渡邊健夫 WATANABE Takeo

… 別表記

渡辺健夫ワタナベタケオ

研究者番号	70285336
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所属 (現在)	2025年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 特任教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記	2014年度 – 2017年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 2010年度 – 2013年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授 2004年度 – 2005年度: 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助手 2003年度: 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助手 2001年度: 姫路工業大学, 高度産業化学技術研究所, 助教授 1999年度 – 2001年度: 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助手
審査区分/研究分野	研究代表者電子デバイス・電子機器研究代表者以外量子ビーム科学 / 応用光学・量子光工学 / 応用光学・量子光工学
キーワード	研究代表者 EUVリソグラフィ / 感度 / 半導体微細加工 / レジスト / 極端紫外線リソグラフィ / 軟Ｘ線吸収分光 / 高感度 / 金属レジスト / 化学増幅系レジスト / 非化学増幅系レジスト … もっと見る / 軟X線光電子分光 / アウトガス / LWR / 解像度 / EUVレジスト / 干渉霞光 / レジス / 微細加工技術 / 半導体 / line edge roughness / 化学増幅系 / 干渉露光 / 微細プロセス技術 … もっと見る研究代表者以外多層膜 / 軟X線 / 軟X線光学定数 / 偏光 / 軟Ｘ線 / PMMA / フォトダイオード / 反射率 / フィルター / 極端紫外線 / フォトレジスト / 吸収係数 / 透過率 / 光学定数 / Multilayer coating / Mirau Interferometer / Phase defect / Defect Inspection / EUV Lithography / Extreme Ultraviolet / X-ray microscope / ミラウ干渉計 / EUVリソグラフィー / 軟X線位相差顕微鏡 / ミラウ干渉 / 位相欠陥 / 欠陥検査 / EUVリソグラフィ / X線顕微鏡 / Wavefront error / Point Diffraction Interferometer / Lithography / Multilayer / Thin Film / Aspherical / Optical Element / Soft X-Rays / 表面粗さ / 内部応力 / X線 / 波面収差 / 点回折干渉法 / リソグラフィ / 薄膜 / 非球面 / 光学素子隠す

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定
- 研究代表者
  
  木下博雄
- 研究期間 (年度)
  2015 – 2017
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  量子ビーム科学
- 研究機関
  兵庫県立大学
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発研究代表者
- 研究代表者
  
  渡邊健夫
- 研究期間 (年度)
  2013 – 2015
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  兵庫県立大学
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成研究代表者
- 研究代表者
  
  渡邊健夫
- 研究期間 (年度)
  2010 – 2012
- 研究種目
  
  基盤研究(B)
- 研究分野
  
  電子デバイス・電子機器
- 研究機関
  兵庫県立大学
極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察
- 研究代表者
  
  木下博雄
- 研究期間 (年度)
  2003 – 2005
- 研究種目
  
  基盤研究(A)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  兵庫県立大学
   姫路工業大学
薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製
- 研究代表者
  
  新部正人
- 研究期間 (年度)
  1999 – 2001
- 研究種目
  
  基盤研究(C)
- 研究分野
  
  応用光学・量子光工学
- 研究機関
  姫路工業大学

[図書] フォトポリマー懇話会、ニュースレター2015
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、共著
- 総ページ数
  8
- 出版者
  フォトポリマー懇話会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[図書] レジストプロセスの最適化テクニック2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫, 他
- 出版者
  情報機構
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[図書] レジストプロセスの最適化テクニック、～微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術～2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 総ページ数
  557
- 出版者
  情報機構
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode2017
- 著者名/発表者名
  S. Niihara, D. Mamezaki, M. Watanabe, T. Harada, and T. Watanabe
- 雑誌名
  
  Journal of Photopolymer Science and Technology
  
  巻: 30 号: 1 ページ: 87-92
- DOI
  10.2494/photopolymer.30.87
- NAID
  130005950331
- ISSN
  0914-9244, 1349-6336
- 言語
  英語
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of a reflectometer for a large EUV mirror in NewSUBARU2015
- 著者名/発表者名
  Haruki Iguchi, Hiraku Hashimoto, Masaki Kuki, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 9658 ページ: 965819-965819
- オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015
- 著者名/発表者名
  Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 525-529
- NAID
  130005101110
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015
- 著者名/発表者名
  Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 28 ページ: 530-536
- NAID
  130005101111
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of element technologies for EUVL2015
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshita, Takeo Watanabe and Tetsuo Harada
- 雑誌名
  
  Adv. Opt. Techn
  
  巻: 4(4) ページ: 319-331
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity　Achievement2014
- 著者名/発表者名
  Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino,Tsubasa Fukui, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 27 ページ: 631-638
- 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Study of Acid Diffusion Behaviors of PAG by Using Top Coat Method for EUVL2014
- 著者名/発表者名
  Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 27 ページ: 623-629
- NAID
  130004691094
- 査読あり / オープンアクセス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 635-642
- NAID
  130004465045
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Comparison of Resist Family Outgassing Characterization between EUV and EB2013
- 著者名/発表者名
  Isamu Takagi, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Kazuhiro Katayam, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichiro Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolym. Sci. Technol.
  
  巻: 26 ページ: 673-678
- NAID
  130004465050
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Development of Tool for Contamination Layer Thickness Measurement Using High Power Extreme Ultraviolet Light and in Situ Ellipsometer2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Norihiko Sugie, Hiroyuki Tanaka, Eishi Shiobara, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 52 号: 5R ページ: 056701-056701
- DOI
  10.7567/jjap.52.056701
- NAID
  210000142182
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[雑誌論文] Comparison of Resist Outgassing Characterization between High Power EUV and EB2012
- 著者名/発表者名
  Norihiko Sugie, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 617-624
- NAID
  130004833488
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Chemical Reaction Analysis of EUV CA Resist using SR Absorption Spectroscopy2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol
  
  巻: 25 ページ: 569-574
- NAID
  130004833480
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material Based on Noria (Water Wheel-like Macrocycle) Derivatives with Pendant Alkoxyl and Adamantyl Ester Groups2012
- 著者名/発表者名
  Hiroto Kudo, Nobumitsu Niina, Tomoharu Sato, Hiroaki Oizumi, Toshiro Itani, Takuro Miura, Takeo Watanabe and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 587-592
- NAID
  130004833483
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV リソグラフィ研究開発センターにおけるリソグラフィ開発2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 雑誌名
  
  クリーンテクノロジー
  
  巻: 22 ページ: 1-5
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Chemical Reaction Analysis of EUV CA Resist using SR Absorption Spectroscopy2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yuichi Haruyama, Daiju Shiono, Kazuya Emura, Takuro Urayama, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 25 ページ: 569-574
- NAID
  130004833480
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takuro Urayama, Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Naohiro Matsuda, Yasuyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 681-686
- NAID
  130004833387
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of interference lithography for 22 nm node and below2011
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Takafumi Iguchi, Takuro Urayama, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Microelectric Engineering
  
  巻: 88 ページ: 1944-1947
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] elationships between EUV resist outgassing and contamination deposition at Selete2011
- 著者名/発表者名
  Hiroaki Oizumi, Kazuyuki Matsumaro, Satoshi Nomura, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takeo Watanabe, Naohiro Matsuda, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc. SPIE
  
  巻: 7969
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Transmission Grating Fabrication for Replicating Resist Patterns of 20 nm and Below2011
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 50
- NAID
  210000070661
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] In-situ Contamination Thickness Measurement by Novel Resist Evaluation System at NewSUBARU2011
- 著者名/発表者名
  Naohiro Matsuda, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita, Hiroaki Oizumi, and Toshiro Itani
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 50
- NAID
  210000070653
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUVレジスト材料開発の現状と将来展望について、先端リソグラフィの展望2010
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、木下博雄
- 雑誌名
  
  第19回光反応・電子用材料研究会講座講演予稿集、高分子学会
  
  ページ: 14-17
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Fundamental Decomposition Analysis of Chemically Amplified Molecular Resist for below 22 nm Resolution2010
- 著者名/発表者名
  aiju Shiono, Hideo Hada, Kazufumi Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 649-656
- NAID
  130004464848
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] EUV interference lithography for 22 nm node and below2010
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Teruhiko Kimura, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 673-680
- NAID
  130004464851
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Decomposition and Roughness Analysis of Chemically Amplified Molecular Resist for Reducing LWR2010
- 著者名/発表者名
  Daiju Shiono, Hideo Hada, Kazufumi Sato, Yasuyuki Fukushima, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Fabrication process of EUV -IL transmission grating2010
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yakusyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 雑誌名
  
  J. Photopolymer Sci. Technol.
  
  巻: 23 ページ: 681-386
- NAID
  130004464852
- URL
  http://www.photoplolymer.org
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Development of Extreme Ulytaviolet Interference Lithography System2010
- 著者名/発表者名
  Y. Fukushima, Naqoki. Sakagami, Teruhiko Kimura, Yoshito Kamaji, Takafumi Iguchi, Y. Yamaguchi, Masaki Tada, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn. J. Appl. Phys.
  
  巻: 49
- 査読あり
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[雑誌論文] Phase defect observation using an EUV microscope2008
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, N.Sakaya, T.shoki, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  SPIE
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Reducing off Hyderocarbon Contaminations for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  Y.Tanaka, K.Hamamoto, T.watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5547-5551
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic Mask Inspection Using an EUV Microscope -Preparation of a Mirau Interferometer for Phase-defect Detection-2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, H.Kawashima, S.Y.Lee, N.Hosokawa, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5474-5478
- NAID
  10016677217
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Low-Molecular-Weight Resist for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  H.Hada, T.Hirayama, D.Shino, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5824-5828
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Novel Resist Evaluation System for EUV Resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, N.Sakaya, T.Shoki, S.Y.Lee
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5556-5559
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Reducing off Hydrocarbon Contaminants for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  Y.Tanaka, K.Hamamoto, H.Tsubakino, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5547-5551
- NAID
  10016677385
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of Beam Splitter Using Multilayer Membrane for Extreme Ultraviolet Phase-Shift Microscopes2005
- 著者名/発表者名
  N.Hosokawa, T.Watanabe, N.Sakaya, T.Shoki, K.Hamamoto, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5540-5543
- NAID
  10016677365
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Cleaning of extreme ultraviolet lithography optics and masks using 13.5 nm and 172 nm radiation2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Hada, N.Hishinuma, H.Sugahara, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23
  
  ページ: 247-251
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究(第2報) コヒーレント長が測定精度に及ぼす影響2005
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌第71巻第8号
  
  ページ: 1031-1035
- NAID
  10016679113
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mask Defect Inspection using EUV Microscope2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, S.Y.Lee, N.Hosokawa, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. 23,6B
  
  ページ: 2852-2855
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of Beam Splitter Using Multilayer Membrane For Extreme Ultraviolet Ohase-shift Microscopes2005
- 著者名/発表者名
  N.Hosokawa, K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5540-5543
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Novel resist evaluation system for EUV resist2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, N.Sakaya, T.Shoki, S.Y.Lee
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5556-5559
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic Mask Inspection Using an EUV Microscope2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5474-5478
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] マグネシウムおよびマグネシウム合金のガス放出特性2005
- 著者名/発表者名
  田中弓弦, 木下博雄, 渡邊健夫, 劉莉, 椿野晴繁
- 雑誌名
  
  軽金属 55-9
  
  ページ: 412-413
- NAID
  130004481784
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究2005
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 71-8
  
  ページ: 1031-1035
- NAID
  110001373589
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] マグネシウムおよびマグネシウム合金のガス放出特性2005
- 著者名/発表者名
  田中弓弦, 木下博雄, 渡邊健夫, 劉莉, 椿野晴繁
- 雑誌名
  
  軽金属 55,9
  
  ページ: 412-413
- NAID
  130004481784
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Cleaning of extreme ultraviolet lithography optics and masks using 13.5 nm and 172 nm radiation2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Hada, N.Hishinuma, H.Sugahara, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B23-1
  
  ページ: 247-251
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of fast photospeed chemically amplified resist in EUVL2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, N.Sakaya, T.Shoki, S.Y.Lee
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5866-5870
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mask Defect Inspection using EUV Microscope2005
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, S.Y.Lee, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol 23-6
  
  ページ: 2852-2855
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Reducing off Hyderocarbon Contaminations for EUVL2005
- 著者名/発表者名
  Y.Tanaka, K.Hamamoto, T.Watanabe, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 44, 7B
  
  ページ: 5547-5551
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Low-Molecular-Weight Resists for Extreme Ultraviolet Lithography,2005
- 著者名/発表者名
  H.Hideo, T.Hirayama, D.Shiono, J.Onodera, T.Watanabe, S.Y.Lee, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5824-5828
- NAID
  10016678315
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Development of Fast Photospeed Chemically Amplified Resist in EUV Lithography,2005
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Hada, S.Y.Lee, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 44
  
  ページ: 5866-5870
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic mask metrology for extreme ultraviolet lithography2004
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita, T.Haga, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Shoki, M.Endo, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22(1)
  
  ページ: 264-267
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mitigation of Low Outgassing and Small Line Edge roughness for EUVL Resist2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17,3
  
  ページ: 361-366
- NAID
  40006276558
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mitigation of Low Outgassing and Small Line Edge Roughness for EUVL Resist2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 361-366
- NAID
  40006276558
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Mitigation of Low Outgassing and Small Line Edge Roughness for EUVL Resist2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, H.Kinoshita, K.Hamamoto, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17,3
  
  ページ: 361-366
- NAID
  40006276558
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Resist Outgassing Characteristics in EUVL2004
- 著者名/発表者名
  F.Watanabe, K.Hamamoto, H.Kinoshita, H.hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 43
  
  ページ: 3713-3717
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Structural Materials and the Removal of Contaminants from EUVL Masks using 172-nm Radiation2004
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Sugahara, N.Hishinuma, H.Hada, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17
  
  ページ: 367-372
- NAID
  130004464356
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Resist Outgassing Charateristics in EUVL2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, K.Hamamoto, H.Kinoshita, H.hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 43
  
  ページ: 3713-3717
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Resist Outgassing Characteristics in Extreme Ultraviolet Lithography,2004
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, K.Hamamoto, H.Kinoshita, H.Hada, H.Komano
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 43
  
  ページ: 3713-3717
- NAID
  10013275620
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Actinic Mask Inspection Using EUV Microscope2004
- 著者名/発表者名
  H.Kinoshita, T.Haga, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Shoki, M.Endo, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  J.Vac.Sci.Technol. B22
  
  ページ: 264-267
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Outgassing Characteristics of Structural Materials and the Removal of Contaminants from EUVL Masks using 172-nm Radiation2004
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, Y.Tanaka, T.Watanabe, N.Sakaya, M.Hosoya, T.Shoki, H.Sugahara, N.Hishinuma, H.Hada, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 17,3
  
  ページ: 367-372
- NAID
  130004464356
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究2003
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌第69巻第8号
  
  ページ: 1170-1175
- NAID
  110001373589
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] 光ファイバーを用いた点回折干渉計に関する研究2003
- 著者名/発表者名
  格内敏, 木下博雄, 渡邊健夫, 坂本亨
- 雑誌名
  
  精密工学会誌 69,8
  
  ページ: 1170-1175
- NAID
  110001373589
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Investigation of Contamination Removal from Finished EUVL Mask2003
- 著者名/発表者名
  K.Hamamoto, S.Takada, T.Watanabe, N.Sakaya, T.Shoki, M.Hosoya, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  J.Photopolym.Sci.Technol. 16,3
  
  ページ: 395-400
- NAID
  130004464266
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Pattern Inspection of EUV Mask using a EUV Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, T.Haga, T.Shoki, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc.SPIE 5130
  
  ページ: 1005-1013
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Pattern Inspection of EUV Mask Using a EUV Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Watanabe, T.Haga, T.Shoki, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, H.Kinoshita
- 雑誌名
  
  Proc.SPIE 5130
  
  ページ: 1005-1013
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Evaluation of Finished EUVL Mask using a Mirau Intergerometric Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Haga, H.Kinoshita, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys. 42
  
  ページ: 3771-3775
- 説明
  「研究成果報告書概要(欧文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[雑誌論文] Evaluation of Finished EUVL Mask using a Mirau Intergerometric Microscope2003
- 著者名/発表者名
  T.Haga, H.Kinoshita, K.Hamamoto, S.Takada, N.Kazui, S.Kakunai, H.Tsubakino, T.Watanabe
- 雑誌名
  
  Jpn.J.Appl.Phys 42、6
  
  ページ: 3771-3775
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] ナノ平滑性とエッチング耐性を有するフォトレジストポリマー2006
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2006-066513
- 出願年月日
  2006
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 光学素子及び光学素子製造方法2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-360553
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 極端紫外線顕微鏡及び検査方法2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-246736
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] カリックスレゾルシナレン化合物並びにそれからなるEUV及び電子線レジスト2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 極端紫外線顕微鏡及び検査方法2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-246736
- 出願年月日
  2005
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] ナノ平滑性とエッチング耐性を有するフォトレジストポリマー2005
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2005-234801
- 出願年月日
  2005
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-044737
- 出願年月日
  2004
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物及びレジストパタン形成方法2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-262488
- 出願年月日
  2004
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-044737
- 出願年月日
  2004
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2004
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2004-100206
- 出願年月日
  2004
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2003
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2003-371111
- 出願年月日
  2003-10-30
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[産業財産権] 電子線又はEUV用レジスト組成物2003
- 発明者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 権利者名
  木下博雄, 渡邊健夫
- 産業財産権番号
  2003-362223
- 出願年月日
  2003-10-22
- 説明
  「研究成果報告書概要(和文)」より
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15206010
[学会発表] 大型反射率計によるEUV集光ミラーの評価2017
- 著者名/発表者名
  井口晴貴、橋本拓、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のワイドバンド多層膜偏光子の開発2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第30回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2017-01-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のMo/Siワイドバンド多層膜偏光子の開発,2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第64回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  横浜
- 年月日
  2017-03-14
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のMo/Siワイドバンド多層膜偏光子の開発,2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  先端技術セミナー
- 発表場所
  姫路
- 年月日
  2017-03-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用の垂直偏光制御機構の開発2017
- 著者名/発表者名
  原田哲男、井口晴貴、渡辺雅紀、渡邊健夫
- 学会等名
  第30回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  神戸
- 年月日
  2017-01-08
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode2017
- 著者名/発表者名
  Shota Niihara, Daiki Mamezaki, Masanori Watanabe, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 34th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST-34)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用のワイドバンド多層膜偏光子の開発2017
- 著者名/発表者名
  渡辺雅紀、井口晴貴、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] フォトダイオード直接塗布法による EUVレジストの高精度な吸収係数測定法2017
- 著者名/発表者名
  新原章汰、豆﨑大輝、渡辺雅紀、原田哲男、渡邊健夫
- 学会等名
  第78回応用物理学会秋季学術講演会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] EUV反射率計用の垂直偏光制御機構の開発2017
- 著者名/発表者名
  原田哲男、井口晴貴、渡辺雅紀、渡邊健夫
- 学会等名
  放射光学会年会
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-15H03592
[学会発表] 兵庫県立大学におけるEUVレジスト評価系の開発2016
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  第25回光反応･電子用材料研究会講座
- 発表場所
  東京理科大学森戸記念館（東京都新宿区）
- 年月日
  2016-01-20
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 微細加工用レジストの基本知識と活用法2016
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  情報機構セミナー
- 発表場所
  大田区産業プラザ(東京都大田区南蒲田)
- 年月日
  2016-10-19
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 軟Ｘ線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析2015
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  第12回SPring-8産業利用報告会
- 発表場所
  川崎市産業振興会館(神奈川県川崎市)
- 年月日
  2015-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015
- 著者名/発表者名
  Tsubasa Fukui, Hirohito Tanino, Yuki Fukuda, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita and Tetsuo Harada
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015
- 著者名/発表者名
  福田裕貴、福井　翼、谷野寛仁、九鬼真輝、渡邊健夫、木下博雄、原田哲男
- 学会等名
  NGLワークショップ2015
- 発表場所
  東京工業大学蔵前館（東京都目黒区）
- 年月日
  2015-07-06
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 12.5 nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作2015
- 著者名/発表者名
  福田裕貴, 福井翼、谷野寛仁, 原田哲男, 渡邊健夫
- 学会等名
  第76回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  名古屋国際会議場（愛知県名古屋市熱田区）
- 年月日
  2015-09-13
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Soft X-ray Absorption Spectroscopy using SR for EUV Resist Chemical Reaction Analysis2015
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  TWG EUV Ressit Workshop
- 発表場所
  Maastricht, Netherland
- 年月日
  2015-10-04
- 招待講演 / 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 軟Ｘ線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析2015
- 著者名/発表者名
  山口都太、石井暁大、渡邊健夫、九鬼正樹、原田哲男
- 学会等名
  第１回放射光産業利用支援講座
- 発表場所
  姫路駅前じばさんびる（兵庫県姫路市）
- 年月日
  2015-10-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 「計算」と「光」を融合した理論的分子設計が実現する近未来ものづくりプロセス、我が国の未来を拓く地域の実現に関する調査研究2015
- 著者名/発表者名
  畑　豊、渡邊健夫、横山和司、鶴田　宏
- 学会等名
  第12回SPring-8産業利用報告会
- 発表場所
  川崎市産業振興会館(神奈川県川崎市)
- 年月日
  2015-09-03
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 微細加工用レジスト2015
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  フォトポリマー講習会
- 発表場所
  東京理科大学森戸記念館（東京都新宿区）
- 年月日
  2015-08-19
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015
- 著者名/発表者名
  Makaski Kuki, Tomoyuki Uemura, Masato Yamaguchi, Testuo Harada, Takeo Watanabe, Yasuji Muramatsu and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 32nd International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  幕張メッセ（千葉県千葉市美浜区）
- 年月日
  2015-06-24
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] ニュースバルに於けるEUVレジスト用評価系の開発2015
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  第60回UV/EB研究会
- 発表場所
  大阪住友クラブ（大阪府大阪市西区）
- 年月日
  2015-09-18
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Fabrication of transmission grating of EUV interference lithography for 1X nm hp EUV resist evaluation2015
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  EUV International Sympoisum 2015
- 発表場所
  Maastricht, Netherland
- 年月日
  2015-10-06
- 国際共著/国際学会である
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Contribution of EUV resist components to the noncleanable contaminations2014
- 著者名/発表者名
  Eishi Shiobara, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Isamu Takagi, Kazuhiro Katayama, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Tetsuro Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  SPIE Advanced Lithography 2014
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUVL Activities in Japan2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Chemical Reaction Analysis by SR Absorption Spectroscopy to Increase the Acid Generation Efficiency of EUV CA Resist2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiju Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市））
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Development of the EUV Resist at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 3rd Sino-Japan Symposium on Information and Electronic Materials
- 発表場所
  Shanhai, China
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Development of the EUV Resist at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  he 3rd Sino-Japan Symposium on Information and Electronic Materials
- 発表場所
  Beijing, China
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Recent Activities of the Actinic Mask Inspection using the EUV Microscope at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Resist outgassing characterization of PAG-blended and PAG-bound systems2013
- 著者名/発表者名
  Kazuhiro Katayama, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学西千葉キャンパス（千葉県千葉市稲毛区）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Comparison of Resist Family Outgassing Characterization2013
- 著者名/発表者名
  Isamu Takagi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Norihiko Sugie, Yukiko Kikuchi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 30th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学西千葉キャンパス（千葉県千葉市稲毛区）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Study of the relation between Resist components and outgassing contamination species2013
- 著者名/発表者名
  Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Kazuhiro Katayama, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Hiroo Kinoshit
- 学会等名
  2013 Internationa Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
- 発表場所
  富山国際会議場（富山県富山市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] Recent Activities of the EUV Resist Research and Development at Center for EUVL2013
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  2013 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUVL 研究開発センターにおけるEUV レジストの開発(基調講演)、アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)、新材料開発最前線、微細パターン化技術2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  日本化学会第93春季年会(2013)
- 発表場所
  立命館大学びわこ・くさつキャンパス
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Recent Activities on EUVL in NewSUBARU (Invited talk)2012
- 著者名/発表者名
  Hiroo Kinoshia, Takeo Watanabe, and Tetsuo Harada
- 学会等名
  24th Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kobe Meriken Park Oriental Hotel, Kobe, Hyogo, Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Contamination Evaluation Tool by an In-situ Spectroscopic Ellipsometer with an Exposure of High Power EUV (Invited talk)2012
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Masaki Tada, Yukiko Kikuchi, Toshiya Takahashi, Kazuhiro Katayama, Norihiko Sugie, Isamu Takagi, Eishi Shiobara, Hiroyuki Tanaka, Soichi Inoue, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  Technical Working Group of EUV Resist Outgassing
- 発表場所
  Brussels Convention Center, Brussels, Belgium
- 年月日
  2012-09-30
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] レジストへのEUV光照射によるin-situカーボン膜厚測定2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫, 他
- 学会等名
  第25回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
- 発表場所
  鳥栖市民文化会館・中央公民館(佐賀県鳥栖市)
- 年月日
  2012-01-09
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 極端紫外線リソグラフィ技術開発の現状と今後の展望(招待講演)2012
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  リソグラフィセミナー(I)、セミフォーラムジャパン2012
- 発表場所
  グランキューブ大阪(大阪市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV Interference Lithography for 1Xnm2011
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, et al
- 学会等名
  2011 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA
- 年月日
  2011-06-15
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVL toward 16 nm and below (Invited), Interational Panel Symposium2011
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 28th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV リソグラフィ-研究開発センターにおけるリソグラフィー開発(招待講演)、アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫、原田哲男、木下博雄
- 学会等名
  次世代リソグラフィ、日本化学会第91 春季年会
- 発表場所
  神奈川大学(神奈川)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVL研究開発センターにおける研究開発(招待講演) 、微細化ブレイクセミナー(I)2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  セミフォーラムジャパン2011
- 発表場所
  グランキューブ大阪(大阪市)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV R&D Status in Japan2011
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, et al
- 学会等名
  2011 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui, Hawaii, USA(Invited)
- 年月日
  2011-06-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVL研究開発センターにおける研究開発2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  セミフォーラムジャパン2011
- 発表場所
  グランキューブ大阪(大阪市北区)(招待講演)
- 年月日
  2011-05-31
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVL toward 16nm and below2011
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 28^<th> International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学(千葉市稲毛区)(Invited)
- 年月日
  2011-06-22
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVリソグラフィ-研究開発センターにおけるリソグラフィー開発2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  日本化学会第91春季年会
- 発表場所
  神奈川工科大学
- 年月日
  2011-03-24
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVレジストの開発～20nm以下のパターン形成をめざして～ (招待講演)2011
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  第3回リソグラフィ次世代技術調査専門委員会
- 発表場所
  日本交通協会特別談話室、東京
- 年月日
  2011-09-16
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takuro Urayama, Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Naohiro Matsuda, Yasuyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 28th International Conference ofPhotopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV Interference Lithography for 1X nm2011
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe, Yuya Yamaguchi, Takuro Urayama, Naohiro Matsuda, Tetsu Harada and Hiroo Kinosita
- 学会等名
  2011 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Makena Beach and Golf Resort, Maui, Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Fabrication process of EUV-IL transmission grating2010
- 著者名/発表者名
  Yuya Yamaguchi, Yakusyuki Fukushima, Takafumi Iguchi, Hiroo Kinoshita, Tetsuo Harada, and Takeo Watanabe
- 学会等名
  The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV interference lithography for 22 nm node and below2010
- 著者名/発表者名
  Yasuyuki Fukushima, Yuya Yamaguchi, Teruhiko Kimura, Takafumi Iguchi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 27th International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  Chiba Univ., Japan
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Development of the Novel Evaluation Tool with an In-situ Ellipsometer for the Thickness Measurement of the Contamination Originated by the High Power EUV Irradiation on EUV Resist
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  2012 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui Sheraton Beach and Resort (Hawaii, USA)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 非化学増幅系EUVレジストの低温現像による解像性能向上
- 著者名/発表者名
  山口太都，江村和也，福井翼，谷野寛仁，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄，星野亮一
- 学会等名
  NGLワークショップ2014
- 発表場所
  東京工業大学蔵前ホール　東京都目黒区大岡山２丁目１２－１
- 年月日
  2014-07-17 – 2014-07-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] (136)Study of Acid Diffusion Behaves Form PAG by Using Top Coat Method for EUVL
- 著者名/発表者名
  Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe, and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  千葉大学けやき会館　千葉県千葉市稲毛区弥生町1－33
- 年月日
  2014-07-08 – 2014-07-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 10 nm 級 EUV 干渉露光用透過型回折格子の製作
- 著者名/発表者名
  福井　翼，谷野寛仁，福田裕貴，原田哲男，渡邊健夫，木下博雄
- 学会等名
  第75回応用物理学会学術講演会
- 発表場所
  北海道大学札幌キャンパス　北海道札幌市北区北８条西５丁目
- 年月日
  2014-09-17 – 2014-09-20
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] EUVL 研究開発センターにおけるEUV レジストの開発(基調講演)
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  アドバンスト・テクノロジー・プログラム(ATP)、新材料開発最前線
- 発表場所
  立命館大学びわこ・くさつキャンパス（滋賀県草津市）
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 1Xnm級EUVレジストの開発〜精密な光反応制御への挑戦〜
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  兵庫県立大学シンポジウム
- 発表場所
  イーグレ姫路（兵庫県姫路市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] The Mitigation of EUV Resist for the High Sensitivity and the Effect of Acid Diffusion for LWR on the basis of the Chemical Reaction Analysis
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  2012 EUVL International Symposium
- 発表場所
  Brussels Convention Center (Brussels, Belgium)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV Resist Chemical Reaction Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement
- 著者名/発表者名
  Kazuya Emura, Takeo Watanabe, Daiju Shiono, Masato Yamaguchi, Hirohito Tanino, TsubasaFukui, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada,and Hiroo Kinoshita
- 学会等名
  The 31st International Conference of Photopolymer Science and Technology
- 発表場所
  San Jose, California, USA
- 年月日
  2014-07-08 – 2014-07-11
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] 脱保護反応に起因した膜減量評価による化学増幅系EUV用レジストの反応解析
- 著者名/発表者名
  江村和也，渡邊健夫，山口太都，谷野寛仁，福井翼，塩野大寿，春山雄一，村松康司，大森克実，佐藤和史，原田哲男，木下博雄
- 学会等名
  NGLワークショップ2014
- 発表場所
  東京工業大学蔵前ホール　東京都目黒区大岡山２丁目１２－１
- 年月日
  2014-07-17 – 2014-07-18
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-25289106
[学会発表] The Analytical Mitigation of EUV Resist for the High Sensitivity and the Low LWR using SR Absorption Spectroscopy
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  24th Microprocesses and Nanotechnology Conference
- 発表場所
  Kobe Merikepark Oriental Hotel (Kobe, Hyogo)
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUV resist research at the Center for EUVL
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  International Advanced Nanopatterning Materials and Processes Workshop 2012
- 発表場所
  Waseda Univ. Int. Conference Center (Tokyo)
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Contamination Evaluation Tool by an In-situ Spectroscopic Ellipsometer with an Exposure of High Power EUV (Invited)
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  Technical Working Group of EUV Resist Outgassing, IEUVI
- 発表場所
  Brussels Convention Center (Brussels, Belgium)
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] EUVレジストの高感度化について
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  2013年第60回応用物理学会春季学術講演会
- 発表場所
  神奈川工科大（神奈川県厚木市）
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 極端紫外線リソグラフィ技術開発の現状と今後の展望(招待講演)
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  セミフォーラムジャパン2012、リソグラフィセミナー(I)
- 発表場所
  グランキューブ大阪（大阪市）
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] Chemical Reaction Analysis based on the SR Absorption Spectroscopy for the High Sensitive EUV Resist
- 著者名/発表者名
  Takeo Watanabe
- 学会等名
  2012 International Workshop on EUV Lithography
- 発表場所
  Maui Sheraton Beach and Resort (Hawaii, USA
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146
[学会発表] 吸収分光法を用いたEUVレジストの反応解析例
- 著者名/発表者名
  渡邊健夫
- 学会等名
  EUV産業利用報告会
- 発表場所
  じばさんビル3F, 兵庫県立大学産学連携機構会議室（兵庫県姫路市）
- 招待講演
- データソース
  KAKENHI-PROJECT-22360146

1. 木下博雄 (50285334)

共同の研究課題数: 5件

共同の研究成果数: 85件
2. 原田哲男 (30451636)

共同の研究課題数: 3件

共同の研究成果数: 54件
3. 新部正人 (10271199)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
4. 村松康司 (50343918)

共同の研究課題数: 2件

共同の研究成果数: 0件
5. 格内敏 (10101130)

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 10件
6. 塩野大寿

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 3件
7. 武藤正雄

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件
8. 津野勝重

共同の研究課題数: 1件

共同の研究成果数: 0件

渡邊 健夫 WATANABE Takeo

渡辺 健夫 ワタナベ タケオ

研究課題

研究成果

共同研究者

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成研究代表者

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製

研究代表者

研究期間 (年度)

研究種目

研究分野

研究機関

[図書] フォトポリマー懇話会、ニュースレター2015

著者名/発表者名

総ページ数

出版者

データソース

[図書] レジストプロセスの最適化テクニック2011

著者名/発表者名

出版者

データソース

[図書] レジストプロセスの最適化テクニック、～微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術～2011

著者名/発表者名

総ページ数

出版者

データソース

[雑誌論文] Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode2017

著者名/発表者名

雑誌名

DOI

NAID

ISSN

言語

データソース

[雑誌論文] Development of a reflectometer for a large EUV mirror in NewSUBARU2015

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Development of Transmission Grating for EUV Interference Lithography of 1X nm HP2015

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Development of High=Reflective W/Si-multilayer Diffraction Grating for the Analysis of Fluorine Materials2015

著者名/発表者名

雑誌名

NAID

データソース

[雑誌論文] Development of element technologies for EUVL2015

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity Achievement2014

著者名/発表者名

雑誌名

データソース

[雑誌論文] Study of Acid Diffusion Behaviors of PAG by Using Top Coat Method for EUVL2014

渡邊健夫 WATANABE Takeo

渡辺健夫ワタナベタケオ

[雑誌論文] (169)EUV Resist Chemical Analysis by Soft X-ray Absorption Spectroscopy for High Sensitivity　Achievement2014