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馬場 昭好  Baba Akiyoshi

ORCIDORCID連携する *注記
研究者番号 80304872
その他のID
外部サイト
所属 (現在) 2025年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 教授
所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2023年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 教授
2010年度 – 2017年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 准教授
1999年度 – 2005年度: 九州工業大学, マイクロ化総合技術センター, 助手
審査区分/研究分野
研究代表者
小区分21030:計測工学関連 / 表面界面物性
研究代表者以外
電力工学・電力変換・電気機器 / 理工系 / 薄膜・表面界面物性 / 応用物理学一般 / 生産工学・加工学 / 応用物理学一般 / マイクロ・ナノデバイス
キーワード
研究代表者
pH / 液中 / 電気化学反応 / 海中センサー / 半導体センサー / ホッピング伝導 / 三極構造 / 大面積化 / スタンプ法 / ポリイミド / イオンビーム改質 / 電界電子放出 / 微小電子源 … もっと見る
研究代表者以外
… もっと見る SOI / パワーSoC / 集積化電源 / MEMS / 金属誘起固相結晶化 / 固相結晶化 / 薄膜トランジスタ / 多結晶シリコン / 実装 / システム・イン・パッケージ / 集積回路 / 集積システム / 3次元IC / 3次元パワーSoC / ノイズ遮蔽 / 3次元構造 / 集積化 / スイッチング電源 / パワーSupply on Chip / パワーエレクトロニクス / 電力工学 / DCーDCコンバーター / 小型電源 / POL / DCーDCコンバータ / metal induced crystallization / laser annealing / excimer laser / single grain / thin film transistor / silicon / nanoimprint / システム・オン・パネル / 薄膜集積回路 / TFT / レーザー結晶化 / TFT回路 / 単一結晶粒トランジスタ / 結晶粒位置制御 / SO1 / レーザーアニール / エキシマレーザー / 疑似単結晶 / シリコン / ナノインプリント / 側面X線検出 / 直接変換型X線センサ / X線CT / 半導体デバイス / 低被曝線量 / トレンチ構造型フォトダイオード / X線センサー / 高温動作 / パワーMOSFET / パワーSOC / 集積化パワーシステム / DC-DCコンバータ / パワーIC / SOD / ウエハー接合技術 / SOD基板 / 抜熱 / 排熱 / Si on Diamond / 真直度測定 / 平面度測定 / 多点法 / 運動誤差計測 / 走査形状測定 / 加工計測 / 精密位置決め / カラー分離 / 側面照射 / 色分離 / カラーセンサ / カラーフィルタ無し / カラー撮影 / カラーフィルタなし / 側面光照射 / カラー撮像 / イメージセンサ / マイクロ・ナノデバイス / 金属シリサイド / ナノ細線 / 多結晶シリコン薄膜 / ナノ造形 / 固相成長 / 薄膜 / ニッケルシリサイド / 金属触媒 / 結晶細線 / 金属誘起横方向固相結晶化 / 歪みセンサー / 超音波接合 / フリップチップ / バンプ / チップ積層 / 高密度実装 / コンプライアント・バンプ / 三次元集積回路 / 積層半導体 / 歪センサー / マイクロバンプ / 微細接続 / 物理乱数機器 / 撮像素子 / ひずみセンサー / クリップチップ / グローバルインテグレーション 隠す
  • 研究課題

    (11件)
  • 研究成果

    (16件)
  • 共同研究者

    (13人)
  •  液中高ロバスト性半導体型イオンセンサーの開発研究代表者

    • 研究代表者
      馬場 昭好
    • 研究期間 (年度)
      2023 – 2025
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 審査区分
      小区分21030:計測工学関連
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  高排熱と電磁ノイズ遮蔽を実現するパワーSupply on Chip用基板の研究

    • 研究代表者
      松本 聡
    • 研究期間 (年度)
      2015 – 2017
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電力工学・電力変換・電気機器
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  側面X線照射方式を用いた低被曝線量X線CT用高感度X線センサの研究開発

    • 研究代表者
      有吉 哲也
    • 研究期間 (年度)
      2014 – 2016
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  超高密度パワーSOC(Supply on Chip)用集積回路基板の研究

    • 研究代表者
      松本 聡
    • 研究期間 (年度)
      2012 – 2015
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      電力工学・電力変換・電気機器
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  側面光照射方式カラーフォトセンサに関する研究

    • 研究代表者
      有吉 哲也
    • 研究期間 (年度)
      2010 – 2012
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      応用物理学一般
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  運動誤差測定用3点法マイクロプローブユニットの開発と新調整アルゴリズムの実証

    • 研究代表者
      清水 浩貴
    • 研究期間 (年度)
      2010 – 2012
    • 研究種目
      若手研究(B)
    • 研究分野
      生産工学・加工学
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  金属触媒を利用したシリコン単結晶固相成長におけるナノ造形過程の研究

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2004
    • 研究種目
      萌芽研究
    • 研究分野
      マイクロ・ナノデバイス
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  ナノ・インプリント技術によるシリコン薄膜の結晶位置と方位制御の研究

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2003 – 2005
    • 研究種目
      基盤研究(B)
    • 研究分野
      薄膜・表面界面物性
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  歪ダイナミクス計測に基づくチップ積層集積システム化技術の研究

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2002 – 2003
    • 研究種目
      特定領域研究
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  超音波によるチップ積層接合時に発生する歪ダイナミクスと回路素子への効果

    • 研究代表者
      浅野 種正
    • 研究期間 (年度)
      2001
    • 研究種目
      特定領域研究(A)
    • 審査区分
      理工系
    • 研究機関
      九州工業大学
  •  イオンビーム改質したポリイミド薄膜からの電界電子放出現象と微小電子源への応用研究代表者

    • 研究代表者
      馬場 昭好
    • 研究期間 (年度)
      1999 – 2000
    • 研究種目
      奨励研究(A)
    • 研究分野
      表面界面物性
    • 研究機関
      九州工業大学

すべて 2017 2016 2015 2013 2012 2011 2005 2004

すべて 雑誌論文 学会発表

  • [雑誌論文] X-ray-to-current signal conversion characteristics of trench-structured photodiodes for direct-conversion-type silicon X-ray sensor2017

    • 著者名/発表者名
      T. Ariyoshi, S. Funaki, K. Sakamoto, A. Baba, and Y. Arima
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 56 号: 4S ページ: 04CH06-04CH06

    • DOI

      10.7567/jjap.56.04ch06

    • NAID

      210000147620

    • 査読あり / 謝辞記載あり / オープンアクセス
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26390104
  • [雑誌論文] Reduced operating temperature of active layer Si covered by nanocrystalline diamond film2017

    • 著者名/発表者名
      S.Duangchan, Y.Koishikawa, R. Shirahama, K. Oishi, A. Baba, S. Matsumoto and M.Hasegawa
    • 雑誌名

      Journal of Material Science ; Materials in Electronics

      巻: 28 ページ: 617-624

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15H03965
  • [雑誌論文] Side-Illuminated Color Photosensor2013

    • 著者名/発表者名
      T.Ariyoshi,A.Baba,Y.Arima
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 52(2013) 号: 4S ページ: 04CE10-04CE10

    • DOI

      10.7567/jjap.52.04ce10

    • NAID

      210000142040

    • 査読あり
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22560053
  • [雑誌論文] Effect of Plasma Gate Oxidation on Performance of Poly-Si TFT2005

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc.2005 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

      ページ: 155-158

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Effect of Plasma Gate Oxidation on Performance of Poly-Si TFT2005

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Proc. 2005 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices

      ページ: 155-158

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Reduction of the Gate-Oxide/pol-Si Interface Roughness by Microwave-Plasma Oxidation and Its Impact on TFT Performance2004

    • 著者名/発表者名
      Chihiro Shin, Akiyoshi Baba, Tanemasa Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 317-320

    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Reduction of the Gate -Oxidelpol-Si Interface Roughness by Microwave-Plasma Oxidation and Its Impact on TFT Performance2004

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig.Technical.Papers, Int.Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 317-320

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [雑誌論文] Reduction of the Gate-Oxide/pol-Si Interface Roughness by Microwave-Plasma Oxidation and Its Impact on TFT Performance2004

    • 著者名/発表者名
      C.Shin, A.Baba, T.Asano
    • 雑誌名

      Dig. Technical Papers, Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Display

      ページ: 317-320

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15360022
  • [学会発表] Fabrication of Silicon on Diamond Structure with an Ultra-Thin SiO2 Bonding Layer by Sputter Etching Method2017

    • 著者名/発表者名
      M.Nagata, R.Shirahama, S.Duangchan, and Akiyoshi Baba
    • 学会等名
      Digest of 30th International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15H03965
  • [学会発表] The Influence of Plasma Conditions on Surface-Activation that Affect the Bonded Area2016

    • 著者名/発表者名
      S. Duangchan, R.Shirahama, T.Murayama, S.Hamada and A.Baba
    • 学会等名
      Asia-Pacific Conference of Transducers and Micro-Nano Technology 2016
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-15H03965
  • [学会発表] Sensitivity Properties of a Direct Conversion Silicon X-ray Sensor with Trench-Structured Photodiodes2016

    • 著者名/発表者名
      T.Ariyoshi, S.Funaki, K.Sakamoto, A.Baba, and Y.Arima
    • 学会等名
      2016 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      つくば国際会議場
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-26390104
  • [学会発表] The Silicon on Diamond Structure by low temperature bonding technique2015

    • 著者名/発表者名
      S. Duangchan, U. Uchikawa, U. Koshikawa, A. baba, K. Nakagawa, S.Matsumoto, M.Hasagawa, and S.Nishizawa
    • 学会等名
      IEEE Electric Components and Technology Conference 2015 (ECTC2015)
    • 発表場所
      San Diego, USA
    • 年月日
      2015-05-26
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24360111
  • [学会発表] “The Heat Performance Study of Nanocrystal Diamond Film Used in a Thin Film Device”,2015

    • 著者名/発表者名
      S. Duangchan, U. Koshikawa, R. Shirahama, K.Oishi, A. Baba, S. Matsumoto, and M.Hasagawa,
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials 2015
    • 発表場所
      Saporo, Japan
    • 年月日
      2015-09-27
    • 国際共著/国際学会である
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-24360111
  • [学会発表] Side-Illuminated Color Photo Sensor2012

    • 著者名/発表者名
      T.Ariyoshi, A.Baba, Y.Arima
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Device and Materials
    • 発表場所
      京都国際会館(京都市)
    • 年月日
      2012-09-26
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22560053
  • [学会発表] MEMS 技術を応用した多点法走査形状測定用マルチカンチレバーの開発(第2 報マルチカンチレバーデバイスの基本設計と試作)2012

    • 著者名/発表者名
      柳原慎也,水頭正一郎,清水浩貴,田丸雄摩,馬場昭好
    • 学会等名
      2012年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      首都大学東京(東京)
    • 年月日
      2012-03-14
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22760099
  • [学会発表] MEMS技術を応用した多点法走査形状測定用マルチカンチレバーの開発(第2報)-マルチカンチレバーデバイスの基本設計と試作-2011

    • 著者名/発表者名
      柳原慎也, 水頭正一郎, 清水浩貴, 田丸雄摩, 馬場昭好
    • 学会等名
      2011年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      首都大学東京(東京都)
    • 年月日
      2011-03-15
    • データソース
      KAKENHI-PROJECT-22760099
  • 1.  浅野 種正 (50126306)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 5件
  • 2.  牧平 憲治 (10253569)
    共同の研究課題数: 4件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  西坂 美香 (50336096)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  有吉 哲也 (60432738)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 4件
  • 5.  有馬 裕 (10325582)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 4件
  • 6.  松本 聡 (10577282)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 3件
  • 7.  新海 聡子 (90374785)
    共同の研究課題数: 2件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  清水 浩貴 (50323043)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 2件
  • 9.  田丸 雄摩 (30284590)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 2件
  • 10.  西澤 伸一 (40267414)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 11.  渡辺 直也 (10380734)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 12.  長谷川 雅考 (20357776)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 1件
  • 13.  竹内 修三
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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