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後藤 和弘  GOTO Kazuhiro

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70016260
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1987年度 – 1988年度: 東京工業大学, 工学部, 教授
1986年度: 東京工大, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者
金属製錬・金属化学
研究代表者以外
広領域
キーワード
研究代表者
SiO_2 / Diffusion / 薄膜 / 拡散 / MOSIC / Molibudenum / Aluminide Coating / Thermal Conductivity / Thin Film / Oxidation Resistance … もっと見る / High Temperature Materials / WO_3 / 熱伝導率 / Al_2O_3 / Al_4C_3 / コーティング膜 / 高温耐酸化性 / グラファイト / コ-ティング / Mo_3Al_8 / 拡散係数 / モリブデン / アルミコ-ティング / 熱伝導 / 耐酸化性 / 高温材料 / Electrochromism,Li_2O-B_2O_3 / Condensation Refractive Index / Evaporation / Chemical Reaction / Vacuum Deposition / Sputtering / Thermal Oxidation / Silicon dioxide film / Silicon / 界面反応 / 比誘電率 / RFスパッタ / MOS / エレクトロクロミズム, Li_2O-B_2O_3, La_2O_3-WO_3 / 屈折率 / 蒸着 / 蒸発 / 化学反応 / スパッタリング / 熱酸化 / シリコン酸化膜 / シリコン … もっと見る
研究代表者以外
銅 / 鉄 / 滓 / スラグ / 遺物 / 製銅 / 遺跡 / たたら / 鉄鉱石 / 製鉄 / 鉄滓 隠す
  • 研究課題

    (3件)
  • 共同研究者

    (9人)
  •  高温材料の耐酸化性薄膜の作製とその酸化速度に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      永田 和宏, 後藤 和弘
    • 研究期間 (年度)
      1988 – 1989
    • 研究種目
      一般研究(A)
    • 研究分野
      金属製錬・金属化学
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  わが国前近代製鉄技術の起源と転移経路の総合的研究

    • 研究代表者
      道家 達將, 福田 豊彦
    • 研究期間 (年度)
      1986 – 1987
    • 研究種目
      一般研究(A)
    • 研究分野
      広領域
    • 研究機関
      東京工業大学
  •  MOS型IC材料の化学反応と拡散に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      後藤 和弘
    • 研究期間 (年度)
      1986 – 1987
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      金属製錬・金属化学
    • 研究機関
      東京工業大学
  • 1.  永田 和宏 (70114882)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  道家 達將 (40016340)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  福田 豊彦 (80016617)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  須佐 匡裕 (90187691)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  本蔵 義守 (00114637)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  岡本 真実 (40016853)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  菊地 実 (30089817)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  飯田 賢一 (60143666)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  丸山 俊夫 (20114895)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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