by Remote Induction-Coupled Oxygen Plasma2013
- 著者名/発表者名
  鮫島俊之，蓮見真彦，吉冨真也，中村友彦，滋野聖
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学京田辺キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Activation of Silicon Implanted with Dopant Atoms by Microwave Heating2013
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Nakamura, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Ishii, Y. Inouchi, M. Naito and T. Mizuno
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  Hilton Fukuoka Sea Hawk
- 年月日
  2013-09-26
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Minority Carrier Annihilation at Crystalline Silicon Surface in MOS Structure2013
- 著者名/発表者名
  J. Furukawa, S. Yoshidomi, M. Hasumi, and T. Sameshima
- 学会等名
  Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Silicon Surface Oxidation and Passivation by Remote Induction-Coupled Oxygen Plasma2013
- 著者名/発表者名
  鮫島俊之, 蓮見真彦, 吉冨真也, 中村友彦, 滋野聖
- 学会等名
  応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学
- 年月日
  2013-09-17
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Microwave Annealing of Phosphorus Implanted p-type Silicon2013
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, S. Yoshidomi, and T. Sameshima
- 学会等名
  JSAP-MRS Joint Symposia
- 発表場所
  Doshisha Univ
- 年月日
  2013-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Activation of Silicon Implanted with Dopant Atoms by Microwave Heating2013
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, T. Nakamura, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Ishii, Y. Inouchi, M. Naito and T. Mizuno
- 学会等名
  Solid State Devices and Materials 2013
- 発表場所
  ヒルトン福岡シーホーク
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Increase in Minority Carrier Lifetime Measured by Microwave Irradiation Method2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, K. Betsuin, T. Nagao, M. Hasumi
- 学会等名
  THE 19TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
- 発表場所
  Ryukoku University
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] シリコン表面における光誘起少数キャリヤ再結合消滅挙動2012
- 著者名/発表者名
  古川　潤，滝口裕太，永尾友一，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] 多波長光照射によるマイクロ波フリーキャリヤ吸収を用いた半導体少数キャリヤ消滅特性の調査2012
- 著者名/発表者名
  滝口裕太，永尾友一，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] リモート酸素プラズマ処理と高圧水蒸気熱処理によるシリコン表面パッシベーション2012
- 著者名/発表者名
  永冨佳将, 蓮見真彦, 鮫島俊之
- 学会等名
  応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] 多波長光照射によるマイクロ波フリーキャリヤ吸収を用いた半導体少数キャリヤ消滅特性の調査2012
- 著者名/発表者名
  滝口裕太, 永尾友一, 蓮見真彦, 鮫島俊之
- 学会等名
  応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- 年月日
  2012-03-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Increase in Minority Carrier Lifetime Measured by Microwave Irradiation Method2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, K. Betsuin, T. Nagao, and M. Hasumi
- 学会等名
  International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  Ryukoku Univ
- 年月日
  2012-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] リモート酸素プラズマ処理と高圧水蒸気熱処理によるシリコン表面パッシベーション2012
- 著者名/発表者名
  永冨佳将，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第59回応用物理学関係連合講演会
- 発表場所
  早稲田大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Multiple Wavelength Light Induced Carrier Microwave Absorption Method2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, Y. Takiguchi, T. Nagao, and M. Hasumi
- 学会等名
  International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  Ryukoku Univ
- 年月日
  2012-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Multiple Wavelength Light Induced Carrier Microwave Absorption Method2012
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, Y. Takiguchi, T. Ngao, M. Hasumi
- 学会等名
  THE 19TH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
- 発表場所
  Ryukoku University
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Heat Treatment of Amorphous Silicon p-i-n Solar Cells with High-Pressure H2O Vapor2011
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Sameshima, T. Koida, T. Kaneko, M. Karasawa, and M. Kondo
- 学会等名
  International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors
- 発表場所
  Nara Prefectural New Public Hall
- 年月日
  2011-08-23
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment Used to Improve Polycrystalline Silicon Soar Cell Characteristics2011
- 著者名/発表者名
  J. Takenezawa, M. Hasumi, and T. Sameshima
- 学会等名
  International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  Ryukoku Univ
- 年月日
  2011-07-12
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Laser Induced Formation of Buried Void Layer in Silicon2011
- 著者名/発表者名
  Y. Kanda, T. Sameshima, M. Hasumi, J. Tatemichi, Y. Inouchi, and M. Naito
- 学会等名
  The 12_th International Symposium on Laser Precision Microfabrication
- 発表場所
  かがわ国際会議場・サンポート高松(高松市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment Used to Improve Polycrystalline Solar Cell Characteristics2011
- 著者名/発表者名
  J. Takenezawa, M. Hasumi, and T. Sameshima
- 学会等名
  The Eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Laser Induced Formation of Buried Void Layer in Silicon2011
- 著者名/発表者名
  Y.Kanda, T.Sameshima, M.Hasumi, J.Tatemichi, Y.Inouchi
- 学会等名
  The 12th International Symposium on Laser Precision Microfabrication
- 発表場所
  かがわ国際会議場・サンポート高松(高松市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Change in Minority Carrier Lifetime Caused by Rapid Laser Heating2011
- 著者名/発表者名
  K. Betsuin, Y. Kanda, W. Kato, S.Yoshidomi, M. Hasumi T. Sameshima, N. Sano, and T. Mizuno
- 学会等名
  The Eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] シリコンの少数キャリヤライフタイムの種々の外部刺激による変化2011
- 著者名/発表者名
  鮫島俊之、別院公一、蓮見真彦
- 学会等名
  第８回薄膜材料デバイス研究会
- 発表場所
  龍谷大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Surface Passivation of Crystalline Silicon by Amorphous Silicon Deposition Followed by High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment2011
- 著者名/発表者名
  T. Nagao, M. Hasumi, T. Sameshima, and Y. Andoh
- 学会等名
  The Eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices
- 発表場所
  龍谷大学アバンティ響都ホール(京都市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Oxygen Plasma Followed by High-Pressure H_2O Vapor Heat Treatment Used for Passivation of Silicon Surfaces2010
- 著者名/発表者名
  S. Yoshidomi, M. Hasumi and T. Sameshima
- 学会等名
  Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  百年会館(奈良)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] HIGH PRESSURE H_2O VAPOR HEAT TREATMENT FOR IMPROVEMENT IN PASSIVATION LAYERS OF CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS2010
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Nagao, Y. Kanda and T. Sameshima
- 学会等名
  RENEWABLE ENERGY 2010
- 発表場所
  パシフィコ横浜(神奈川)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurement by Photo-Induced Carrier Microwave Absorption Method2010
- 著者名/発表者名
  T. Nagao, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Sameshima and T. Mizuno
- 学会等名
  Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  百年会館(奈良)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Stacked Solar Cells using Transparent and Conductive Adhesive2010
- 著者名/発表者名
  J. Takenezawa, M. Hasumi, T. Sameshima, T. Koida, T. Kaneko, M. Karasawa and M. Kondo
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  東京大学本郷キャンパス(東京)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Characterization of Plasma Irradiated Properties by Photo Induced Carrier Microwave Absorption Method2010
- 著者名/発表者名
  M. Hasumi, J. Takenezawa, T. Nagao and T. Sameshima
- 学会等名
  2010 The Seventeenth International Workshop on Active Matrix Flat Panel Displays
- 発表場所
  東京工業大学ディジタル多目的ホール(東京)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Stacked Solar Cells using Transparent and Conductive Adhesive2010
- 著者名/発表者名
  J.Takenezawa, M.Hasumi, T.Sameshima, T.Koida, T.Kaneko, M.Karasawa, M.Kondo
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  東京大学本郷キャンバス(東京)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Minority Carrier Lifetime Measurements by Microwave Photo-Induced Carrier Absorption Method2010
- 著者名/発表者名
  T.Nagao, J.Takenezawa, M.Shimokawa, M.Hasumi, T.Sameshima
- 学会等名
  2010 The Seventeenth International Workshop on Active Matrix Flat Panel Displays
- 発表場所
  東京工業大学ディジタル多目的ホール(東京)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Crystalline Silicon Solar Cells Used with Al and Au Metals2010
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, K. Kogure and M. Hasumi
- 学会等名
  International Conference on Solid State Devices and Materials
- 発表場所
  東京大学本郷キャンパス(東京)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Crystalline Silicon Solar Cells With Two Different Metals2010
- 著者名/発表者名
  T. Sameshima, K. Kogure, and M. Hasumi
- 学会等名
  Proc in 7_th Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  百年会館(奈良)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] HIGH PRESSURE H2O VAPOR HEAT TREATMENT FOR IMPROVEMENT IN PASSIVATION LAYERS OF CRYSTALLINE SILICON SOLAR CELLS2010
- 著者名/発表者名
  Masahiko Hasumi, Jun Takenezawa, Tomokazu Nagao, Yasushi Kanda, Toshiyuki Sameshima
- 学会等名
  RENEWABLE ENERGY 2010
- 発表場所
  パシフィコ横浜(神奈川)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Oxygen Plasma Followed by High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment Used for Passivation of Silicon Surfaces2010
- 著者名/発表者名
  S.Yoshidomi, M.Hasumi, T.Sameshima
- 学会等名
  Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  百年会館(奈良)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Crystalline Silicon Solar Cells With Two Different Metals2010
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki Sameshima, Kazuya Kogure, Masahiko Hasumi
- 学会等名
  Proc in 7^<th> Thin Film Materials & Devices Meeting
- 発表場所
  百年会館(奈良)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22560292
[学会発表] Passivation of silicon surface by laser rapid heating
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki Sameshima, Hiroshi Abe, Masahiko Hasumi, Tomohisa Mizuno, Naoki Sano
- 学会等名
  LPM2013
- 発表場所
  Toki Messe, Niigata
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] MOS 構造における結晶シリコン表面の少数キャリヤ再結合
- 著者名/発表者名
  古川潤，吉冨真也，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第 60 回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Minority Carrier Annihilation at Crystalline SiliconSurface in MOS Structure
- 著者名/発表者名
  J. Furukawa, S. Yoshidomi, M. Hasumi, T. Sameshima
- 学会等名
  THE TWENTIETH INTERNATIONAL WORKSHOP ON ACTIVE-MATRIX FLATPANEL DISPLAYS AND DEVICES
- 発表場所
  Ryukoku University Avanti Kyoto Hall, Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Activation of Silicon Implanted with Dopant Atoms by Microwave Heating
- 著者名/発表者名
  中村友彦，滋野聖，吉冨真也，蓮見真彦，石井寿子，鮫島俊之，井内裕，内藤勝男，水野智久
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学京田辺キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Passivation of Silicon Surfaces by Oxygen Radical followed by High Pressure H2O Vapor
- 著者名/発表者名
  Toshiyuki Sameshima, Shinya Yoshidomi, Tomohiko Nakamura, Satoshi Shigeno, and Masahiko Hasumi
- 学会等名
  2014 Workshop on Active Matrix Flat Panel Displays
- 発表場所
  京都府京都市、龍谷大学アバンティ響都ホール
- 年月日
  2014-07-02 – 2014-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Microwave Annealing of Phosphorus Implanted p-type Silicon
- 著者名/発表者名
  Masahiko Hasumi, Shinya Yoshidomi and Toshiyuki Sameshima
- 学会等名
  2013 JSAP-MRS Joint Symposia
- 発表場所
  Doshisha University, Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] 酸素プラズマ処理によるシリコン表面パッシベーション
- 著者名/発表者名
  野手智仁，吉冨真也，古川潤，阿部博史，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学相模原キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Multi-Connected Solar Cells Using Band-Gap Induced Cascaded Light Absorption
- 著者名/発表者名
  TOSHIYUKI SAMESHIMA, SHINYA YOSHIDOMI and MASAHIKO HASUMI
- 学会等名
  2013 JSAP-MRS Joint Symposia
- 発表場所
  Doshisha University, Kyoto
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Oxygen Radical Treatment used for Fabricating Metal-Insulator-Semiconductor Solar Cells
- 著者名/発表者名
  滋野聖，吉冨真也，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学相模原キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Passivation of Silicon Surfaces by Heat Treatment in Boiled Water and its Application of
- 著者名/発表者名
  Tomohiko Nakamura, Shinya Yoshidomi, Masahiko Hasumi, and Toshiyuki Sameshima
- 学会等名
  2014 Workshop on Active Matrix Flat Panel Displays
- 発表場所
  京都府京都市、龍谷大学アバンティ響都ホール
- 年月日
  2014-07-02 – 2014-07-04
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25420282
[学会発表] Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films by Microwave Heating
- 著者名/発表者名
  中村友彦，吉冨真也，蓮見真彦，鮫島俊之
- 学会等名
  第61回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  青山学院大学相模原キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360
[学会発表] Silicon Surface oxidation and Passivation by Remote Induction-Coupled Oxygen Plasma
- 著者名/発表者名
  鮫島俊之，蓮見真彦，吉冨真也，中村友彦，滋野聖
- 学会等名
  第74回応用物理学会秋季学術講演会
- 発表場所
  同志社大学京田辺キャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-23560360

1. 鮫島俊之 (30271597)

共同の研究課題数: 4件

共同の研究成果数: 100件
2. 水野智久 (60386810)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 11件
3. 青柳克信 (70087469)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
4. 野村晋太郎 (90271527)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
5. 趙新為 (50260211)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

蓮見 真彦 HASUMI Masahiko

研究課題

研究成果

共同研究者

PN接合の内蔵電位を考慮した少数キャリア再結合速度の解析研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

審査区分

研究機関

マイクロ波急速加熱による薄膜シリコン結晶形成技術の開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

金属仕事関数誘起高効率シリコンソーラーセルの研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

結晶シリコンソーラーセルの水蒸気熱処理による特性改善機構の解明研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

マイクロ波フリーキャリヤ吸収法による非熱平衡プロセス処理起因欠陥とその制御の研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

シングルエレクトロニクス実現への実験的検証・基本単電子ユニット接合系の挙動研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

青色発光ナノ微結晶Si材料の開発と応用に関する研究

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[雑誌論文] Quantification of 288 K local photothermal heating and miniaturization in Si plasmonic waveguides integrated with resonators2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] 無電極ランプを熱源とした加熱装置によるリンイオン注入300 mm径シリコン基板の活性化2023

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Passivation of cut edges of crystalline silicon by heat treatment in liquid water2023

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Carbon Heating Tube Used for Rapid Heating System2019

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Activation Behavior of Polycrystalline Silicon Films by Phosphorus Ion Implantation at 200oC2017

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Crystallization of Silicon Thin Films By Microwave-Induced Rapid Heating2016

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Crystallization and activation of silicon by microwave rapid annealing2016

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

データソース

[雑誌論文] Heat treatment in 110oC liquid water used for passivating siliconsurfaces2016

著者名/発表者名

蓮見真彦 HASUMI Masahiko