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藤井 壽崇  FUJII Toshitaka

ORCIDORCID連携する *注記
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藤井 嘉崇  フジイ トシタカ

藤井 寿崇  FUJII Toshitaka

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研究者番号 90023168
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所属 (過去の研究課題情報に基づく) *注記 2001年度 – 2002年度: 愛知工科大学, 工学部, 教授
1995年度 – 1999年度: 豊橋技術科学大学, 工学部, 教授
1996年度: 豊橋技術科学大学, 電気・電子工学系, 教授
1987年度 – 1992年度: 豊橋技術科学大学, 工学部, 教授
1986年度: 豊橋技術科学大学, 教授
審査区分/研究分野
研究代表者
電子材料工学 / 電子・電気材料工学
研究代表者以外
電子・電気材料工学 / 電子材料工学
キーワード
研究代表者
ゾル・ゲル法 / Sol-gel method / ミスト熱分解法 / 磁性薄膜 / 磁性酸化物 / Mossbauer spectroscopy / magneto-optical media / amorphous films / magnetic thin films / ceramic fine particles … もっと見る / ferromagnetic iron oxides / mist-pyrolysis / 磁場中配向 / 磁気光学素子 / 電子機能セラミックス / メスバウア分光 / 光磁気媒体 / アモルファス薄膜 / セラミックス微粒子 / 鉄系強磁性酸化物 / Magneto-photonic crystals / Magnetic garnet films / Rapid crystallization / intermittent light irradiation / Infrared light heating / 超高密度光磁気記録媒体 / プラスチック基板 / 間欠光照射 / 磁性フォトニック結晶 / 磁性ガーネット薄膜 / 高速結晶化 / 間歇光照射 / 赤外線加熱 / Amorphous oxide films / Magneto-optic Faraday effect / Magnetic oxide particles / Bi-substituted YIG / Particles-dispersed films / Gel-coated films / Mist-pyrolysis / 高分子分散膜 / YIG / 磁気光学ファラデ-効果 / アモルファス酸化物膜 / 磁気光学ファラデー効果 / 磁性酸化物微粒子 / Bi置換YIG / 微粒子分散膜 / ゲル・コート薄膜 / 光磁気記録媒体 / 強磁性・強誘電性 / アモルファス酸化物薄膜 / 高ビスマス置換YIG薄膜 / 磁気光学効果 / 磁性ガ-ネット薄膜 / スピン・コーティング … もっと見る
研究代表者以外
多層膜 / electric polarization / dielectric permeability / reactive sputtering / magnetic oxide thin films / 反応スパッタリング / 酸化物磁性薄膜 / 電気分極 / 誘電率 / 反応性スパッタリング / 磁性酸化物薄膜 / photonic crystal / magneto-optical effect / localization of light / 光局在 / 磁気光学効果 / nano-crystalline / magnetic anisotropy / thermal annealing / actuator elements / micro-magnetic devices / magnetically soft films / magnetostriction / multilayr film / アモルファス材料 / スパッタ薄膜 / 軟磁性材料 / 超磁歪 / 微結晶 / 磁気異方性 / 熱処理 / アクチュエータ素子 / マイクロ磁気デバイス / 軟磁性膜 / 磁歪 / 国際応用磁気会議 / 超伝導電気機器 / 磁気浮上 / Nd-Fe-B磁石 / ブロッホラインメモリ / 光磁気記録 / トライボロジー / 垂直磁気記録 隠す
  • 研究課題

    (9件)
  • 共同研究者

    (11人)
  •  強磁性強誘電性酸化物スパッタ薄膜の物性発現機構と電子デバイスへの応用研究

    • 研究代表者
      加島 篤
    • 研究期間 (年度)
      2001 – 2002
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      北九州工業高等専門学校
  •  ゲル・コーティングによる高品位光磁気酸化物薄膜生成に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      藤井 壽崇
    • 研究期間 (年度)
      1998 – 1999
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      豊橋技術科学大学
  •  光局在化による磁気光学ファラデー効果の巨大エンハンスメントとその応用

    • 研究代表者
      井上 光輝
    • 研究期間 (年度)
      1997 – 1998
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      東北大学
  •  ゾル・ゲル法による多機能エレクトロニク・セラミクス薄膜の作製と薄膜電子素子の応用研究代表者

    • 研究代表者
      藤井 壽崇
    • 研究期間 (年度)
      1996
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      豊橋技術科学大学
  •  多層構造による超磁歪軟磁性薄膜材料の開発とそのマイクロ磁気機能性デバイスへの応用

    • 研究代表者
      井上 光輝
    • 研究期間 (年度)
      1995 – 1996
    • 研究種目
      基盤研究(C)
    • 研究分野
      電子・電気材料工学
    • 研究機関
      豊橋技術科学大学
  •  ミスト熱分解法による光磁気セラミックス材料の開発研究代表者

    • 研究代表者
      藤井 壽崇
    • 研究期間 (年度)
      1991 – 1992
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      豊橋技術科学大学
  •  ゾル・ゲル法による電子機能セラミック材料に関する研究研究代表者

    • 研究代表者
      藤井 壽崇
    • 研究期間 (年度)
      1988 – 1990
    • 研究種目
      一般研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      豊橋技術科学大学
  •  金属アルコキシドによる強磁性酸化物超微粒子薄膜の作製と光磁気記録媒体への応用研究研究代表者

    • 研究代表者
      藤井 壽崇
    • 研究期間 (年度)
      1987
    • 研究種目
      一般研究(C)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      豊橋技術科学大学
  •  新しい磁気応用の研究と調査

    • 研究代表者
      内山 晋
    • 研究期間 (年度)
      1986
    • 研究種目
      総合研究(B)
    • 研究分野
      電子材料工学
    • 研究機関
      名古屋大学
  • 1.  井上 光輝 (90159997)
    共同の研究課題数: 3件
    共同の研究成果数: 0件
  • 2.  内山 晋 (40023022)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 3.  中村 慶久 (50006235)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 4.  毛利 佳年雄 (10037814)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 5.  対馬 立郎 (90155359)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 6.  本間 基文 (50005261)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 7.  山口 一弘 (70230349)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 8.  阿部 正紀 (70016624)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 9.  荒井 賢一 (40006268)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 10.  加島 篤 (70177377)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件
  • 11.  上野 晃史 (30135420)
    共同の研究課題数: 1件
    共同の研究成果数: 0件

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