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村田 順二  MURATA Junji

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 70531474
その他のID
所属 (現在) 2025年度: 立命館大学, 理工学部, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2023年度 – 2024年度: 立命館大学, 理工学部, 教授
2019年度 – 2022年度: 立命館大学, 理工学部, 准教授
2016年度 – 2017年度: 近畿大学, 理工学部, 准教授
2014年度 – 2015年度: 近畿大学, 理工学部, 講師
2012年度 – 2013年度: 立命館大学, 理工学部, 助教
2010年度: 立命館大学, 理工学部, 助教
2009年度: 大阪大学, 工学研究科, リサーチアシスタント
審査区分/研究分野
研究代表者
生産工学・加工学 / 小区分18020:加工学および生産工学関連 / 中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
キーワード
研究代表者
固体電解質 / 陽極酸化 / 研磨加工 / 研磨 / 窒化ガリウム / 電解酸化 / 電気化学機械研磨 / 高分子電解質 / エッチング / 精密研磨 … もっと見る / 表面改質 / アノード溶解 / パターニング / SiC / 砥粒 / パワー半導体 / 炭化ケイ素 / ポリシング / 微細加工 / ワイドギャップ半導体 / 光ファイバ / 光照射援用加工 / スライシング / 半導体 / 切断 / 太陽電池 / 切断加工 / 発光特性 / 平坦化 / 触媒 / 酸・塩基触媒 / 光電気化学反応 / 固体酸・塩基触媒 / 光電気化学プロセス / 平坦化加工 / 固体酸触媒 / 光電気化学 隠す
  • 研究課題

    (6件)
  • 研究成果

    (85件)
  • 共同研究者

    (3人)
  •  固体電解質を用いた環境調和型電気化学機械研磨のメカニズム解明と技術体系の構築研究代表者

    • 研究代表者
      村田 順二
    • 研究期間 (年度)
      2023 – 2025
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 審査区分
      小区分18020:加工学および生産工学関連
    • 研究機関
      立命館大学
  •  固体電解質のイオン輸送を用いた環境調和型電気化学表面プロセスの開発研究代表者

    • 研究代表者
      村田 順二
    • 研究期間 (年度)
      2023 – 2024
    • 研究種目
      挑戦的研究(萌芽)
    • 審査区分
      中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
    • 研究機関
      立命館大学
  •  固体電解質を用いたGaN表面の電解援用ドライポリシングの開発研究代表者

    • 研究代表者
      村田 順二
    • 研究期間 (年度)
      2019 – 2022
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分18020:加工学および生産工学関連
    • 研究機関
      立命館大学
  •  低カーフロス・薄型太陽電池Siウェハを実現する触媒援用化学的スライシングの開発研究代表者

    • 研究代表者
      村田 順二
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2017
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      近畿大学
  •  次世代オプトエレクトロニクス基板の原子スケール平坦化技術の開発研究代表者

    • 研究代表者
      村田 順二
    • 研究期間 (年度)
      2012 – 2014
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      近畿大学
      立命館大学
  •  光電気化学プロセスを利用した窒化ガリウム超平坦面作製技術の開発研究代表者

    • 研究代表者
      村田 順二
    • 研究期間 (年度)
      2009 – 2010
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      立命館大学
      大阪大学

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すべて 雑誌論文 学会発表 図書 産業財産権

  • [図書] 生産加工入門2014

    • 著者名/発表者名
      谷泰弘、村田順二
    • 総ページ数
      191
    • 出版者
      数理工学社
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24760110
  • [雑誌論文] Ultrafast Solid‐State Electrochemical Imprinting Utilizing Polymer Electrolyte Membrane Stamps for Static/Dynamic Structural Coloration and Letter Encryption2024

    • 著者名/発表者名
      Yamazaki Katsuma, Tsuji Atsuki, Takizawa Masaru, Murata Junji
    • 雑誌名

      Small Methods

      巻: In press 号: 12 ページ: 2301787-2301787

    • DOI

      10.1002/smtd.202301787

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725, KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [雑誌論文] Cu Direct Nanopatterning Using Solid‐State Electrochemical Dissolution at the Anode/Polymer Electrolyte Membrane Interface2024

    • 著者名/発表者名
      Tsuji Atsuki, Morimoto Eita, Takizawa Masaru, Murata Junji
    • 雑誌名

      Advanced Materials Interfaces

      巻: 11 号: 9

    • DOI

      10.1002/admi.202300896

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [雑誌論文] Environment-friendly electrochemical mechanical polishing using solid polymer electrolyte/CeO2 composite pad for highly efficient finishing of 4H-SiC (0001) surface2023

    • 著者名/発表者名
      Murata Junji, Hayama Kenshin, Takizawa Masaru
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 625 ページ: 157190-157190

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2023.157190

    • 査読あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117, KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [雑誌論文] Direct micropatterning on a titanium surface through electrochemical imprint lithography with a polymer electrolyte membrane stamp2022

    • 著者名/発表者名
      Jia Pengfei、Umezaki Ryohei、Murata Junji
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering

      巻: 257 ページ: 111752-111752

    • DOI

      10.1016/j.mee.2022.111752

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [雑誌論文] Improvement in the polishing characteristics of titanium-based materials using electrochemical mechanical polishing2022

    • 著者名/発表者名
      Tsuji Atsuki, Jia Pengfei, Takizawa Masaru, Murata Junji
    • 雑誌名

      Surfaces and Interfaces

      巻: 35 ページ: 102490-102490

    • DOI

      10.1016/j.surfin.2022.102490

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [雑誌論文] High-efficiency wafer-scale finishing of 4H-SiC (0001) surface using chemical-free electrochemical mechanical method with a solid polymer electrolyte2021

    • 著者名/発表者名
      Zulkifle Che Nor Syahirah Binti Che、Hayama Kenshin、Murata Junji
    • 雑誌名

      Diamond and Related Materials

      巻: 120 ページ: 108700-108700

    • DOI

      10.1016/j.diamond.2021.108700

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [雑誌論文] Electrochemical imprint lithography on Si surface using a patterned polymer electrolyte membrane2021

    • 著者名/発表者名
      Umezaki Ryohei、Murata Junji
    • 雑誌名

      Materials Chemistry and Physics

      巻: 259 ページ: 124081-124081

    • DOI

      10.1016/j.matchemphys.2020.124081

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [雑誌論文] Investigation of Electrolytic Condition on Abrasive-Free Electrochemical Mechanical Polishing of 4H-SiC Using Ce Thin Film2020

    • 著者名/発表者名
      Murata Junji、Nagatomo Daiki
    • 雑誌名

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 9 号: 3 ページ: 034002-034002

    • DOI

      10.1149/2162-8777/ab7672

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [雑誌論文] ウェットエッチングを利用したSiの砥粒フリースライシング2018

    • 著者名/発表者名
      村田順二
    • 雑誌名

      光アライアンス

      巻: 5

    • NAID

      130006063847

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [雑誌論文] Polishing-pad-free electrochemical mechanical polishing of single-crystalline SiC surfaces using polyurethane-CeO2 core-shell particles2017

    • 著者名/発表者名
      J. Murata, K. Yodogawa and K. Ban
    • 雑誌名

      International Journal of Machine Tools and Manufacture

      巻: 114 ページ: 1-7

    • DOI

      10.1016/j.ijmachtools.2016.11.007

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [雑誌論文] ウェットエッチングを利用したSiの砥粒フリースライシング2017

    • 著者名/発表者名
      MURATA Junji
    • 雑誌名

      精密工学会誌

      巻: 83 号: 9 ページ: 837-840

    • DOI

      10.2493/jjspe.83.837

    • NAID

      130006063847

    • ISSN
      0912-0289, 1882-675X
    • 言語
      日本語
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [雑誌論文] Photo-electrochemical etching of free-standing GaN wafer surfaces grown by hydride vapor phase epitaxy2015

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Shun Sadakuni
    • 雑誌名

      Electrochimica Acta

      巻: 掲載決定 ページ: 89-95

    • DOI

      10.1016/j.electacta.2015.04.166

    • 査読あり / 謝辞記載あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24760110
  • [雑誌論文] Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments2014

    • 著者名/発表者名
      Azusa N. Hattori et al.
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 53 号: 2 ページ: 0210011-5

    • DOI

      10.7567/jjap.53.021001

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24656101, KAKENHI-PROJECT-24686020, KAKENHI-PROJECT-24760110
  • [雑誌論文] Bias-assisted photochemical planarization of GaN (0001) substrate with damage layer2013

    • 著者名/発表者名
      定國 峻
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: VOL.. 52 号: 3R ページ: 365041-365044

    • DOI

      10.7567/jjap.52.036504

    • NAID

      40019617091

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-11J00707, KAKENHI-PROJECT-24760110
  • [雑誌論文] Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst2012

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Shun Sadakuni, Takeshi Okamoto, Azusa N. Hattori, Keita Yagi, Yasuhisa Sano, Kenta Arima, Kazuto Yamauchi
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 349 号: 1 ページ: 83-88

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2012.04.007

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24760110
  • [雑誌論文] Influence of gallium additives on surface roughness for photoelectrochemical planarization of GaN2011

    • 著者名/発表者名
      Shun Sadakuni, Junji Murata, et.al
    • 雑誌名

      Physica status solidi (C)

      巻: (印刷中(掲載確定))

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Efficient Wet Etching of GaN (0001) Substrate with Subsurface Damage Layer2011

    • 著者名/発表者名
      Shun Sadakuni, Junji Murata, et.al
    • 雑誌名

      Journal of Nanoscience and Nanotechnology

      巻: 11 ページ: 2979-2982

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] fficient wet etching of GaN (0001) substrate with subsurface damage layer2011

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, Y.Sano, K.Arima, A.N.Hattori, T.Okamoto, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Journal of Nanoscience and Nanotechnology 11

      ページ: 2979-2982

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Influence of gallium additives on surface roughness for photoelectrochemical planarization of GaN2011

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, Y.Sano, K.Arima, T.Okamoto, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi (C) (印刷中)

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Improved Optical and Electrical Characteristics of Free-standing GaN substrates by Chemical Polishing Utilizing Photo-Electrochemical Method2011

    • 著者名/発表者名
      J.Murata, Y.Shirasawa, Y.Sano, S.Sadakuni, K.Yagi, T.Okamoto, A.N. Hattori, K.Arima, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Journal of Nanoscience and Nanotechnology 11

      ページ: 2882-2885

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Improved Optical and Electrical Characteristics of Free-Standing GaN Substrates by Chemical Polishing Utilizing Photo-Electrochemical Method2011

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Yuki Shirasawa, et.al
    • 雑誌名

      Journal of Nanoscience and Nanotechnology

      巻: 11 ページ: 2882-2885

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Influence of the UV Light Intensity on the Photoelectrochemical Planarization technique for Gallium Nitride2010

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, Y.Sano, K.Arima, A.N.Hattori, T.Okamoto, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Materials Science Forum 645-648

      ページ: 795-798

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Planarization of GaN (0001) Surface by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalys2010

    • 著者名/発表者名
      J.Murata, S.Sadakuni, K.Yagi, Y.Sano, T.Okamoto, K.Arima, A.N.Hattori, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 48

      ページ: 12100101-12100104

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Reduction of surface roughness of 4H-SiC by catalyst-referred etching2010

    • 著者名/発表者名
      T.Okamoto, Y.Sano, H.Hara, T.Hatayama, K.Arima, K.Yagi, J.Murata, S.Sadakuni, K.Tachibana, Y.Shirasawa, H.Mimura, T.Fuyuki, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Materials Science Forum 645-648

      ページ: 775-778

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [雑誌論文] Planarization of GaN(0001) Surfaces by Photo-Electrochemical Method with Solid Acidic or Basic Catalyst2009

    • 著者名/発表者名
      J.Murata, S.Sadakuni, K.Yagi, Y.Sano, T.Okamoto, K.Arima, A.N.Hattori, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 48

    • NAID

      40016890466

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [産業財産権] 研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法2021

    • 発明者名
      村田順二ほか
    • 権利者名
      サイオクス
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2021-022970
    • 出願年月日
      2021
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [産業財産権] 研磨用パッド、導電性半導体基板の製造方法および研磨方法2021

    • 発明者名
      村田順二、巴山顕真、堀切文正
    • 権利者名
      株式会社サイオクス
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2021-133059
    • 出願年月日
      2021
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [産業財産権] 研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法2020

    • 発明者名
      村田順二ほか
    • 権利者名
      (株)サイオクス
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2020-025916
    • 出願年月日
      2020
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [産業財産権] 研磨具及び研磨装置2013

    • 発明者名
      佐野泰久、山内和人、村田順二、岡本武志、定國峻、八木圭太
    • 権利者名
      大阪大学、荏原製作所
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2013-10-16
    • 取得年月日
      2015-01-23
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24760110
  • [産業財産権] 研磨方法及び研磨装置2009

    • 発明者名
      佐野泰久, 山内和人, 村田順二, 定國峻, 八木圭太
    • 権利者名
      大阪大学, 荏原製作所
    • 公開番号
      2010-251699
    • 出願年月日
      2009-12-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] 固体電解質膜/Cu界面の固相陽極溶解を利用した微細パターンの形成2024

    • 著者名/発表者名
      辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      電気化学会第91回大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質を用いた固相電解加工によるCu段差解消性能の評価2024

    • 著者名/発表者名
      中谷有志、辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      2024年度精密工学会春季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] 高分子電解質を用いた固相電解加工によるCu段差解消性能の評価2024

    • 著者名/発表者名
      中谷有志、辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      2024年度精密工学会春季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質を用いた半固定砥粒パッドによる SiC の ECMP 特性2023

    • 著者名/発表者名
      稲田直希,村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 固体電解質のイオン輸送を用いたCuの全固相電気化学パターニングにおける加工条件の影響2023

    • 著者名/発表者名
      辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会・2023年度精密工学会秋季大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質膜を用いた電気化学的表面処理による微小液滴作製2023

    • 著者名/発表者名
      植村采奈、小川優姫菜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質膜を用いた電気化学インプリントの開発―アルカリエッチングの併用による微細構造制御―2023

    • 著者名/発表者名
      山﨑克真、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 電解酸化を援用した触媒基準エッチングの基礎検討2023

    • 著者名/発表者名
      巳波福也、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] 固体電解質膜を用いた電気化学インプリントにおけるパターン精度の向上2023

    • 著者名/発表者名
      山﨑克真、辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会・2023年度精密工学会秋季大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] 高分子電解質膜を用いた電気化学的表面処理による微小液滴作製2023

    • 著者名/発表者名
      植村采奈、小川優姫菜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] 高分子電解質膜を用いた電気化学的表面処理による濡れ性コントラストの作製2023

    • 著者名/発表者名
      植村采奈、小川優姫菜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会・2023年度精密工学会秋季大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] Direct micropatterning of Cu using polymer electrolyte membrane stamp2023

    • 著者名/発表者名
      A. Tsuji, J. Murata
    • 学会等名
      InternationalConference on Precision Engineering and Sustainable Manufacturing(PRESM)2023
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] 高分子電解質のイオン輸送を利用したダマシン配線の形成2023

    • 著者名/発表者名
      中谷有志、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 電解酸化を援用した触媒基準エッチングの基礎検討2023

    • 著者名/発表者名
      巳波福也、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質のイオン輸送を利用したダマシン配線の形成2023

    • 著者名/発表者名
      中谷有志、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] 固体電解質膜を用いた電気化学インプリントにおけるパターン精度の向上2023

    • 著者名/発表者名
      山﨑克真、辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会・2023年度精密工学会秋季大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 固体電解質のイオン輸送を利用したCuエッチングによる微細パターニング2023

    • 著者名/発表者名
      辻淳喜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質膜を用いた電気化学的表面処理による濡れ性コントラストの作製2023

    • 著者名/発表者名
      植村采奈、小川優姫菜、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会・2023年度精密工学会秋季大会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] 高分子電解質膜を用いた電気化学インプリントの開発―アルカリエッチングの併用による微細構造制御―2023

    • 著者名/発表者名
      山﨑克真、村田順二
    • 学会等名
      精密工学会関西支部・ 2023年度関西地方定期学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K26015
  • [学会発表] Direct micropatterning of Cu using polymer electrolyte membrane stamp2023

    • 著者名/発表者名
      A. Tsuji, J. Murata
    • 学会等名
      InternationalConference on Precision Engineering and Sustainable Manufacturing(PRESM)2023
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-23K17725
  • [学会発表] Electrochemical mechanical polishing using solid polymer electrolyte2022

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Kenshin Hayama, Atsuki Tsuji
    • 学会等名
      The 19th International Conference on Precision Engineering
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 高分子電解質を用いた電気化学的インプリントリソグラフィ技術の開発2021

    • 著者名/発表者名
      梅崎凌平,土田ひなの,村田順二
    • 学会等名
      2021年度精密工学会春季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 高分子電解質を用いたTiの電気化学的表面改質2021

    • 著者名/発表者名
      JIA Pengfei,梅崎凌平,村田順二
    • 学会等名
      2021年度精密工学会春季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 高分子電解質を用いた電解援用研磨法の開発~難加工金属の平滑化への適用~2021

    • 著者名/発表者名
      辻淳喜,JIA Pengfei,村田順二
    • 学会等名
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 固体高分子電解質を含浸させた半固定砥粒工具によるSiCのECMP 特性2021

    • 著者名/発表者名
      巴山顕真,稲田直希,村田順二
    • 学会等名
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 天然由来結合剤を用いた酸化セリウム固定砥粒パッドによるガラス研磨特性2021

    • 著者名/発表者名
      村田順二,石丸太一,山﨑小有里
    • 学会等名
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 高分子電解質を用いたワイドギャップ半導体の高能率電解複合研磨2021

    • 著者名/発表者名
      巴山顕真,チェノル シャヒラ ビンティ チェ ズルキフリ,村田順二
    • 学会等名
      2021年度精密工学会春季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 高分子電解質を用いた半導体の電解援用微細パターニング2020

    • 著者名/発表者名
      梅﨑凌平、村田順二
    • 学会等名
      2020年度精密工学会春季大会学術講演会 学生会員卒研発表講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] Microstructure fabrication method using a novel electrolyte-free electrochemical treatment with patterned polymer electrolyte membranes2020

    • 著者名/発表者名
      Ryohei Umezaki, Junji Murata
    • 学会等名
      International Conference on Precision Engineering 2020 (ICPE2020)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 固体高分子電解質を用いたGaNの電解アシスト複合研磨法の開発2020

    • 著者名/発表者名
      西口嘉人、村田順二
    • 学会等名
      2020年度精密工学会春季大会学術講演会
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] Liquid-electrolyte-free electrochemical surface finishing of GaN surface using a solid polymer electrolyte2020

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Yoshito Nishiguchi
    • 学会等名
      International Conference on Precision Engineering 2020 (ICPE2020)
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-19K04117
  • [学会発表] 光ファイバ/電極アレイを利用した光電気化学的切断法の開発2017

    • 著者名/発表者名
      村田順二、船田光祐
    • 学会等名
      精密工学会2017年度春季大会
    • 発表場所
      慶應大学
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [学会発表] A Feasibility Study of a Chemical Slicing Method for Semiconductor Wafers Using Photoelectrochemical Etching with2017

    • 著者名/発表者名
      Junji Murata, Kousuke Funada
    • 学会等名
      International symposium in advances of abrasive technology 2017
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [学会発表] コアシェル構造粒子を用いたSiC基板の電解複合CMP技術の開発2016

    • 著者名/発表者名
      村田順二、淀川恒史
    • 学会等名
      電気化学会第83回大会
    • 発表場所
      大阪大学
    • 年月日
      2016-03-29
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [学会発表] 化学エッチングを利用した半導体結晶の切断技術2016

    • 著者名/発表者名
      村田順二
    • 学会等名
      日本学術振興会結晶加工と評価技術第145委員会
    • 発表場所
      明治大学
    • 招待講演
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15K05736
  • [学会発表] Improvement of the Removal Rate of Planarization Technique for GaN by Applying Bias2010

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, Y.Sano, K.Arima, T.Okamoto, K.Tachibana, K.Yamauchi
    • 学会等名
      3rd International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • 発表場所
      大阪大学(大阪)
    • 年月日
      2010-11-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Improvement of the Removal Rate of Planarization Technique for GaN by Applying Bias2010

    • 著者名/発表者名
      Shun Sadakuni, Junji Murata, et.al
    • 学会等名
      Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • 発表場所
      大阪大学(大阪)
    • 年月日
      2010-11-24
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Abrasive-free planarization of GaN using photoelectrochemical reaction2010

    • 著者名/発表者名
      Shun Sadakuni, Junji Murata, et.al
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN2010)
    • 発表場所
      Tampa, Florida, USA
    • 年月日
      2010-09-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] 化学エッチングを用いたGaN基板の高能率平坦化加工2010

    • 著者名/発表者名
      定国峻, 村田順二, 八木圭太, 佐野泰久, 有馬健太, 岡本武志, 橘一真, 山内和人
    • 学会等名
      2010年度秋季第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学(長崎)
    • 年月日
      2010-09-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Abrasive-free planarization of GaN using photo electrochemical reaction2010

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, K.Arima, Y.Sano, T.Okamoto, K.Tachibana, K.Yamauchi
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors (IWN2010)
    • 発表場所
      Tampa, USA.
    • 年月日
      2010-09-22
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] 化学エッチングを用いたGaN基板の高能率平坦化加工2010

    • 著者名/発表者名
      定国峻, 村田順二, 八木圭太, 佐野泰久, 有馬健太, 岡本武志, 橘一真, 山内
    • 学会等名
      2010年度秋季第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎大学
    • 年月日
      2010-09-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] GaN結晶表面加工技術の新展開(招待講演)2009

    • 著者名/発表者名
      山内和人, 佐野泰久, 村田順二, 定国峻
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学
    • 年月日
      2009-09-09
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] 光電気化学プロセス及び固体酸触媒を用いたGaN基板平坦化技術の開発2009

    • 著者名/発表者名
      定国峻, 村田順二, 八木圭太, 佐野泰久, 有馬健太, 岡本武志, 三村秀和, 山内和人
    • 学会等名
      2009年度精密工学会秋季大会
    • 発表場所
      神戸大学
    • 年月日
      2009-09-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] 加工変質層を含むGaN基板の高能率平坦化加工2009

    • 著者名/発表者名
      定国峻, 村田順二, 八木圭太, 佐野泰久, 有馬健太, 岡本武志, 三村秀和, 山内和人
    • 学会等名
      第18回SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会
    • 発表場所
      神戸国際会議場
    • 年月日
      2009-12-17
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Planarization of GaN using photoelectrochemical process and solid catalyst2009

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, T.Okamoto, K.Arima, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009
    • 発表場所
      Nurmberg, Germany.
    • 年月日
      2009-10-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] 光電気化学プロセス及び固体酸触媒を用いたGaN基板平坦化技術の開発2009

    • 著者名/発表者名
      定国峻, 村田順二, 八木圭太, 佐野泰久, 有馬健太, 岡本武志, 三村秀和, 山内和人
    • 学会等名
      2009年度精密工学会秋季大会
    • 発表場所
      神戸大学(兵庫)
    • 年月日
      2009-09-10
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Planarization of GaN Surface using Photo-electrochemical process and solid acid catalyst2009

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, K.Arima, Y.Sano, T.Okamoto, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 学会等名
      International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology 2009
    • 発表場所
      Kokura, Japan
    • 年月日
      2009-11-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Improvement of Schottky Diode Propertied on GaN (0001) Surface Using Damage-free Planarization2009

    • 著者名/発表者名
      J.Murata, Y.Shirasawa, Y.Sano, S.Sadakuni, K.Yagi, T.Okamoto, K.Yamauchi
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • 発表場所
      Osaka, Japan
    • 年月日
      2009-11-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Development of Planarization Method for Gallium Nitride Using Photoel ectrochemical Process2009

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, Y.Sano, K.Arima, A.Hattori, T.Okamoto, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • 発表場所
      Osaka, Japan
    • 年月日
      2009-11-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Planarization of GaN Surface using Photo-electro Chemical Process and Solid Acid Catalyst2009

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, K.Arima, Y.Sano, T.Okamoto, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 学会等名
      3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • 発表場所
      小倉ステーションホテル(福岡)
    • 年月日
      2009-11-11
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Improvement of Schottky Diode Properties on GaN(0001) Surface Using Damage-free Planarization2009

    • 著者名/発表者名
      J.Murata, Y.Shirasawa, Y.Sano, S.Sadakuni, K.Yagi, T.Okamoto, K.Yamauchi
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • 発表場所
      大阪大学(大阪)
    • 年月日
      2009-11-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Planarization of GaN using photoelectrochemical process and solid catalyst2009

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, K.Arima Y.Sano, T.Okamoto, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2009
    • 発表場所
      Nurmberg, Germany
    • 年月日
      2009-10-13
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] Development of planarization method for gallium nitride using photo electrochemical process2009

    • 著者名/発表者名
      S.Sadakuni, J.Murata, K.Yagi, Y.Sano, K.Arima, A.Hattori, T.Okamoto, H.Mimura, K.Yamauchi
    • 学会等名
      2nd International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • 発表場所
      大阪大学(大阪)
    • 年月日
      2009-11-25
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • [学会発表] GaN結晶表面加工技術の新展開2009

    • 著者名/発表者名
      山内和人, 佐野泰久, 村田順二, 定国峻
    • 学会等名
      第70回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      富山大学(冨山)(招待講演)
    • 年月日
      2009-09-08
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-21760099
  • 1.  滝沢 優 (30516357)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  服部 梓
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 3.  定國 峻
    共同の研究課題数: 0件
    共同の研究成果数: 2件

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