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伊藤 秀範  ITOH Hidenori

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70136282
その他のID
外部サイト
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 1997年度 – 2001年度: 室蘭工業大学, 工学部, 教授
1992年度 – 1993年度: 室蘭工業大学, 工学部, 助教授
1990年度: 室蘭工業大学, 工学部, 助教授
審査区分/研究分野
研究代表者
電子・電気材料工学 / 電力工学 / 機械力学・制御工学
キーワード
研究代表者
イメージインテンシファイア / FTIR / RFプラズマ / モデリング / アモルファス・カーボン / 分光診断 / 画像処理 / 反応性プラズマ / SiC Films / Thin Film Deposition … もっと見る / Plasma Reactor / Organic Silane / Mass Spectrometry / Optical Emission Spectroscopy / Plasma / RF プラズマ / SiC膜 / プラズマCVD / 薄膜堆積 / プラズマリアクタ / 有機シリコン / FT-IR / 質量分析 / 発光分光 / 高密度プラズマ / modeling(continue to next page) / image intensifier / excitation molecule / spatiotemporally resolved profile / mass spectrometric method / optical emission spectroscopic method / plasma diagnostics / RF plasma / 周波数依存性 / 同時診断 / イメ-ジインテンシファイア / 励起分子 / 時空分解 / 質量分析法 / 発光分光法 / プラズマ診断 / ボルツマン方程式法 / 電子衝突断面積 / 発光プロファイル / 電子輸送係数 / 電子付着 / 混合ガス / 絶縁耐力 / cーC_4F_8 / SF_6 / Synergism 隠す
  • 研究課題

    (5件)
  • 共同研究者

    (3人)
  •  高密度VHFプラズマによる薄膜堆積と質量分析、発光時空分光、赤外分光、同時診断研究代表者

    • 研究代表者
      伊藤 秀範
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2001
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  •  イオンを含む粒子の質量分析法と発光分光時空分解法によるプロセスプラズマの同時診断研究代表者

    • 研究代表者
      伊藤 秀範
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  •  画像処理を用いたプラズマ診断法によるアモルファス・カーボン薄膜生成法の評価と改良研究代表者

    • 研究代表者
      伊藤 秀範
    • 研究期間 (年度)
      1993
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  •  画像処理を用いたプラズマ診断法によるアモルファス・カーボン薄膜生成法の評価と改良研究代表者

    • 研究代表者
      伊藤 秀範
    • 研究期間 (年度)
      1992
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電力工学
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  •  SynergismによるSF_6ガス絶縁の効率化に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      伊藤 秀範
    • 研究期間 (年度)
      1990
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      機械力学・制御工学
    • 研究機関
      室蘭工業大学
  • 1.  佐藤 孝紀 (50235339)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  下妻 光夫 (70041960)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  田頭 博昭 (10001174)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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