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YAMAMURA Kazuya  山村 和也

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Researcher Number 60240074
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Affiliation (Current) 2025: 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授
Affiliation (based on the past Project Information) *help 2021 – 2024: 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授
2017 – 2021: 大阪大学, 工学研究科, 教授
2015 – 2016: 大阪大学, 工学研究科, 准教授
2015: 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授
2011 – 2015: 大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 … More
2012: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授
2009 – 2012: Osaka University, 工学研究科, 准教授
2007 – 2010: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 准教授
2009: 大阪大学, 工学研究部, 准教授
2008: 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授
2006: 大阪大学, 大学院工学研究科, 助教授
2003 – 2005: 大阪大学, 工学研究科, 助教授
2001 – 2005: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教授
2003: 大阪大学, 助教授
1998 – 2000: 大阪大学, 大学院・工学研究科, 助手
1998 – 1999: 大阪大学, 工学研究科, 助手
1992 – 1997: 大阪大学, 工学部, 助手 Less
Review Section/Research Field
Principal Investigator
Production engineering/Processing studies / 機械工作・生産工学 / Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields / Broad Section C
Except Principal Investigator
機械工作・生産工学 / Production engineering/Processing studies / Quantum beam science / Basic Section 80040:Quantum beam science-related / Quantum beam science / Particle/Nuclear/Cosmic ray/Astro physics … More / Materials/Mechanics of materials / 機械工作 / Engineering / Science and Engineering Less
Keywords
Principal Investigator
大気圧プラズマ / プラズマCVM / SiC / スラリーレス / ワイドギャップ半導体 / 研磨 / 数値制御加工 / ラジカル / 難加工材料 / ダメージフリー … More / 超精密加工 / プラズマ / スラリーレス研磨 / 電気化学機械研磨 / 金型材料 / 陽極酸化 / GaN / 表面改質 / フッ素樹脂 / 無電解銅めっき / 無歪加工 / 回転電極 / 第一原理分子動力学 / パワー半導体 / 超音波 / 超音波援用 / 超音波振動 / 表面仕上げ / 形状創成 / ビトリファイドボンド砥石 / 脱粒フリー / 窒化アルミニウム基板 / ドレスフリー / ワイドギャップ半導体基板 / プラズマ改質 / プラズマ援用研磨 / シリコンカーバイド / 非球面 / 金型 / 形状修正 / 反応焼結SiC / サファイア / ダイヤモンド / ラジカル基 / グラフト共重合 / 無電解めっき / マイクロ波基板 / 低環境負荷 / オストワルド熟成 / ナノ粒子 / 銅張積層板 / 自己組織化 / パルス変調プラズマ / ATカット水晶ウエハ / OHラジカル / 水蒸気プラズマ / スクラッチフリー / 特殊加工 / 薄板化 / 高周波 / 水晶 / SOIウエハ / 非球面ミラー / X線ミラー / ラジカル反応 / 高速回転電極 / Cl / F / シリコン / ハロゲン / 高圧力 … More
Except Principal Investigator
EEM / 数値制御加工 / 大気圧プラズマ / スーパーミラー / プラズマCVM / プラズマCVD / ラジカル / SOI / シリコン / 超精密加工 / レプリカ法 / ウォルターミラー / 中性子顕微鏡 / SiH_4 / Low temperature deposition / Thin film / Silicon / Surface modification / Ion gun / イオン照射 / シリコン薄膜 / 低温成膜 / 表面改質 / ultra-fine particle / plasma CVD / 磁性 / 量子ビーム / 数値制御ローカルウェットエッチング法 / 非球面ミラー / 放射光 / X線集光 / X線顕微鏡 / X線ミラー / SPV / 表面電子準位 / 分光 / 表面光起電力 / 高速回転電極 / 数値制御プラズマCVM / 中性子スピン / 偏極中性子 / Wolterミラー / プラズマCVM加工 / Wolter型スーパーミラー / 超精密金型転写 / 計測工学 / 中性子検出器 / マンドレル / レプリカミラー / Wolter mirror / supermirror / Microscope / Neutron / 磁気イメージング / イオンビームスパッタ法 / 大気圧マイクロ波プラズマジェット / 未知短距離力 / 量子束縛状態 / CCD / 超冷中性子 / ブチルゴム / 銅ペースト / 銀インク / 密着強度 / 異種材料接着 / 加熱 / 大気圧プラズマ処理 / 接着強度 / 金属 / ゴム / 脆弱層 / 表面温度 / 熱 / プラズマ / 接着 / ポリテトラフルオロエチレン(PTFE) / asymmetric aspheric figure / goniometers / normal vector / slope error / surface figuring / EUV / Synchrotron radiation optics / 基準面 / 法線ベクトル測定 / X線光学素子 / 大型ミラー / 非基準面 / 法線ベクトル計測 / 非球面形状 / 集効用ミラー / ナノメータ / 非球面 / スロープエラー / ゴニオメータ / 法線ベクトル / 基準面無し / 形状計測 / plane mirror / synchrotron radiation / numerical controlled / high-speed rotary electrode / radical / atmospheric pressure / plasma CVM / 薄膜化 / 平面ミラー / シンクロトロン放射光 / シリコンイオン / TFT / 太陽電池 / 液体金属イオン源 / 多結晶 / 基板改質 / SF6 / Spatial resolution / Pulse modulation / Radical / Atmospheric plasma / 分解過程 / 六フッ化硫黄 / プラズマの局在化 / パルス変調 / ラジカル加工 / 高圧力プラズマ / ultra-precision machining / crystallographic properties / non-destructive / high sensitive / Si / surface photovaltage effects / 起精密加工 / 半導体 / 低温 / 加工変質層 / 非接触 / 超精密加工面 / 微弱表面電位計測システム / atmospheric plasma / 微細粉末 / 超微粒子 / 表面制御 / 薄膜用基板 / 薄膜 / イオンガン / coating / surface preparation / マイクロ波プラズマ / コーティング / 表面処理 / 粉末粒子 / 非球面形状創成 / 多層膜 / 中性子反射法 / ビーム集光 / 角度発散型中性子反射法 / 中性子集光スーパーミラー / 超薄膜 / 表面・界面物性 / 微細加工 / 数値制御ローカルウェットエッチング / 臨界角 / 中性子集光 / 即発γ線分析 / 回転非球面 / 中性子回折散乱 / 中性子収束 / リソグラフィー / 精密研磨 / プラズマ加工 / 石英ガラス / ローカルウエットエッチング / 平坦度 / ウエットエッチング / フォトマスク基板 / 液晶 / X 線光学 / X線自由電子レーザ / X線自由電子レーザー / ナノ集光 / 波面光学 / X線光学 / コヒーレントX線 / 超精密形状計測 / CEM / エッチング / ポリシング / アモルファスシリコン / 高速成膜 Less
  • Research Projects

    (34 results)
  • Research Products

    (388 results)
  • Co-Researchers

    (29 People)
  •  Development of slurry-less electrochemical mechanical polishing machine for wide-gap semiconductor substrates applying ultrasonic vibrationPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      Yamamura Kazuya
    • Project Period (FY)
      2021 – 2022
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
    • Review Section
      Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Realization of completely distortion-free processing by plasma nano-manufacturing process and exploration of its theoryPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      2021 – 2025
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
    • Review Section
      Broad Section C
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Research and development of a neutron microscope for investigation of magnetic structure

    • Principal Investigator
      Soyama Kazuhiko
    • Project Period (FY)
      2020 – 2022
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Review Section
      Basic Section 80040:Quantum beam science-related
    • Research Institution
      Japan Atomic Energy Agency
  •  Highly efficient slurryless finishing of difficult-to-polish materials by active controlled electrochemical mechanical polishingPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      Yamamura Kazuya
    • Project Period (FY)
      2018 – 2019
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
    • Review Section
      Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Highly-efficient damage-free manufacturing of functional materials by plasma nanomanufacturing processPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      Yamamura Kazuya
    • Project Period (FY)
      2018 – 2020
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Review Section
      Medium-sized Section 18:Mechanics of materials, production engineering, design engineering, and related fields
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Adhesive-free strong adhesion of fluoropolymers via heat-assisted plasma treatment

    • Principal Investigator
      Ohkubo Yuji
    • Project Period (FY)
      2015 – 2017
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Development of a neutron microscope using Wolter supermirror for magnetic imaging

    • Principal Investigator
      Soyama Kazuhiko
    • Project Period (FY)
      2015 – 2017
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      Quantum beam science
    • Research Institution
      Japan Atomic Energy Agency
  •  Development of highly efficient damage-free finishing technique for wide gap semiconductor substrate utilizing atmospheric pressure plasmaPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      Yamamura Kazuya
    • Project Period (FY)
      2013 – 2016
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Development of highly efficient and high precision figuring and finishing technique applying anodic oxidation for mold material made of SiCPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      YAMAMURA Kazuya
    • Project Period (FY)
      2013 – 2014
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Test of Equivalence Principle and Search for New Short Range Force

    • Principal Investigator
      Komamiya Sachio
    • Project Period (FY)
      2012 – 2015
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      Particle/Nuclear/Cosmic ray/Astro physics
    • Research Institution
      The University of Tokyo
  •  Development of very thin coaxial cable using fluorine resin covered with high adhesion electroless copper platingPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      YAMAMURA Kazuya
    • Project Period (FY)
      2011 – 2012
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Development of angular-divergent neutron reflectometry using high-precision beam focusing techniques.

    • Principal Investigator
      YAMAZAKI Dai
    • Project Period (FY)
      2010 – 2012
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • Research Field
      Quantum beam science
    • Research Institution
      Japan Atomic Energy Agency
  •  Development of high-efficient damage-free figuring process using open-air type atmospheric pressure plasmaPrincipal Investigator

    • Principal Investigator
      YAMAMURA Kazuya
    • Project Period (FY)
      2008 – 2010
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Research on the spheroidal supermirror with multi-channel substrates for neutron focusing

    • Principal Investigator
      SOYAMA Kazuhiko
    • Project Period (FY)
      2008 – 2010
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • Research Field
      Quantum beam science
    • Research Institution
      Japan Atomic Energy Agency
  •  触媒フリー・無電解銅めっきプロセスの開発とPTFE基板の素子化Principal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      2008 – 2009
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Sub-10nm hard X-ray focusing and application to nanoscopy/spectroscopy

    • Principal Investigator
      YAMAUCHI Kazuto
    • Project Period (FY)
      2006 – 2010
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Specially Promoted Research
    • Review Section
      Science and Engineering
      Engineering
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Development of High?precision and High-ef icient Finishing Process of Over Meter Size Photomask Substrate for LCD

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      2006 – 2008
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Development of High Precision Profiler

    • Principal Investigator
      HIGASHI Yasuo
    • Project Period (FY)
      2004 – 2005
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      High Energy Accelerator Research Organization (KEK)
  •  超高精度X線ミラー作製による高分解能硬X線顕微鏡の開発

    • Principal Investigator
      山内 和人
    • Project Period (FY)
      2003 – 2007
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  大気圧プラズマを用いた高周波水晶デバイス用水晶基板の無歪薄板化プロセスの開発Principal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      2003 – 2005
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • Research Field
      Production engineering/Processing studies
    • Research Institution
      Osaka University
  •  ナノデバイス用基板としての超薄膜SOIウエハの開発

    • Principal Investigator
      佐野 泰久, 森 勇蔵
    • Project Period (FY)
      2002 – 2003
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Exploratory Research
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  大気圧プラズマによる高密度ラジカル反応を用いた超精密加工に関する研究Principal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      2000 – 2001
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  The development of the equipment for the ultra precision aspherical optics using plasma CVM.

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      1998 – 1999
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  大気圧プラズマを利用したラジカル反応による形状加工装置の開発Principal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      1997 – 1998
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  表面光起電力を利用したSiウエハの加工変質層の高感度計測

    • Principal Investigator
      山内 和人
    • Project Period (FY)
      1997 – 1998
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Exploratory Research
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  回転電極を用いた大気圧汎用プラズマCVD装置の開発

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      1996 – 1997
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Exploratory Research
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  大気圧プラズマを利用したラジカル反応加工に関する研究-反応素過程の理論的解明-Principal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      1995
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Studies on radical generation mechanism in the atmospheric plasma etching

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      1995 – 1996
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Substrate surface modification by ion beam irradiation-Deposition of a polycrystalline silicon at a low temperature-

    • Principal Investigator
      YAMAUCHI Kazuto
    • Project Period (FY)
      1995 – 1996
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  高圧力プラズマによる高効率ラジカル反応加工に関する研究-加工面評価及び有効な反応系の究明-Principal Investigator

    • Principal Investigator
      山村 和也
    • Project Period (FY)
      1994
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Development of the appratus for making the ultra-fine particles for EEM utilizing atmospheric plasma CVD

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      1994 – 1995
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  A high sensitive evalution method for Si surface crystallografic properties by employing surface photovoltage effects.

    • Principal Investigator
      YAMAUCHI Kazuto
    • Project Period (FY)
      1994 – 1995
    • Research Category
      Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
    • Research Field
      機械工作・生産工学
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Study on substrate surface modification by ion beam irradiation

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      1993 – 1994
    • Research Category
      Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
    • Research Field
      Materials/Mechanics of materials
    • Research Institution
      Osaka University
  •  Study on surface coating of ultra-fine particles for EEM machining.

    • Principal Investigator
      MORI Yuzo
    • Project Period (FY)
      1992 – 1993
    • Research Category
      Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
    • Research Field
      機械工作
    • Research Institution
      Osaka University

All 2024 2023 2022 2021 2020 2019 2018 2017 2016 2015 2014 2013 2012 2011 2010 2009 2008 2007 2006 2005 Other

All Journal Article Presentation Book Patent

  • [Book] 精密加工と微細構造の形成技術 第1章第2節[9]プラズマ援用研磨による SiCのスクラッチフリー・ダメージフリー仕上げ2013

    • Author(s)
      山村和也
    • Total Pages
      6
    • Publisher
      技術情報協会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Book] 大気圧プラズマ 基礎と応用 6.7.5 マイクロ/ナノ加工2009

    • Author(s)
      佐野泰久, 山村和也, 山内和人
    • Publisher
      日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会, オーム社
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Book] 次世代パワー半導体 -省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線- 第1章第1節2PCVM を用いたSiC 基板の薄化2009

    • Author(s)
      佐野泰久, 山村和也, 山内和人
    • Publisher
      NTS
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Book] 月刊ディスプレイ2009年1月号、ローカルウエットエッチング法による超精密非接触加工2009

    • Author(s)
      山村和也(分担執筆)
    • Total Pages
      5
    • Publisher
      (株)テクノタイムズ社
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Book] 大気圧プラズマ 基礎と応用 6.7.5マイクロ/ナノ加工(分担執筆)2009

    • Author(s)
      佐野泰久, 山村和也, 山内和人
    • Total Pages
      6
    • Publisher
      オーム社
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Book] 次世代パワー半導体-省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線-第1章第1節2 PCVMを用いたSiC基板の薄化(分担執筆)2009

    • Author(s)
      佐野泰久, 山村和也, 山内和人
    • Total Pages
      12
    • Publisher
      NTS
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Book] 第1章第10節 ローカルウエットエッチング法による光学素子の高精度加工, ウエットエッチングのメカニズムと処理パラメータの最適化2008

    • Author(s)
      山村和也(分担執筆)
    • Total Pages
      15
    • Publisher
      サイエンス&テクノロジー(株)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Book] サイエンス&テクノロジー2008

    • Author(s)
      山村和也
    • Publisher
      第1章第10節 ローカルウェットエッチング法による光学素子の高精度加工, ウエットエッチングのメカニズムと処理パラメータの最適化
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] 多層膜スーパーミラーを用いたWolter I型中性子磁気顕微鏡の光学設計2024

    • Author(s)
      曽山 和彦、林田 洋寿、丸山 龍治、山﨑 大、後藤 惟樹、小林 有悟、須場 健太、山本 有悟、山村 和也
    • Journal Title

      JAEA Research

      Volume: 006 Pages: 1-13

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20H04457
  • [Journal Article] Highly efficient finishing of large-sized single crystal diamond substrates by combining nanosecond pulsed laser trimming and plasma-assisted polishing2023

    • Author(s)
      Liu Nian、Sugimoto Kentaro、Yoshitaka Naoya、Yamada Hideaki、Sun Rongyan、Arima Kenta、Yamamura Kazuya
    • Journal Title

      Ceramics International

      Volume: 49 Issue: 11 Pages: 19109-19123

    • DOI

      10.1016/j.ceramint.2023.03.038

    • Peer Reviewed / Open Access
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Journal Article] Nanocarbon-Induced Etching Property of Semiconductor Surfaces: Testing Nanocarbon's Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction at a Single-Sheet Level2022

    • Author(s)
      Ayumi Ogasawara, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura and Kenta Arima
    • Journal Title

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      Volume: 11 Issue: 4 Pages: 0410011-5

    • DOI

      10.1149/2162-8777/ac6117

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18676, KAKENHI-PROJECT-21H05005, KAKENHI-PROJECT-19H02478
  • [Journal Article] Separation of Neighboring Terraces on a Flattened Si(111) Surface by Selective Etching along Step Edges Using Total Wet Chemical Processing2022

    • Author(s)
      Ma Zhida、Masumoto Seiya、Kawai Kentaro、Yamamura Kazuya、Arima Kenta
    • Journal Title

      Langmuir

      Volume: 38 Issue: 12 Pages: 3748-3754

    • DOI

      10.1021/acs.langmuir.1c03317

    • Peer Reviewed / Open Access
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005, KAKENHI-PROJECT-19H02478
  • [Journal Article] Charge utilization efficiency in the electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001)2022

    • Author(s)
      X. Yang, X. Yang, H. Gu, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura,
    • Journal Title

      Journal of the Electrochemical Society

      Volume: 169 Issue: 2 Pages: 023501-023501

    • DOI

      10.1149/1945-7111/ac4b1f

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20J10524, KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Journal Article] Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing2022

    • Author(s)
      Liu Nian、Sugimoto Kentaro、Yoshitaka Naoya、Yamada Hideaki、Sun Rongyan、Kawai Kentaro、Arima Kenta、Yamamura Kazuya
    • Journal Title

      Diamond and Related Materials

      Volume: 124 Pages: 108899-108899

    • DOI

      10.1016/j.diamond.2022.108899

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-21J11028, KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Journal Article] Dominant factors and their action mechanisms on material removal rate in electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface2021

    • Author(s)
      X. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Journal Title

      Applied Surface Science

      Volume: 562 Pages: 150130-150130

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2021.150130

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20J10524, KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Journal Article] Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing2021

    • Author(s)
      Sun Rongyan、Nozoe Atsunori、Nagahashi Junji、Arima Kenta、Kawai Kentaro、Yamamura Kazuya
    • Journal Title

      Precision Engineering

      Volume: 72 Pages: 224-236

    • DOI

      10.1016/j.precisioneng.2021.05.003

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-19J20167
  • [Journal Article] Comparison of surface and subsurface damage of mosaic single-crystal diamond substrate processed by mechanical and plasma-assisted polishing2021

    • Author(s)
      Liu Nian、Yamada Hideaki、Yoshitaka Naoya、Sugimoto Kentaro、Sun Rongyan、Kawai Kentaro、Arima Kenta、Yamamura Kazuya
    • Journal Title

      Diamond and Related Materials

      Volume: 119 Pages: 108555-108555

    • DOI

      10.1016/j.diamond.2021.108555

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-21J11028
  • [Journal Article] Obtaining Atomically Smooth 4H-SiC (0001) Surface by Controlling Balance Between Anodizing and Polishing in Electrochemical Mechanical Polishing2019

    • Author(s)
      Xu. Yang, X. Yang, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Journal Title

      Nanomanufacturing and Metrology

      Volume: 2 Issue: 3 Pages: 140-147

    • DOI

      10.1007/s41871-019-00043-5

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Journal Article] Electromagnetic Environment Surrounding the Car and EMC Test2019

    • Author(s)
      大久保雄司, 石原健人, 佐藤悠, 遠藤勝義, 山村和也
    • Journal Title

      Journal of The Surface Finishing Society of Japan

      Volume: 70 Issue: 11 Pages: 551-556

    • DOI

      10.4139/sfj.70.551

    • NAID

      130007838846

    • ISSN
      0915-1869, 1884-3409
    • Year and Date
      2019-11-01
    • Language
      Japanese
    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Ultrasonic-assisted anodic oxidation of 4H-SiC (0001) surface2019

    • Author(s)
      X. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Journal Title

      Electrochemistry Communications

      Volume: 100 Pages: 1-5

    • DOI

      10.1016/j.elecom.2019.01.012

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Journal Article] Surface Modification and Microstructuring of 4H-SiC(0001) by Anodic Oxidation with Sodium Chloride Aqueous Solution2019

    • Author(s)
      X. Yang, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Journal Title

      Applied Materials & Interfaces

      Volume: 11 Issue: 2 Pages: 2535-2542

    • DOI

      10.1021/acsami.8b19557

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Journal Article] Highly efficient planarization of sliced 4H-SiC (0001) wafer by slurryless electrochemical mechanical polishing2019

    • Author(s)
      Xu. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Journal Title

      International Journal of Machine Tools and Manufacture

      Volume: 144 Pages: 103431-103431

    • DOI

      10.1016/j.ijmachtools.2019.103431

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Journal Article] Etching Characteristics of Quartz Crystal Wafers Using Argon-Based Atmospheric Pressure CF4 Plasma Stabilized by Ethanol Addition2019

    • Author(s)
      R. Sun, Xu. Yang, K. Watanabe, S. Miyazaki, T. Fukano, M. Kitada, K. Arima, K. Kawai, K. Yamamura
    • Journal Title

      Nanomanufacturing and Metrology

      Volume: Vol. 2 Issue: 3 Pages: 168-176

    • DOI

      10.1007/s41871-019-00044-4

    • Peer Reviewed / Open Access
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754, KAKENHI-PROJECT-19J20167
  • [Journal Article] Investigation of anodic oxidation mechanism of 4H-SiC (0001) for electrochemical mechanical polishing2018

    • Author(s)
      X. Yang, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Electrochimica Acta

      Volume: 271 Pages: 666-676

    • DOI

      10.1016/j.electacta.2018.03.184

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Journal Article] Surface modification of fluoropolymer using open-air plasma treatment at atmospheric pressure with Ar, Ar + O2, and Ar + H2 for application in high-adhesion metal wiring patterns2018

    • Author(s)
      Y. Kodama, Y. Ohkubo, T. Oshita, Y. Nakano, T. Uehara, T. Aoyama, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      表面技術

      Volume: 69 Pages: 155-162

    • NAID

      130007539092

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Damage-free highly efficient polishing of single-crystal diamond wafer by plasma-assisted polishing2018

    • Author(s)
      K. Yamamura, K. Emori, R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno
    • Journal Title

      Annals of the CIRP

      Volume: 67 Issue: 1 Pages: 353-356

    • DOI

      10.1016/j.cirp.2018.04.074

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Journal Article] Effect of rubber compounding agent on adhesion strength between rubber and heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE)2018

    • Author(s)
      Y. Ohkubo, M. Shibahara, K. Ishihara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Journal of Adhesion

      Volume: 印刷中 Issue: 3 Pages: 242-257

    • DOI

      10.1080/00218464.2018.1428095

    • NAID

      120007149414

    • Peer Reviewed / Open Access
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing2017

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endob, K. Yamamura
    • Journal Title

      Int. J. Mach. Tool. Man.

      Volume: 115 Pages: 38-46

    • DOI

      10.1016/j.ijmachtools.2016.11.002

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Adhesive-free adhesion between polytetrafluoroethylene (PTFE) and isobutylene-isoprene rubber (IIR) via heat-assisted plasma treatment2017

    • Author(s)
      Y. Ohkubo, K. Ishihara, H. Sato, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      RSC Advances

      Volume: 7 Issue: 11 Pages: 6432-6438

    • DOI

      10.1039/c6ra27642c

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Drastic improvement in adhesion property of polytetrafluoroethylene (PTFE) via heat-assisted plasma treatment using a heater2017

    • Author(s)
      Y. Ohkubo, K. Ishihara, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Scientific Reports

      Volume: 7 Issue: 1

    • DOI

      10.1038/s41598-017-09901-y

    • NAID

      120007149410

    • Peer Reviewed / Open Access
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] フッ素樹脂/異種材料(ゴム・金属)の強力接着2016

    • Author(s)
      大久保雄司, 山村和也
    • Journal Title

      接着の技術

      Volume: 35 Pages: 38-42

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] 大気圧プラズマを用いたフッ素樹脂と異種材料の革新的接合技術2016

    • Author(s)
      大久保雄司, 山村和也
    • Journal Title

      エレクトロニクス実装学会誌

      Volume: 19 Pages: 127-131

    • NAID

      130005155005

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Preliminary study on atmospheric-pressure plasma-based chemical dry figuring and finishing of reaction-sintered silicon carbide2016

    • Author(s)
      X. Shen, H. Deng, X. Zhang, K. Peng, K. Yamamura
    • Journal Title

      Opt. Eng.

      Volume: 55 Issue: 10 Pages: 105102-105102

    • DOI

      10.1117/1.oe.55.10.105102

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] ケミカルエンジニヤリング2016

    • Author(s)
      大久保雄司, 山村和也
    • Journal Title

      接着剤なしでフッ素樹脂と異種材料を接合する技術

      Volume: 61 Pages: 34-40

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Study on removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing2016

    • Author(s)
      C. Kageyama, K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Advanced Materials Research

      Volume: 1136 Pages: 317-320

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/amr.1136.317

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006, KAKENHI-PROJECT-13J00581
  • [Journal Article] 熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質2016

    • Author(s)
      大久保雄司, 山村和也
    • Journal Title

      機能材料

      Volume: 36 Pages: 13-20

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Figuring and finishing of reaction-sintered SiC by anodic oxidation assisted process2015

    • Author(s)
      N. Shimozono, X. Shen, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Key Eng. Mater.

      Volume: 625 Pages: 570-575

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/kem.625.570

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Journal Article] Competition between surface modification and abrasive polishing: a method of controlling the surface atomic structure of 4H-SiC (0001)2015

    • Author(s)
      Hui Deng, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Scientific Reports

      Volume: 5 Issue: 1

    • DOI

      10.1038/srep08947

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant / Open Access
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-13J00581, KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Efficient processing of reaction-sintered silicon carbide by anodically oxidation-assisted polishing2015

    • Author(s)
      X. Shen, Q. Tu, J. Zhou, H. Deng, G. Jiang, K. Yamamura
    • Journal Title

      Opt. Eng.

      Volume: 54 Issue: 10 Pages: 055106-055106

    • DOI

      10.1117/1.oe.54.10.105113

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Atomic-scale and pit-free flattening of GaN by combination of plasma pretreatment and time-controlled chemical mechanical polishing2015

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Appl. Phys. Lett.

      Volume: 107 Issue: 5 Pages: 051602-051602

    • DOI

      10.1063/1.4928195

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006, KAKENHI-PROJECT-13J00581
  • [Journal Article] PTFEの用途を拡大する革新的な表面処理技術2015

    • Author(s)
      大久保雄司, 山村和也
    • Journal Title

      加工技術

      Volume: 50 Pages: 316-322

    • NAID

      120007160767

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Journal Article] Finishing of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing2015

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Key Eng. Mater.

      Volume: 625 Pages: 192-195

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/kem.625.192

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface2015

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Annals of the CIRP

      Volume: 64 Issue: 1 Pages: 531-534

    • DOI

      10.1016/j.cirp.2015.04.002

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006, KAKENHI-PROJECT-13J00581
  • [Journal Article] Investigation of removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing2015

    • Author(s)
      K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Key Eng. Mater.

      Volume: 625 Pages: 458-462

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/kem.625.458

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Electro-chemical mechanical polishing of single-crystal SiC using CeO2 slurry2015

    • Author(s)
      Hui Deng, Kenji Hosoya, Yusuke Imanishi, Katsuyoshi Endo, Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Electrochemistry Communications

      Volume: 52 Pages: 5-8

    • DOI

      10.1016/j.elecom.2015.01.002

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-13J00581, KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Journal Article] Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for highly effective planarization of 4H-SiC2014

    • Author(s)
      H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Annals of the CIRP

      Volume: 63 Issue: 1 Pages: 529-532

    • DOI

      10.1016/j.cirp.2014.03.043

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Damage-free and atomically-flat finishing of single crystal SiC by combination of oxidation and soft abrasive polishing2014

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Procedia CIRP

      Volume: 13 Pages: 203-207

    • DOI

      10.1016/j.procir.2014.04.035

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Experimental studies on water vapor plasma oxidation and thermal oxidation of 4H-SiC(0001) for clarification of the atomic-scale flattening mechanism in plasma assisted polishing2014

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Materials Science Forum

      Volume: 778-780 Pages: 587-590

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.778-780.587

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Comparison of thermal oxidation and plasma oxidation of 4H-SiC (0001) for surface flattening2014

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Appl. Phys. Lett.

      Volume: 104 Issue: 10

    • DOI

      10.1063/1.4868487

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Preliminary study on highly efficient polishing of 4H-SiC by utilization of anodic oxidation2014

    • Author(s)
      K. Yamamura, K. Hosoya, Y. Imanishi, H. Deng, K. Endo
    • Journal Title

      Adv. Mater. Res.

      Volume: 1017 Pages: 509-514

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/amr.1017.509

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Journal Article] Open-air type plasma chemical vaporization machining by applying pulse-width modulation control2014

    • Author(s)
      Y. Takeda, Y. Hata, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      J. Phys. D: Appl. Phys.

      Volume: 47 Issue: 11 Pages: 115503-115503

    • DOI

      10.1088/0022-3727/47/11/115503

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] Atomic-scale planarization of 4H-SiC (0001) by combination of thermal oxidation and abrasive polishing2013

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Journal Title

      Appl. Phys. Lett.

      Volume: 103 Issue: 11 Pages: 111603-111603

    • DOI

      10.1063/1.4821068

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Journal Article] One-dimensional neutron focusing with large beam divergence by 400mm-long elliptical supermirror2012

    • Author(s)
      Nagano M, Yamaga F, Yamazaki D, Maruyama R, Hayashida H, Soyama K, Yamamura K
    • Journal Title

      J Phys Conf Series

      Volume: 340

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-22604008
  • [Journal Article] Effect of Si interlayers on the magnetic and mechanical properties of Fe/Ge neutron polarizing multilayer mirrors2012

    • Author(s)
      Maruyama R, Yamazaki D, Okayasu S, Takeda M, Zettsu N, Nagano M, Yamamura K, Hayashida H, Soyama K
    • Journal Title

      J. Appl. Phys.

      Volume: 111 Pages: 63904-63904

    • NAID

      130007036462

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-22604008
  • [Journal Article] Adhesion strength of electroless copper plated layer on fluoropolymer surface modified by medium pressure plasma2012

    • Author(s)
      K. Ooka、Y. Yamamoto、Y. Hara、N. Zettsu, K. Yamamura
    • Journal Title

      Key Engineering Materials

      Volume: 523-524 Pages: 262-266

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/kem.523-524.262

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Journal Article] Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressure polishing2011

    • Author(s)
      M.Nagano, F.Yamaga, N.Zettsu, D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama, K.Yamamura
    • Journal Title

      Nucl.Instr.and Meth.A

      Volume: 634 Pages: 112-116

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] A Spheroidal Supermirror2011

    • Author(s)
      K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura
    • Journal Title

      Proceedings of Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering

      Pages: 446-446

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressure polishing2011

    • Author(s)
      M. Nagano, F. Yamaga, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, K. Yamamura
    • Journal Title

      Nucl. Instr. and Meth. A

      Volume: 634 Pages: 112-116

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] Development of fabrication process for aspherical neutron focusing mirror using numerically controlled local wet etching with low-pressurepolishing2011

    • Author(s)
      Nagano M, Yamaga F, Zettsu N, Yamazaki D, Maruyama R, Soyama K, Yamamura K
    • Journal Title

      Nucl Instrum Meth A

      Volume: 634

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-22604008
  • [Journal Article] One-dimensional sub-10-nm hard X-ray focusing using laterally graded multilayer mirror2011

    • Author(s)
      H.Mimura, S.Handa, T.Kimura, H.Yumoto, D.Yamakawa, H.Yokoyama, S.Matsuyama, K.Inagaki, K.Yamamura, Y.Sano, K.Tamasaku, Y.Nishino, M.Yabashi,T.Ishikawa, K.Yamauchi
    • Journal Title

      Nucl.Instrum.Meth.A 616

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18002009
  • [Journal Article] High-reflectivity(m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter deposition2010

    • Author(s)
      K. Yamamura, M. Nagano, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama
    • Journal Title

      Nucl. Instr. and Meth. A

      Volume: 616 Pages: 193-196

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces2010

    • Author(s)
      D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, M. Nagano, F. Yamaga, K. Yamamura
    • Journal Title

      J. Phys : Conf. Series

      Volume: 251 Pages: 12076-12076

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] High-reflectivity (m=4) elliptical neutron focusing supermirror fabricated by numerically controlled local wet etching with ion beam sputter de position2010

    • Author(s)
      K.Yamamura, M.Nagano, N.Zettsu, D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama
    • Journal Title

      Nucl.Instr.and Meth.A

      Volume: 616 Pages: 193-196

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] Fabrication of Damage-free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010

    • Author(s)
      Mao Hosoda, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Shoichi Shimada, Kazuo Taniguchi, Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Key Engineering Materials 447-448

      Pages: 213-217

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Effect of Substrate Heating in Thickness Correction of Quartz Crystal Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010

    • Author(s)
      Masaki Ueda, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Key Engineering Materials 447-448

      Pages: 218-222

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces2010

    • Author(s)
      D.Yamazaki, R.Maruyama, K.Soyama, M.Nagano, F.Yamaga, K.Yamamura
    • Journal Title

      J.Phys : Conf.Series

      Volume: 251 Pages: 12076-12076

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] Neutron beam focusing using large-m supermirrors coated on precisely-figured aspheric surfaces2010

    • Author(s)
      Yamazaki D, Maruyama R, Soyama K, Takai H, Nagano M, Yamamura K
    • Journal Title

      J Phys Conf Series

      Volume: 251 Pages: 12076-12076

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-22604008
  • [Journal Article] High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing2010

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu
    • Journal Title

      Advanced Materials Research 126-128

      Pages: 423-428

    • NAID

      10029507410

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Breaking the 10 nm barrier in hard-X-ray focusing2010

    • Author(s)
      H.Mimura, S.Handa, T.Kimura, H.Yumoto, D.Yamakawa, H.Yokoyama, S.Matsuyama, K.Inagaki, K.Yamamura, Y.Sano, K.Tamasaku, Y.Nishino, M.Yabashi,T.Ishikawa, K.Yamauchi
    • Journal Title

      Nature Physics 6

      Pages: 122-125

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18002009
  • [Journal Article] High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing2010

    • Author(s)
      K.Yamamura, et al.
    • Journal Title

      Advanced Materials Research

      Volume: 126-128 Pages: 423-428

    • NAID

      10029507410

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009

    • Author(s)
      K.Yamamura, et al.
    • Journal Title

      Key Engineering Materials

      Volume: 407-408 Pages: 343-346

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching2009

    • Author(s)
      K.Yamamura, et al.
    • Journal Title

      IEEE Trans.Ultrason.Ferroelectr.Freq.Control

      Volume: 56 Pages: 1128-1130

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] High Efficient Damage-Free Correction of Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Etching2009

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Masafumi Shibahara
    • Journal Title

      IEEE Trans.Ultrason. Ferroelectr. Freq. Control 56

      Pages: 1128-1130

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masaki Ueda
    • Journal Title

      Key Engineering Materials 407-408

      Pages: 343-346

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, et al.
    • Journal Title

      Key Engineering Materials 407-408

      Pages: 343-346

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Figuring of Elliptical Neutron Focusing Mirror Using Numerically Controlled Local Wet Etching2009

    • Author(s)
      Mikinori Nagano, Hiroyuki Takai, Kazu ya Yamamura, Dai Yamazaki, Ryuji Maruyama, Kazuhiko Soyama
    • Journal Title

      Key Engineering Materials 407-408

      Pages: 376-379

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Figuring of plano-elliptical neutron focusing mirror by local wet etching2009

    • Author(s)
      K. Yamamura, M. Nagano, H. Takai, N. Zettsu, D. Yamazaki, R. Maruyama, K. Soyama, S. Shimada
    • Journal Title

      OPTICS EXPRESS 6420 Vo.17, No.8

      Pages: 6414-6420

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Journal Article] Uniformalization of AT cut quartz crystal wafer thickness using open-air type plasma CVM process, Surf.2008

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Tetsuya Morikawa, Masafumi Shibahara, Nobuyuki Zettsu, Yuzo Mori
    • Journal Title

      Interface Anal. 40

      Pages: 1007-1010

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2008

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, et al.
    • Journal Title

      Annals of the CIRP 56

      Pages: 541-544

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Surface Functionalization of PTFE Sheet through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach2008

    • Author(s)
      N. Zettsu, H. Ito, K. Yamamura
    • Journal Title

      Surface Coating Technology 202

      Pages: 5284-5288

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Journal Article] Figuring of elliptical hard X-ray focusing mirror using 1-dimensional numerically controlled local wet etching2008

    • Author(s)
      K. Yamamura, et al.
    • Journal Title

      Surf. Interface Anal. 40

      Pages: 1014-1018

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2008

    • Author(s)
      K. Yamamura, S. Shimada, Y. Mori
    • Journal Title

      Annals of the CIRP 57

      Pages: 567-570

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Figuring of elliptical hard X-ray focusing mirror using 1-dimensional numerically controlled local wet etching2008

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Hiroyuki Takai
    • Journal Title

      Surf. Interface Anal. 40

      Pages: 1014-1018

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Uniformalization of AT cut quartz crystal wafer thickness using open-air type plasma CVM process2008

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, et al.
    • Journal Title

      Surf. Interface Anal. 40

      Pages: 1007-1010

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Journal Article] Plasma-chemical surface functionalization of flexible substrates at atmospheric pressure2008

    • Author(s)
      N. Zettsu, H. Ito, K. Yamamura
    • Journal Title

      This Solid Films 516

      Pages: 6683-6687

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Journal Article] Development of numeric ally controlled local wet etching2007

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Science and Technology of Advanced Materials 8

      Pages: 158-161

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Fabrication of Ultra Precision Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Annals of the CIRP 56

      Pages: 541-544

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Fabrication of Ultra Precisi on Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Annals of the CIRP 56

      Pages: 541-544

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Efficient focusing of hard x rays to 25 nm by a total reflection mirror2007

    • Author(s)
      H.Mimura, H.Yumoto, S.Matsuyama, Y.Sano, K.Yamamura, Y.Mori, M.Yabashi, Y.Nishino, K.Tamasaku, T.Ishikawa, K.Yamauchi
    • Journal Title

      Appl.Phys.Lett. vol.90

      Pages: 51903-51903

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18002009
  • [Journal Article] Development of numerically controlled local wet etching2007

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura
    • Journal Title

      Science and Technology of Advanced Materials 8

      Pages: 158-161

    • NAID

      130004658449

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Journal Article] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics2006

    • Author(s)
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • Journal Title

      SR12006, Proc.of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA)

    • Description
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] A New Designed Ultra-high Precision Profiler - Study on Slope Error Measurement of a Mandrel for Wolter type-I mirror Fabrication -2006

    • Author(s)
      Yasuo.HIGASHI^<*a>.Yuichi.TAKAIE^b, Katsuyoshi.ENDO^b, Tatsuya.KUME^a, Kazuhiro.ENAMI^a, Kazuto.YAMAUCHI^c, Kazuya.YAMAMURA^c, Toshihisa.SANO^c, Kenji.UENO^a, Yuzo.MORI^c
    • Journal Title

      Proc.Of the 8^<th> International Conference on X-ray Microscopy ; 26-30, July, at Egret Himeji 2006.6月発行(In printing)

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics -Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-2006

    • Author(s)
      Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenii Ueno, Yuzo mori
    • Journal Title

      SR12006, Proc. of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA (In printing)

    • Description
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics2006

    • Author(s)
      Yasuo Higashi, Yuichi Takaie, Katsuyoshi Endo, Tatsuya Kume, Kazuhiro Enami, Kazuto Yamauchi, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Kenii Ueno, Yuzo mori
    • Journal Title

      SR12006, Proc. of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA (In printing)

    • Description
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] A New Designed Ultra-high Precision Profiler2006

    • Author(s)
      Y.HIGASHI^a, Y.TAKAIE^b, K.ENDO^b, T.KUME^a, K.ENAMI^a, K.YAMAUCHI^c, K.YAMAMURA^c, H.SANO^c, K.UENO^a, Y.MORI^c
    • Journal Title

      Proc of SPIE : Advances in Mirror Technology for X-ray, EUV Lithography, laser, and Other Applications, 3 August 2005, Sandiego, CA, USA Vol.# 5921(In printing)

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] Surface Gradient Integrated Profiler for X-ray and EUV Optics-Calibration of the rotational angle error of the rotary encoders-2006

    • Author(s)
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • Journal Title

      SR12006, Proc.of the Ninth International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation (May28-June2, 2006, DAEGU, EXCO, KOREA)

    • Description
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-円筒型回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化-2005

    • Author(s)
      柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山 剛, 遠藤勝義, 森 勇藏
    • Journal Title

      精密工学会誌 71・5

      Pages: 655-659

    • NAID

      10015529822

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15686007
  • [Journal Article] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-加工装置の開発と基本的加工特性の取得-2005

    • Author(s)
      山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山 剛, 遠藤勝義, 森 勇藏
    • Journal Title

      精密工学会誌 71・4

      Pages: 455-459

    • NAID

      110001824145

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15686007
  • [Journal Article] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-円筒形回転電極を用いた数値制御加工による水晶ウエハ厚さの均一化-2005

    • Author(s)
      柴原正文, 山村和也, 佐野泰久, 杉山 剛, 遠藤勝義, 森 勇藏
    • Journal Title

      精密工学会誌 (in press)

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15686007
  • [Journal Article] A new Designed High-Precision Profiler2005

    • Author(s)
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • Journal Title

      SPIE Annual Meeting (Opto photonics) Proceedings, San Diego, USA (in printing)

    • Description
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] A new Designed High-Precision Profiler-Study on Mandrel measurement-2005

    • Author(s)
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • Journal Title

      XRM2005 International Meeting Proceedings Himeji, Japan (in printing)

    • Description
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] A new Designed High-Precision Profiler - Study on Mandrel measurement-2005

    • Author(s)
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • Journal Title

      XRM2005 International Meeting Proceedings Hirneji, Japan, in printing (2005) (In printing)

    • Description
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] A new Designed High-Precision Profiler2005

    • Author(s)
      Y.Higashi, Y.Takaie, K.Endo, T.Kume, K.Enami, K.Yamauchi, K.Yamamura, K.Ueno, Y.Mori
    • Journal Title

      SPIE Annual Meeting (Opto photonics) Proceedings, San Diego, USA, in printing (2005) (In printing)

    • Description
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-16360073
  • [Journal Article] 数値制御プラズマCVMによる水晶ウエハの高精度加工に関する研究-加工装置の開発と基本的加工特性の取得-2005

    • Author(s)
      山村和也, 柴原正文, 佐野泰久, 杉山 剛, 遠藤勝義, 森 勇藏
    • Journal Title

      精密工学会誌 (in press)

    • NAID

      110001824145

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15686007
  • [Journal Article] Improvement of thickness distribution of quartz crystal wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining2005

    • Author(s)
      Masafumi Shibahara, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano, Tsuyoshi Sugiyama, Katsuyoshi Endo, Yuzo Mori
    • Journal Title

      Rev.Sci.Instrum. 76・9

    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15686007
  • [Journal Article] Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly (4-vinylpyridine)-grafted-poly (tetrafluoroethylene) surface and their autocatalytic properties

    • Author(s)
      H.Akiyama, N.Zettsu^*, K.Yamamura,
    • Journal Title

      Thin Solid Films (ASAP)(印刷中)

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Journal Article] Surface copperization of poly (4-vinylpyrdine)-grafted-poly (tetrafluoroethylene) surface

    • Author(s)
      H.Akiyama, N.Zettsu^*, K.Yamamura
    • Journal Title

      Trans.Mater.Res.Soc.Jpn (accepted)(印刷中)

    • Peer Reviewed
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Patent] ダイヤモンドの加工方法及びその装置2022

    • Inventor(s)
      山村和也
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人大阪大学
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2022-125662
    • Filing Date
      2022
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Patent] 表面処理装置及び表面処理方法2022

    • Inventor(s)
      山村和也、豊田椋一、長田佑介、清水由佳
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人大阪大学、株式会社昭和真空
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2022-087495
    • Filing Date
      2022
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Patent] 表面処理方法及び装置2018

    • Inventor(s)
      大下貴也、上原剛、青山哲平、山村和也、大久保雄司、小玉欣典
    • Industrial Property Rights Holder
      大下貴也、上原剛、青山哲平、山村和也、大久保雄司、小玉欣典
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2018-019880
    • Filing Date
      2018
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Patent] 積層体及びその製造方法2017

    • Inventor(s)
      大久保雄司、山村和也、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
    • Industrial Property Rights Holder
      大久保雄司、山村和也、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2017-108427
    • Filing Date
      2017
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Patent] フッ素系樹脂フィルムの表面処理装置及び方法2016

    • Inventor(s)
      中野良憲, 上原剛, 山村和也, 大久保雄司
    • Industrial Property Rights Holder
      中野良憲, 上原剛, 山村和也, 大久保雄司
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Filing Date
      2016-11-04
    • Overseas
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Patent] フッ素系樹脂フィルムの表面処理装置及び方法2016

    • Inventor(s)
      中野良憲、上原剛、山村和也、大久保雄司
    • Industrial Property Rights Holder
      中野良憲、上原剛、山村和也、大久保雄司
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2016-007202
    • Filing Date
      2016-01-18
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Patent] 金属含有膜付き誘電体基材の製造方法2015

    • Inventor(s)
      大久保雄司、山村和也、小玉欣典、澤田公平、久保田和宏
    • Industrial Property Rights Holder
      大久保雄司、山村和也、小玉欣典、澤田公平、久保田和宏
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2015-169648
    • Filing Date
      2015-08-28
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Patent] 表面改質成型体の製造方法、及び該表面改質成型体を用いた複合体の製造方法2015

    • Inventor(s)
      山村和也、大久保雄司、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
    • Industrial Property Rights Holder
      山村和也、大久保雄司、石原健人、柴原正文、長谷朝博、本田幸司
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Filing Date
      2015-09-04
    • Overseas
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Patent] 誘電体基材表面の触媒フリー金属化方法および金属膜付き誘電体基材2008

    • Inventor(s)
      是津信行山村和也
    • Industrial Property Rights Holder
      大阪大学
    • Industrial Property Number
      2008-335528
    • Filing Date
      2008-12-27
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Patent] 表面加工装置の平板状被加工物の垂直保持装置および表面加工装置2007

    • Inventor(s)
      山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
    • Industrial Property Rights Holder
      東ソー(株)
    • Industrial Property Number
      2007-312538
    • Filing Date
      2007-12-03
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Patent] 表面加工方法および表面加工装置2007

    • Inventor(s)
      山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
    • Industrial Property Rights Holder
      東ソー(株)
    • Industrial Property Number
      2007-157999
    • Filing Date
      2007-06-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Patent] 表面加工方法および表面加工装置2007

    • Inventor(s)
      山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
    • Industrial Property Rights Holder
      国立大学法人大阪大学東ソー(株)
    • Industrial Property Number
      2007-184393
    • Filing Date
      2007-07-13
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Patent] 加工ヘッドおよびこの加工ヘッドを用いた加工方法2007

    • Inventor(s)
      山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
    • Industrial Property Rights Holder
      東ソー(株)
    • Industrial Property Number
      2007-157998
    • Filing Date
      2007-06-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Patent] 表面加工方法および表面加工装置2007

    • Inventor(s)
      山村和也、岡村敏彦、浅野睦己
    • Industrial Property Rights Holder
      東ソー(株)
    • Industrial Property Number
      2007-158000
    • Filing Date
      2007-06-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] グラフェンナノシート上に現れる特異な電子状態の STM 観察-グラフェンナノリボンの第一原理計算に基づく起源の考察-2023

    • Author(s)
      李君寰,稲垣耕司,孫栄硯,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      2023年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 数値制御PCVMによる反応焼結SiC材の高精度形状創成-非球面形状の加工精度評価-2023

    • Author(s)
      能登樹,須場健太,孫栄硯,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      精密工学会第30回学生会員卒業研究発表講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 電気化学機械研磨によるSiCの高能率スラリーレス加工法の開発(第9報)-電解液の液性における4H-SiC(0001)の酸化特性の評価-2023

    • Author(s)
      木下亮祐,曹健傑,孫栄硯,有馬健太,山村和也,青木一史
    • Organizer
      2023年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] ナノグラフェン上での長方形状構造を呈するSTM像の第一原理計算に基づく考察2023

    • Author(s)
      李君寰,稲垣耕司,孫栄硯,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      第70回応用物理学会春季学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Origin of Rectangular-like Lattice on Nanographene in STM Images Unveiled by First-Principles Calculations2023

    • Author(s)
      J. Li, K. Inagaki, R. Sun, K. Yamamura, K. Arima
    • Organizer
      48th Conference on the Physics & Chemistry of Surfaces & Interfaces (PCSI-48)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 電気化学機械研磨によるSiCの高能率スラリーレス加工法の開発(第10報)-パルス幅変調電圧の印加により4H-SiC(0001)の研磨レートの向上-2023

    • Author(s)
      曹健傑,木下亮祐,孫栄硯,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2023年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] 多結晶ダイヤモンド基板の低コスト・高能率平坦化に関する研究-プラズマ援用研磨における前加工としてのレーザトリミング-2023

    • Author(s)
      杉原聡太,杉本健太郎,董佳遠,孫栄硯,有馬健太,王俊沙,須賀唯知,山村和也
    • Organizer
      精密工学会第30回学生会員卒業研究発表講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Nanotrench Formation along Step Edges of Vicinal Si(111) Surfaces by Wet-chemical Treatments2023

    • Author(s)
      K. Arima, Z. Ma, T. Takeuchi, R. Hashimoto, R. Sun, K. Yamamura
    • Organizer
      48th Conference on the Physics & Chemistry of Surfaces & Interfaces (PCSI-48)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 固定砥粒を用いたGaNウエハの高能率一貫加工プロセスの構築-ラップ加工で導入された加工変質層のプラズマ表面改質-2023

    • Author(s)
      大西雄也,北出隼人,陶通,永橋潤司,孫栄硯,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      精密工学会第30回学生会員卒業研究発表講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第 2 報)-2 inch多結晶ダイヤモンド基板に対する研磨圧力が表面粗さにおよぼす影響について-2023

    • Author(s)
      Dong Jiayuan,杉本健太郎,杉原聡太,孫栄硯,有馬健太,山村和也,須賀唯知,Wang Junsha
    • Organizer
      2023年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工(第3報)-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性に関する検討-2022

    • Author(s)
      杉本健太郎,劉念,吉鷹直也,川合健太郎,有馬健太,山田英明,赤羽優子,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Bias Dependence of STM Images Exhibiting Superstructures on Nanographene by First-principles Calculations2022

    • Author(s)
      Junhuan Li, Kentaro Kawai, Kouji Inagaki, Kazuya Yamamura, Kenta Arima
    • Organizer
      第69回応用物理学会春季学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] スラリーを用いない難加工材料の高能率ダメージフリー研磨技術 ―プラズマ援用研磨と電気化学機械研磨―2022

    • Author(s)
      山村和也
    • Organizer
      公益社団法人精密工学会 プラナリゼーションCMP とその応用技術専門委員会 第198回研究会
    • Invited
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Superstructure Patterns on Graphene Nanoribbons in Simulated STM Images at Low Biases2022

    • Author(s)
      J. Li, K. Kawai, K. Inagaki, K. Yamamura, K. Arima
    • Organizer
      The 22nd International Vacuum Congress (IVC-22)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] ワイドギャップ半導体基板のスラリーレスダメージフリー研磨プロセス ―プラズマ援用研磨と電気化学機械研磨―2022

    • Author(s)
      山村和也
    • Organizer
      【マイクロ加工懇談会・テクニスト研究会・トライボコーティング研究会・ドライコーティング研究会】合同研究会
    • Invited
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-2022

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第13報)-PCVM加工後の表面粗さ悪化要因の究明とその対策-2022

    • Author(s)
      須場健太,山本有悟,川合健太郎,有馬健太,山村和也,丸山龍治,曽山和彦,林田洋寿
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 砥石定盤を用いたGaNウエハのラップ加工2022

    • Author(s)
      北出隼人, 永橋潤司, 孫栄硯, 山村和也
    • Organizer
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第9回講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Self-assembled Ag Nanowires to Catalyze Nanotrench Formation Along Step Edges on Vicinal Si(111)2022

    • Author(s)
      K. Arima, Z. Ma, S. Masumoto, K. Kawai, K. Yamamura
    • Organizer
      The 22nd International Vacuum Congress (IVC-22)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Relative motion improvement and parameter optimization in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers2022

    • Author(s)
      H. Gu, Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 16th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] Formation and Characterization of Nanotrenches along Step Edges of a Flattened Si Surface by Self-assembled Processes in Solutions2022

    • Author(s)
      K. Arima, Z. Ma, S. Masumoto, K. Kawai, K. Yamamura
    • Organizer
      The 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE 2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工(第3報)-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性に関する検討-2022

    • Author(s)
      杉本健太郎,劉念,吉鷹直也,川合健太郎,有馬健太,山田英明,赤羽優子,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第12報): エッチレートにおける投入電力とギャップ長の相関2022

    • Author(s)
      大阪大学工学研究科 須場 健太, 山本 有悟, 川合 健太郎, 有馬 健太, 山村 和也, 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 丸山 龍治, 曽山 和彦, 総合科学研究機構中性子科学センター 林田 洋寿
    • Organizer
      精密工学会秋季大会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20H04457
  • [Presentation] Si 表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出-光電子検出量の脱出角依存性の検討-2022

    • Author(s)
      東知樹,孫栄硯,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      2022年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Optimization of modification conditions used in plasma assisted polishing for improving the material removal rate of Gallium nitride2022

    • Author(s)
      T. Tao, R. Sun, K. Arima, K. Kawai, K. Yamamura
    • Organizer
      The 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE 2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] ダイヤモンド砥粒を用いたプラズマ援用研磨による窒化ガリウム基板の高能率研磨2022

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第24報)-CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化-2022

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第24報)-CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化-2022

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Detection of photoelectrons from noble metal catalysts at the bottoms of Si grooves after metal-assisted chemical etching2022

    • Author(s)
      T. Higashi, K. Kawai, K. Yamamura, K. Arima
    • Organizer
      The 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE 2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性および摺動速度依存性に関する検討 -2022

    • Author(s)
      杉本健太郎,劉念,吉鷹直也,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      精密工学会2022年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Submicron-scale figure correction of Wolter mirror mandrel with nano-scale surface roughness using plasma chemical vaporization machining2022

    • Author(s)
      K. Suba, Y. Yamamoto, K. Kawai, K. Arima, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura
    • Organizer
      The 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE 2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-2022

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第14報)-PCVMにおける加工温度と表面粗さの相関-2022

    • Author(s)
      須場健太,山本有悟,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也,丸山龍治,曽山和彦,林田洋寿
    • Organizer
      2022年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Processing characteristics of quartz crystal in plasma chemical vaporization machining using argon or helium as the carrier gas2022

    • Author(s)
      T. Tao, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 16th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP2022) (2022.3.27@Virtual Conference) 91-95.
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Si 表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出- 光電子検出量の脱出角依存性の検討-2022

    • Author(s)
      東知樹,孫栄硯,川合健太郎,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      精密工学会2022年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Elucidation of plasma-assisted polishing mechanism through evaluating the adhesion force between diamond abrasive and AlN wafer2022

    • Author(s)
      R. Sun, T. Tao, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 19th International Conference on Precision Engineering (ICPE 2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Polishing characteristics of AlN ceramics in plasma-assisted polishing using diamond grinding stone with different abrasive particle sizes2022

    • Author(s)
      R. Sun, T. Tao, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 16th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP2022) (2022.3.27@Virtual Conference) 91-95.
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Study on material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing2022

    • Author(s)
      K. Sugimoto, N. Liu, N. Yoshitaka, H. Yamada, K. Arima, K. Kawai, K. Yamamura
    • Organizer
      15th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2022 (NDNC2022)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 第一原理計算を用いたナノグラフェン上の特異な超構造電子状態の解析2022

    • Author(s)
      李君寰,稲垣耕司,川合健太郎,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      精密工学会2022年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)2022

    • Author(s)
      杉本健太郎,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Highly-efficient damage-free finishing of diamond substrate by plasma-assisted polishing2022

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      15th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2022 (NDNC2022)
    • Invited / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 数値制御プラズマCVMによるWolterミラーマンドレルの高精度加工2022

    • Author(s)
      須場健太,山本有悟,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也,丸山龍治,曽山和彦,林田洋寿
    • Organizer
      精密工学会2022年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 難加工材料に対するスラリーレス超音波援用電気化学機械研磨法の開発(第3報)-4インチSiCウエハ研磨の検討-2022

    • Author(s)
      谷海洋,楊旭,楊暁喆,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)2022

    • Author(s)
      杉本健太郎,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2022年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] SiCウエハの超音波援用スラリーレス電気化学機械研磨に関する研究-研磨パラメータと砥石形状の最適化-2021

    • Author(s)
      谷海洋,楊旭,楊暁喆,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第11報)-精密加工のためのマンドレル高精度形状測定-2021

    • Author(s)
      山本有悟,須場健太,川合健太郎,有馬健太,山村和也,丸山龍治,曽山和彦,林田洋寿
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨法における砥石/ウエハ相対運動の改善2021

    • Author(s)
      谷海洋,楊旭,楊暁喆,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第11報): 精密加工のためのマンドレル高精度形状測定2021

    • Author(s)
      大阪大学工学研究科 山本 有悟, 須場 健太, 川合 健太郎, 有馬 健太, 山村 和也, 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 丸山 龍治, 曽山 和彦, 総合科学研究機構中性子科学センター 林田 洋寿
    • Organizer
      精密工学会秋季大会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20H04457
  • [Presentation] プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料の超精密加工2021

    • Author(s)
      山村和也
    • Organizer
      一般社団法人電子実装工学研究所(IMSI)接合界面創成技術研究会第35回研究会
    • Invited
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第22報)-フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制-2021

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第12報)-エッチレートにおける投入電力とギャップ長の相関-2021

    • Author(s)
      須場健太,山本有悟,川合健太郎,有馬健太,山村和也,丸山龍治,曽山和彦,林田洋寿
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第23報)-AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関-2021

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Nano-Groove Formation on Si (111) Surfaces by Metal Induced Etching by Ag Nanowires2021

    • Author(s)
      Z. Ma, S. Masumoto, K. Kawai, K. Yamamura, K. Arima
    • Organizer
      The 9th International Symposium on Surface Science (ISSS-9)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 単層ナノグラフェンに形成される新たな電子密度分布に関する研究-長方形状格子のSTM観察と第一原理計算による考察-2021

    • Author(s)
      李君寰,李韶賢,川合健太郎,稲垣耕司,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] STM Observation of Rectangular-like Superstructure in Nanographene on Graphite Surface2021

    • Author(s)
      J. Li, S. Li, K. Kawai, K. Inagaki, K. Yamamura, K. Arima
    • Organizer
      The 9th International Symposium on Surface Science (ISSS-9)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第22報)-フッ素系ガスを用いたプラズマ援用研磨における砥石成分の付着抑制-2021

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] SiCウエハのスラリーレス電気化学機械研磨における研磨パラメータの最適化2021

    • Author(s)
      谷海洋,楊旭,楊暁喆,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      精密工学会2021年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第23報)-AlN基板の研磨における砥粒材質と研磨特性の相関-2021

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] プラズマを援用した大面積モザイク単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー研磨2021

    • Author(s)
      吉鷹直也,劉念,杉本健太郎,菅原宏輝,山田英明,赤羽優子,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      第35回ダイヤモンドシンポジウム
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)-研磨レートおよび表面性状の研磨プレート材質依存性-2021

    • Author(s)
      杉本健太郎,劉念,吉鷹直也,川合健太郎,有馬健太,山田英明,赤羽優子,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 選択エッチングを利用したナノカーボン触媒の新しい活性評価法2021

    • Author(s)
      小笠原歩見,東知樹,三栗野諒,川合健太郎,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 燃料電池用グラフェンシートの酸素還元活性評価-選択エッチングを利用した新触媒評価法の検討-2021

    • Author(s)
      小笠原歩見,東知樹,三栗野諒,川合健太郎,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Study on the oxidation characteristics of reaction-sintered silicon carbide using vacuum Ar-based O2 plasma for plasma-assisted polishing2021

    • Author(s)
      T. Tao, R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2021)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Consideration on suppression of grinding stone components adhesion in dry polishing with the aid of surface modification by fluorine-based plasma2021

    • Author(s)
      R. Sun, T. Tao, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2021)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] ビトリファイドボンド砥石とフッ素系プラズマを用いたドレスフリー研磨法の開発2021

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] Optimization of polishing parameters to make the polishing amount distribution uniform in slurryless electrochemical mechanical polishing of 4 inch 4H-SiC wafers2021

    • Author(s)
      H. Gu, Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2021)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21K18677
  • [Presentation] プラズマを援用した大面積モザイク単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー研磨2021

    • Author(s)
      吉鷹直也,劉念,杉本健太郎,菅原宏輝,山田英明,赤羽優子,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      第35回ダイヤモンドシンポジウム
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 減圧プラズマフッ化における焼結AlN基板のフッ化レートの評価2021

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      精密工学会2021年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 銀イオンの選択吸着を援用したSi表面上への連続ナノ溝構造の形成と評価2021

    • Author(s)
      馬智達,増本晴文,川合健太郎,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      2021年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] ナノグラフェン上での長方形状超構造のSTM観察とその起源2021

    • Author(s)
      李君寰,李韶賢,川合健太郎,稲垣耕司,山村和也,有馬健太
    • Organizer
      第82回応用物理学会秋季学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] ビトリファイドボンド砥石とフッ素系プラズマを用いたドレスフリー研磨法の開発2021

    • Author(s)
      孫栄硯,陶通,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 中性子集光用高精度 Wolter ミラーマンドレルの作製(第 10 報): プラズマCVM加工後の表面粗さの改善2021

    • Author(s)
      大阪大学工学研究科 山本有悟,川合健太郎,有馬健太,山村和也 ,国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 丸山龍治,曽山和彦 総合科学研究機構中性子科学センター 林田洋寿
    • Organizer
      精密工学会大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20H04457
  • [Presentation] Consideration on suppression of grinding stone components adhesion in dry polishing with the aid of surface modification by fluorine-based plasma2021

    • Author(s)
      R. Sun, T. Tao, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2021)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 窒化アルミニウムセラミックス材のプラズマ援用研磨に関する研究-異なる粒径のビトリファイドボンドダイヤモンド砥石を用いたAlN基板の研磨特性-2021

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 窒化アルミニウムセラミックス材のプラズマ援用研磨に関する研究-異なる粒径のビトリファイドボンドダイヤモンド砥石を用いたAlN基板の研磨特性-2021

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 減圧プラズマ酸化における反応焼結SiCの酸化特性2021

    • Author(s)
      陶通,孫栄硯,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      精密工学会2021年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 剥離グラフェンシートにおける長方形状格子のSTM観察とその起源2021

    • Author(s)
      李君寰、李韶賢、川合健太郎、稲垣耕司、山村和也、有馬健太
    • Organizer
      2021年日本表面真空学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦・平滑化に関する研究(第1報)-研磨レートおよび表面性状の研磨プレート材質依存性-2021

    • Author(s)
      杉本健太郎,劉念,吉鷹直也,川合健太郎,有馬健太,山田英明,赤羽優子,山村和也
    • Organizer
      2021年度砥粒加工学会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Innovation in ultra-precision machining through “Plasma nanoManufacturing Process”2021

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      Bridging the Pandemic: Reigniting Cooperation on Plasma Research(日独交流160周年記念)
    • Invited / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-21H05005
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第9報): プラズマCVM加工後の形状および表面粗さの評価2020

    • Author(s)
      大阪大学工学研究科 山本有悟,荒川翔平,川合健太郎,有馬健太,山村和也,国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 丸山龍治,曽山和彦,総合科学研究機構中性子科学センター 林田洋寿
    • Organizer
      精密工学会大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20H04457
  • [Presentation] 電気化学機械研磨による SiC の高能率スラリーレス加工法の開発(第4報) -4H-SiC(0001)スライス面のスラリーレス電気化学機械研磨-2020

    • Author(s)
      楊旭、楊暁喆、川合健太郎、有馬健太、山村和也
    • Organizer
      2020年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] 電気化学機械研磨による SiC の高能率スラリーレス加工法の開発(第5報) -表面粗さを低減させる電位条件の基礎検討-2020

    • Author(s)
      楊旭、楊暁喆、川合健太郎、有馬健太、山村和也
    • Organizer
      2020年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] プラズマを援用したダイヤモンド基板の高精度加工(第1報)-誘導結合プラズマを用いた単結晶ダイヤモンドの加工特性-2019

    • Author(s)
      鈴木蓮、劉念、劉智志、川合健太郎、有馬健太、山村和也
    • Organizer
      2019年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Development of high-efficient and damage-free ultrasonic assisted electrochemical mechanical polishing for difficult-to-machine materials -Effects of mass concentration of electrolyte (NaCl) on the anode oxidation rate and the promotion performance of ultrasonic vibration-2019

    • Author(s)
      X. Yang, X. Yang, K. Kawqai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      2019年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] Comparison of two-step and simultaneous slurryless electrochemical mechanical polishing for obtaining smooth 4H-SiC (0001) surface2019

    • Author(s)
      Xu. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 15th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP2019)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] Preliminary study on slurryless electrochemical mechanical polishing of sliced 4H-SiC (0001) surface2019

    • Author(s)
      Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 8th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN2019)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] Slurryless electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surfaces2019

    • Author(s)
      Xu. Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ICSCRM2019)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究(第3報) -反応焼結SiC材の加工における反応生成堆積物の影響-2019

    • Author(s)
      孫栄硯、川合健太郎、有馬健太、大久保雄司、山村和也
    • Organizer
      精密工学会2019年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 誘導結合プラズマを用いた単結晶ダイヤモンドの加工特性2019

    • Author(s)
      鈴木蓮、劉念、川合健太郎、有馬健太、山村和也
    • Organizer
      精密工学会2019年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Optimization of polishing parameters for obtaining smooth 4H-SiC (0001) surface by slurryless electrochemical mechanical polishing2019

    • Author(s)
      Xu Yang, X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 22nd International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2019)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] 電気化学機械研磨による SiC の高能率スラリーレス加工法の開発(第 3 報) -酸化レートと研磨レートとのバランスが表面粗さに与える影響の調査-2019

    • Author(s)
      楊旭,楊暁喆,川合健太郎,有馬健太,山村和也
    • Organizer
      2019年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] Stabilization of argon-based atmospheric pressure CF4 plasma by adding ethanol for precision thickness correction of quartz crystal wafer2019

    • Author(s)
      R. Sun, K. Watanabe, S. Miyazaki, T. Fukano, M. Kitada, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 15th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Aspherical Shape Figuring on Reaction-sintered Silicon Carbide by Plasma Chemical Vaporization Machining2019

    • Author(s)
      R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 8th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第18報)-フッ素系プラズマの照射によるAlN基板の表面改質効果の評価-2019

    • Author(s)
      孫栄硯、川合健太郎、有馬健太、山村和也
    • Organizer
      2019年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Surface modification of AlN by irradiation of fluorine-based atmospheric pressure plasma for damage-free polishing2019

    • Author(s)
      R. Sun, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 22nd International Symposium on Advances in Abrasive Technology
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第5報) - PCVM加工における 加工変質層が及ぼす加工特性への影響の評価-2018

    • Author(s)
      小林勇輝,荒川翔平,遠藤勝義,山村和也,山崎大,丸山龍治,曽山和彦,林田洋寿
    • Organizer
      2017年度精密工学会秋季大会(大阪大学)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] プラズマナノ製造プロセスによる機能性材料のダメージフリー加工2018

    • Author(s)
      山村和也
    • Organizer
      平成30年度砥粒の日企画オープンセミナー「超精密加工の複合化」
    • Invited
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 反応性プラズマを援用したセラミックス材料のダメージフリー形状創成・仕上げ加工技術の開発2018

    • Author(s)
      山村和也
    • Organizer
      粉体粉末冶金協会平成30年度春季大会(第121回講演大会)[
    • Invited
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Application of Plasma Chemical Vaporization Machining for Figuring of Reaction-sintered Silicon Carbide2018

    • Author(s)
      R. Sun, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      18th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Plasma nanoManufacturing for ultraprecise shape creation and damage-free finishing2018

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      International Symposium on Extreme Optical Manufacturing and Laser-Induced Damage in Optics
    • Invited / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 数値制御プラズマCVM加工による中性子顕微鏡用高精度Wolterミラーマンドレルの作製2018

    • Author(s)
      荒川翔平、小林勇輝、遠藤勝義、山村和也、山崎大、丸山龍治、曽山和彦、林田洋寿
    • Organizer
      精密工学会 2018年度春季大会(中央大学)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] プラズマCVMによる水晶ウエハの加工に関する研究 -エタノール添加によるCF4含有大気圧Arプラズマの安定化-2018

    • Author(s)
      孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 渡辺啓一郎, 宮崎史朗, 深野徹, 北田勝信
    • Organizer
      精密工学会2018年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 固定砥粒を用いた4H-SiC (0001)表面の電気化学機械研磨2018

    • Author(s)
      楊旭, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2018年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] Damage-free figuring of reaction-sintered silicon carbide by plasma chemical vaporization machining2018

    • Author(s)
      R. Sun, Y. Ohkubo, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 14th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Adhesion property of heat-assisted plasma-treated polytetrafluoroethylene (PTFE) -Realization in extremely high adhesion of PTFE and other types of material-2018

    • Author(s)
      Y. Ohkubo, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      6th World Congress on Adhesion and Related Phenomena (WCARP-VI)
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] プラズマCVMによる多成分材料の高精度加工に関する研究(第2報)-反応燒結SiC材に対する非球面形状の創成-2018

    • Author(s)
      孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也, 大久保雄司
    • Organizer
      2018年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] 電気化学機械研磨によるSiCの高能率ダメージフリー加工法の開発(第2報)-酸化レートの変化による表面粗さの改善-2018

    • Author(s)
      楊旭, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也
    • Organizer
      2018年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] Plasma nanoManufacturing for ultraprecise shape creation and damage-free finishing2018

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      International Symposium on Application of Intellectual Precision Engineering to Support Next Generation IC Manufacturing
    • Invited / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18H03754
  • [Presentation] Preliminary study on the electrochemical mechanical polishing of 4H-SiC (0001) surface2018

    • Author(s)
      X. Yang, K. Kawai, K. Arima, K. Yamamura
    • Organizer
      The 14th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] 深部磁気モーメント可視化の為のウォルタ-スーパーミラー中性子顕微鏡の開発2018

    • Author(s)
      曽山和彦、林田洋寿、丸山龍治、山崎大、山村和也、後藤惟樹、小林勇輝
    • Organizer
      2017年度量子ビームサイエンスフェスタ
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] AFM observation of initial oxidation stage of 4H-SiC (0001) in electrochemical mechanical polishing2018

    • Author(s)
      X. Yang, Y. Ohkubo, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      The 19th CIRP Conference on Electro Physical and Chemical Machining
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18K18810
  • [Presentation] 熱アシストプラズマ処理の接着性向上効果に対する表面温度の影響 -プラズマ処理中のヒータ加熱によるフッ素樹脂の接着性向上効果-2017

    • Author(s)
      中川哲哉、大久保雄司、青木智紀、小玉欣典、遠藤勝義、山村和也
    • Organizer
      精密工学会 2017年度秋季大会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] Effect of O2 or H2 gas addition to Ar gas on surface modification of fluoropolymer using atmospheric pressure plasma -Application for highly adhesive Ag wiring pattern on plasma-treated fluoropolymer-2017

    • Author(s)
      Y. Kodama, Y. Ohkubo, T. Oshita, T. Aoki, T. nakagawa, K. Endo, and K. Yamamura
    • Organizer
      Advanced Materials and Nanotechnology
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 深部磁気モーメント可視化の為のウォルタ-スーパーミラー中性子顕微鏡の開発2017

    • Author(s)
      曽山和彦, 林田洋寿, 丸山龍治, 山崎大, 山村和也, 後藤惟樹, 小林勇輝
    • Organizer
      2016年度量子ビームサイエンスフェスタ
    • Place of Presentation
      つくば国際会議場(エポカルつくば)(茨城県つくば市)
    • Year and Date
      2017-03-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] 大気開放型ガス加熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質2017

    • Author(s)
      小玉欣典, 大久保雄司, 青木智紀, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 大下貴也, 山村和也
    • Organizer
      表面技術協会 第135回講演大会
    • Place of Presentation
      東洋大学 川越キャンパス
    • Year and Date
      2017-03-09
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 熱アシストプラズマ処理したポリテトラフルオロエチレンとゴムとの接着性に及ぼすゴム配合剤の影響2017

    • Author(s)
      大久保雄司、柴原正文、長谷朝博、本田幸司、遠藤勝義、山村和也
    • Organizer
      日本接着学会 第55回 年次大会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 熱アシストプラズマ処理の接着性向上効果に対する電極間距離の影響 -凹凸を含む三次元構造体への応用に向けた検討-2017

    • Author(s)
      中川哲哉、大久保雄司、青木智紀、小玉欣典、遠藤勝義、山村和也
    • Organizer
      精密工学会 関西支部 2017年度関西地方定期学術講演会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第4報) -石英ガラス製回転体基盤に対するプラズマジェット加工特性の評価 -2017

    • Author(s)
      小林勇輝, 後藤惟樹, 遠藤勝義, 山村和也, 山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿
    • Organizer
      2017年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      慶應大学矢上キャンパス(神奈川県横浜市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] 微量ガス添加が大気圧Arプラズマ処理によるフッ素樹脂の表面改質効果に及ぼす影響 -フッ素樹脂とAgインク膜の密着性向上への応用-2017

    • Author(s)
      小玉欣典、大久保雄司、青木智紀、中川哲哉、遠藤勝義、大下貴也、山村和也
    • Organizer
      表面技術協会 第136回講演大会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] フッ素樹脂の接着性を向上する熱アシストプラズマ処理の実用化に向けた検討2017

    • Author(s)
      中川哲哉、大久保雄司、小玉欣典、青木智紀、柴原正文、長谷朝博、本田幸司、遠藤勝義、山村和也
    • Organizer
      日本接着学会 第13回若手の会
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 未来のエレクトロニクス社会を実現するプロセス技術への挑戦2017

    • Author(s)
      上原剛、中野良憲、大下貴也、小玉欣典、大久保雄司、山村和也
    • Organizer
      PLASMA2017シンポジウム
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] プラズマ処理時のプロセスガスがPTFEの密着性に及ぼす影響2017

    • Author(s)
      中川哲哉, 大久保雄司, 青木智紀, 小玉欣典, 原田朋実, 遠藤勝義, 大下貴也, 山村和也
    • Organizer
      日本機械学会 関西学生会平成28年度学生員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      大阪大学 吹田キャンパス
    • Year and Date
      2017-03-11
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] プラズマを援用した砥粒を用いない単結晶ダイヤモンドウエハの高能率研磨2017

    • Author(s)
      江守健, 道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
    • Organizer
      日本機械学会 関西学生会平成28年度学生員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      大阪大学吹田キャンパス(大阪府・吹田市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨によるワイドギャップ半導体基板のダメージフリー仕上げ2017

    • Author(s)
      辻内健太郎, 蔭山千華, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      日本機械学会 関西学生会平成28年度学生員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      大阪大学吹田キャンパス(大阪府・吹田市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 中性子集束用高精度Wolterミラーマンドレルの作製― 集束性能に影響を及ぼす形状誤差の光線追跡シミュレーションによる評価 ―2016

    • Author(s)
      後藤惟樹, 小林勇輝, 遠勝勝義, 山村和也, 山崎 大, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿
    • Organizer
      精密工学会 2016年度春季大会
    • Place of Presentation
      東京理科大学(千葉県野田市)
    • Year and Date
      2016-03-15
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] 熱アシストプラズマ処理によるポリテトラフルオロエチレンシート上への無粗化高密着性銅ペースト膜の作製2016

    • Author(s)
      大久保雄司, 小玉欣典, 久保田和宏, 澤田公平, 石原健人, 青木智紀, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      表面技術協会 第133回講演大会
    • Place of Presentation
      早稲田大学 西早稲田キャンパス(東京都・新宿区)
    • Year and Date
      2016-03-22
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] Planarization of CVD grown single crystal diamond wafer by numerically controlled plasma chemical vaporization machining2016

    • Author(s)
      H. Dojo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura
    • Organizer
      16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Nottingham, UK
    • Year and Date
      2016-05-30
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Investigation of determining factor of etching rate of single crystal diamond in plasma chemical vaporization machining2016

    • Author(s)
      H. Dojo, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura
    • Organizer
      16th International Conference on Precision Engineering (ICPE2016)
    • Place of Presentation
      アクトシティ浜松(静岡県・浜松市)
    • Year and Date
      2016-11-14
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第8報)-エッチングレートの基板温度依存性の調査-2016

    • Author(s)
      道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
    • Organizer
      2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      茨城大学水戸キャンパス(茨城県・水戸市)
    • Year and Date
      2016-09-06
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第16報)-砥石の表面性状とGaNの研磨レートの相関-2016

    • Author(s)
      蔭山千華, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2016年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東京理科大学野田キャンパス(千葉県野田市)
    • Year and Date
      2016-03-15
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨によるGaNの高能率ドライ仕上げ加工に関する研究 -プラズマ照射における初期酸化レート算出の基礎検討-2016

    • Author(s)
      蔭山千華, 辻内健太郎, Deng Hui, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2016年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      島津製作所三条事業所(京都府・京都市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Surface modification of polytetrafluoroethylene (PTFE) by heat-assisted atmospheric pressure plasma treatment for improving adhesion between PTFE and isobutylene-isoprene rubber (IIR)2016

    • Author(s)
      Y. Ohkubo, K. Ishihara, M. Shibahara, A. Nagatani, K. Honda, T. Aoki, Y. Kodama, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      15th International Conference on Plasma Surface Engineering(PSE2016)
    • Place of Presentation
      Garmisch-Partenkirchen, Germany
    • Year and Date
      2016-09-13
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製-円筒石英ガラス基盤に対するプラズマジェット加工特性の評価-2016

    • Author(s)
      小林勇輝, 後藤惟樹, 遠勝勝義, 山村和也, 山崎 大, 丸山龍治, 曽山和彦, 林田洋寿
    • Organizer
      機械学会関西学生会卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      大阪電気通信大学(大阪府寝屋川市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第7報)-プラズマエッチング反応領域の制限によるエッチピット成長の抑制-2016

    • Author(s)
      道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
    • Organizer
      2016年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東京理科大学野田キャンパス(千葉県野田市)
    • Year and Date
      2016-03-15
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 大気圧プラズマ処理を用いたフッ素樹脂の表面改質におけるプロセスガス加熱の効果2016

    • Author(s)
      小玉欣典, 大久保雄司, 青木智紀, 中川哲哉, 原田朋実, 遠藤勝義, 大下貴也, 山村和也
    • Organizer
      表面技術協会 関西支部 第18回関西表面技術フォーラム
    • Place of Presentation
      甲南大学 ポートアイランドキャンパス
    • Year and Date
      2016-11-17
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] フッ素樹脂の密着性に及ぼす熱アシストプラズマ処理の効果2016

    • Author(s)
      大久保雄司, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      日本接着学会 関西支部 第12回若手の会
    • Place of Presentation
      関西大学 千里山キャンパス
    • Year and Date
      2016-10-12
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] Precise correction of cylindrical shape by numerically controlled plasma chemical vaporization machining2016

    • Author(s)
      Y. Goto, Y. Kobayashi, K. Endo, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, K. Soyama, K. Yamamura
    • Organizer
      16th International Conference on Precision Engineering (ICPE2016)
    • Place of Presentation
      アクトシティ浜松(静岡県浜松市)
    • Year and Date
      2016-11-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] Highly-efficient pit-free and slurryless finishing of GaN by plasma-assisted polishing2016

    • Author(s)
      C. Kageyama, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      16th International Conference on Precision Engineering (ICPE2016)
    • Place of Presentation
      アクトシティ浜松(静岡県・浜松市)
    • Year and Date
      2016-11-14
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第3報) -石英ガラス基板のプラズマジェット加工における加工速度の基板温度依存性-2016

    • Author(s)
      後藤惟樹, 小林勇輝, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也
    • Organizer
      2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      茨城大学水戸キャンパス(茨城県水戸市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] High-spatial Resolution Figuring by Pulse Width Modulation Controlled Plasma Chemical Vaporization Machining2016

    • Author(s)
      K. Yamamura, Y. Takeda, S. Sakaiya, D. Funato, K. Endo
    • Organizer
      18th CIRP Conference on Electro Physical and Chemical Machining (ISEM XVIII)
    • Place of Presentation
      東京大学本郷キャンパス(東京都・文京区)
    • Year and Date
      2016-04-19
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 中性子集光用高精度Wolterミラーマンドレルの作製(第2報) -マイクロ波プラズマジェット加工における加工速度のCF4/O2組成依存性-2016

    • Author(s)
      小林勇輝, 後藤惟樹, 遠藤勝義, 山崎大, 丸山龍治, 林田洋寿, 曽山和彦, 山村和也
    • Organizer
      2016年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      茨城大学水戸キャンパス(茨城県水戸市)
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] Highly-efficient slurryless finishing of GaN by plasma-assisted polishing using a resin bonded grinding stone2016

    • Author(s)
      C. Kageyama, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      16th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Nottingham, UK
    • Year and Date
      2016-05-30
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 電気化学機械研磨による金型用SiC材の高能率・ダメージフリー研磨(第 1 報) -研磨中における電気化学測定の結果と得られた表面性状の相関-2015

    • Author(s)
      今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2015年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東洋大学・白山キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第15報)-ウエハ用研磨装置の試作とその性能評価-2015

    • Author(s)
      蔭山千華, 門奈剛毅, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東北大学川内北キャンパス(宮城県仙台市青葉区)
    • Year and Date
      2015-09-03
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨によるダイヤモンドウエハの研磨における砥石材質と研磨特性の相関2015

    • Author(s)
      道上久也, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明
    • Organizer
      精密工学会2015年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      京都工芸繊維大学松ヶ崎キャンパス(京都府京都市左京区)
    • Year and Date
      2015-06-23
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Development of A Neutron Microscope using Wolter Supermirror2015

    • Author(s)
      Kazuhiko Soyama, Dai Yamazaki, Ruji Maruyama, Hayashida Hayashida, Kazuya Yamamura, Yuki Goto, and Yuki Kobayashi
    • Organizer
      4th International Workshop on Neutron Delivery Systems 2015
    • Place of Presentation
      ILL Grenoble, FRANCE
    • Year and Date
      2015-09-28
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15H03593
  • [Presentation] Planarization and Smoothing of CVD Grown Diamond Wafer by Atmospheric Pressure Plasma Based Process2015

    • Author(s)
      H. Dojo, T. Tabata, K. Endo, H. Yamada, A. Chayayahara, Y. Mokuno, K. Yamamura
    • Organizer
      The 6th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Harbin, China
    • Year and Date
      2015-08-15
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] サファイア基板のプラズマ援用研磨における加工モデルの提唱とサファイア表面の水和化の検証2015

    • Author(s)
      蔭山千華, Deng Hui, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2015年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      京都工芸繊維大学松ヶ崎キャンパス(京都府京都市左京区)
    • Year and Date
      2015-06-23
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の 開 発( 第 12 報)-金型用CVD-SiCの研磨特性の評価-2015

    • Author(s)
      鄧輝, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2015年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東洋大学・白山キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] ポリテトラフルオロエチレンの密着性に及ぼすプラズマ処理中の加熱の影響 -ポリテトラフルオロエチレンと異種材料の強力接合-2015

    • Author(s)
      大久保雄司, 石原健人, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      日本接着学会 第11回若手の会
    • Place of Presentation
      兵庫県立大学-姫路工学キャンパス(兵庫県姫路市)
    • Year and Date
      2015-11-27
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] Plasma-assisted polishing: Novel damage-free atomically flat finishing technique for wide gap semiconductor materials2015

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      The 16th International Manufacturing Conference in China
    • Place of Presentation
      Hangzhou, China
    • Year and Date
      2015-10-23
    • Invited / Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 大気圧プラズマを用いたフッ素樹脂の表面改質 -大気圧プラズマ処理と熱アシスト大気圧プラズマ処理の比較-2015

    • Author(s)
      石原健人、大久保雄司, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 柴原正文, 長谷朝博, 本田幸司, 山村和也
    • Organizer
      第17回 関西表面技術フォーラム
    • Place of Presentation
      甲南大学 ポートアイランドキャンパス(兵庫県・神戸市)
    • Year and Date
      2015-11-26
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] Improvement of Form Accuracy in NC-PCVM by Compensation of Surface Temperature Change2015

    • Author(s)
      S. Sakaiya, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      The 6th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Harbin, China
    • Year and Date
      2015-08-15
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface2015

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      65th CIRP General Assembly
    • Place of Presentation
      Cape Town, South Africa
    • Year and Date
      2015-08-23
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂の長寿命表面改質 -フッ素樹脂の高密着性メタライジング-2015

    • Author(s)
      大久保雄司, 石原健人, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      第17回 関西表面技術フォーラム
    • Place of Presentation
      甲南大学 ポートアイランドキャンパス(兵庫県・神戸市)
    • Year and Date
      2015-11-26
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第6報)-ラマン分光法を用いた表面構造の解析によるダイヤモ ンド除去モデルの提唱-2015

    • Author(s)
      道上久也, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明
    • Organizer
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東北大学川内北キャンパス(宮城県仙台市青葉区)
    • Year and Date
      2015-09-03
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 大気圧プラズマをベースとした単結晶CVDダイヤモンドウエハの平坦化・平滑化2015

    • Author(s)
      道上久也, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明
    • Organizer
      精密工学会第22回学生会員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      東洋大学・白山キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-17
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 熱アシストプラズマ処理によるフッ素樹脂と金属膜の強力接合2015

    • Author(s)
      大久保雄司, 石原健人, 青木智紀, 小玉欣典, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      表面技術協会 第132回講演大会
    • Place of Presentation
      信州大学 長野キャンパス(長野県・長野市)
    • Year and Date
      2015-09-09
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-15K05723
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開 発( 第 13 報 ) -単結晶GaNの研磨における表面改質条件の最適化-2015

    • Author(s)
      鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2015年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東洋大学・白山キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Polishing characteristics of CVD-SiC in plasma-assisted polishing2015

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      15th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Leuven, Belgium
    • Year and Date
      2015-06-01
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 大気圧プラズマプロセスをベースとした単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー平坦化・平滑化(第 5 報) -XPSとFTIR-ATR法を用いた表面終端構造の解析による平滑化モデルの提唱-2015

    • Author(s)
      田畑雄壮, 道上久也, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
    • Organizer
      2015年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東洋大学・白山キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開発(第14 報) -プラズマをベースとした金型用 CVDSiCの形状創成と表面仕上げに関する研究-2015

    • Author(s)
      鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東北大学川内北キャンパス(宮城県仙台市青葉区)
    • Year and Date
      2015-09-03
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] マイクロ波プラズマジェットの数値制御走査による単結晶 CVD ダイヤモンドウエハの平坦化2015

    • Author(s)
      道上久也, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山田英明, 茶谷原昭義, 杢野由明, 山村和也
    • Organizer
      日本機械学会 関西学生会平成26年度学生員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      京都大学・桂キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Study on removal mechanism of sapphire in plasma assisted polishing2015

    • Author(s)
      C. Kageyama, K. Monna, H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      The 18th International Symposium on Advances in Abrasive Technology
    • Place of Presentation
      Jeju, Korea
    • Year and Date
      2015-10-04
    • Int'l Joint Research
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨におけるサファイア基板の加工モデルの提唱とその検証2015

    • Author(s)
      蔭山千華, 門奈剛毅, 田畑雄壮, 鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      日本機械学会 関西学生会平成26年度学生員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      京都大学・桂キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] セリアスラリーを用いた研磨における化学作用と機械作用のバランスによる4H-SiCのステップ/テラス構造の制御2014

    • Author(s)
      鄧輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2014年度砥粒加工学会学術講演会
    • Place of Presentation
      岩手大学
    • Year and Date
      2014-09-11
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 反応焼結SiC材の陽極酸化援用研磨法における加工状態の電気化学的モニタリングに関する検討2014

    • Author(s)
      今西勇介, 下園直樹, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      電気加工学会全国大会
    • Place of Presentation
      新潟大学
    • Year and Date
      2014-12-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] 大気圧雰囲気下で生成したArベースの水蒸気プラズマによる単結晶サファイア(0001)面の水和化2014

    • Author(s)
      門奈剛毅, 蔭山千華, 鄧輝, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2014年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      近畿大学・東大阪キャンパス
    • Year and Date
      2014-07-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] プラズマ援用研磨による単結晶GaN基板の高能率研磨 -プラズマ照射により改質された表面状態の評価-2014

    • Author(s)
      鄧 輝, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2014年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      近畿大学・東大阪キャンパス
    • Year and Date
      2014-07-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 陽極酸化援用研磨による4H-SiCの平滑化に関する研究 -セリアスラリーを電解液とした場合の研磨特性-2014

    • Author(s)
      細谷憲治, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2014年度砥粒加工学会学術講演会
    • Place of Presentation
      岩手大学
    • Year and Date
      2014-09-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] 陽極酸化援用研磨による4H-SiCの平滑化に関する研究 ‐膜形成速度および膜除去速度の最適化-2014

    • Author(s)
      細谷憲治, 今西勇介, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      電気加工学会全国大会
    • Place of Presentation
      新潟大学
    • Year and Date
      2014-12-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] 反応焼結SiC材の陽極酸化援用研磨における電極/研磨パッド複合ヘッドの開発2014

    • Author(s)
      今西勇介, 下園直樹, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2014年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      近畿大学・東大阪キャンパス
    • Year and Date
      2014-07-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] プラズマ援用研磨法の開 発(第11報) -サファイア基板のプラズマ援用研磨における加工メカニズムの調査-2014

    • Author(s)
      門奈剛毅, 蔭山千華, 鄧輝, 田畑雄壮, 遠藤勝義, 山村和也
    • Organizer
      2014年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      鳥取大学
    • Year and Date
      2014-09-16
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 大気圧プラズマ化学液相堆積法を用いたフッ素ポリマー表面における選択的銅メタライジングプロセスの開発 -インクジェット法を用いた銅配線のダイレクトパターニング-2013

    • Author(s)
      佐藤悠、大岡健人、山村和也
    • Organizer
      日本機械学会 関西学生会平成 24 年度学生員卒業研究発表講演会
    • Place of Presentation
      大阪工業大学 大宮キャンパス
    • Year and Date
      2013-03-15
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Adhesion strength of electroless copper plated layer on fluoropolymer surface modified by medium pressure plasma2012

    • Author(s)
      K. Ooka、Y. Yamamoto、Y. Hara、N. Zettsu、K. Yamamura
    • Organizer
      The 14th International Conference on Precision Engineering(ICPE2012)
    • Place of Presentation
      Awaji, Japan
    • Year and Date
      2012-11-09
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Effect of Atmospheric Plasma Treatment on Adhesion Strength of Electroless Copper Film/Fluorocarbon Polymer Interface2012

    • Author(s)
      K. Ooka、Y. Hara、K. Yamamura
    • Organizer
      Fifth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • Place of Presentation
      Osaka, JAPAN
    • Year and Date
      2012-10-23
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング-電解銅めっき膜の密着強度におけるプラズマ発生圧力依存性-2012

    • Author(s)
      大岡健人、山本悠人、是津信行、山村和也
    • Organizer
      2012 年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
    • Place of Presentation
      首都大学東京 南大沢キャンパス
    • Year and Date
      2012-03-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Interfacial Analysis of Electroless Copper Thin Film on Fluorocarbon Polymer Fabricated by Plasma Irradiation with Graft Copolymerization2012

    • Author(s)
      K. Ooka、Y. Hara、K. Yamamura
    • Organizer
      International Symposium on Dry Process(DPS2012)
    • Place of Presentation
      Tokyo, Japan
    • Year and Date
      2012-11-16
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジングー電解銅めっき膜の密着強度におけるプラズマ発生圧力依存性-2012

    • Author(s)
      大岡健人, 山本悠人, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      2012年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      首都大学東京 南大沢キャンパス
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] プラズマを用いたフッ素ポリマー表面の高密着性銅メタライジングプロセスの開発 -無電解銅めっき膜の剥離界面の調査-2012

    • Author(s)
      大岡健人、原 安寛、山村和也
    • Organizer
      2012 年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
    • Place of Presentation
      九州工業大学
    • Year and Date
      2012-09-14
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] 中圧プラズマを用いたフッ素ポリマー表面の銅メタライジング2012

    • Author(s)
      大岡健人、原 安寛、山村和也
    • Organizer
      精密工学会 2012 年度関西地方定期学術講演会講演論文集
    • Place of Presentation
      立命館大学びわこ・くさつキャンパス
    • Year and Date
      2012-06-15
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Fabrication of Patterned Metal Layer on Poly(tetrafluoroethylene)Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach2011

    • Author(s)
      K. Ooka, H. Akiyama, Y. Yamamoto, N. Zettsu, K. Yamamura
    • Organizer
      Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • Place of Presentation
      大阪大学中之島センター
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] A Spheroidal Supermirror2011

    • Author(s)
      K.Soyama, D.Yamazaki, R.Maruyama, H.Hayashida, M.Nagano, N.Zettsu, K.Yamamura
    • Organizer
      Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering
    • Place of Presentation
      つくば国際会議場
    • Year and Date
      2011-11-23
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング2011

    • Author(s)
      大岡健人、秋山弘貴、山本悠人、是津信行、山村和也
    • Organizer
      精密工学会 2011 年度関西地方定期学術講演会講演論文集
    • Place of Presentation
      兵庫県立大学姫路書写キャンパス
    • Year and Date
      2011-06-30
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング-過酸化物ラジカルの存在形態と無電解銅めっき膜の密着強度の相関-2011

    • Author(s)
      大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      2011年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      金沢大学
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Study on Adhesion Strength of Cu Plating Film Formed on PTFE Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition2011

    • Author(s)
      Y. Hara、K. Oooka、H. Akiyama、N. Zettsu、K. Yamamura
    • Organizer
      Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • Place of Presentation
      Osaka, JAPAN
    • Year and Date
      2011-11-01
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Study on Adhesion Strength of Cu Plating Film Formed on PTFE Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition2011

    • Author(s)
      Y. Hara, K. Oooka, H. Akiyama, N. Zettsu, K. Yamamura
    • Organizer
      Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • Place of Presentation
      大阪大学中之島センター
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Fabrication of Patterned Metal Layer on Poly(tetrafluoroethylene)Substrate through Atmospheric Pressure Plasma Liquid Deposition Approach2011

    • Author(s)
      K. Ooka、H. Akiyama、Y. Yamamoto、N. Zettsu、K. Yamamura
    • Organizer
      Fourth International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • Place of Presentation
      Osaka, JAPAN
    • Year and Date
      2011-11-01
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工(第4報)-表面粗さの生成要因に関する検討-2011

    • Author(s)
      細田真央, 永野幹典, 是津信行, 山村和也, 島田尚一, 谷口一雄
    • Organizer
      東日本大震災のため予稿集の発行のみ,2011年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 505-506
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] A Spheroidal Supermirror2011

    • Author(s)
      K. Soyama, D. Yamazaki, R. Maruyama, H. Hayashida, M. Nagano, N. Zettsu, K. Yamamura
    • Organizer
      Proceedings of Asia-Oceania Conference on Neutron Scattering
    • Place of Presentation
      Tsukuba
    • Year and Date
      2011-11-23
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング-過酸化物ラジカルの存在形態と無電解銅めっき膜の密着強度の相関-2011

    • Author(s)
      大岡健人、秋山弘貴、山本悠人、是津信行、山村和也
    • Organizer
      2011 年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
    • Place of Presentation
      金沢大学
    • Year and Date
      2011-09-21
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] 大気開放下におけるプラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の銅メタライジング2011

    • Author(s)
      大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2011年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      兵庫県立大学姫路書写キャンパス
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Finishing of reaction sintered SiC by plasma assisted polishing -Analysis of chemical and morphological structure of processed surface-2011

    • Author(s)
      Hui Deng, Masaki Ueda, Sho Morinaga, Nobuyuki Zettsu, Kazuya Yamamura
    • Organizer
      東日本大震災のため予稿集の発行のみ,2011 年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 287-288
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 大気圧プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面への高密着性金属配線パタン作製2011

    • Author(s)
      大岡健人、秋山弘貴、山本悠人、原 安寛、山村和也、是津信行
    • Organizer
      Plasma Conference (PLASMA2011)
    • Place of Presentation
      石川県立音楽堂
    • Year and Date
      2011-11-23
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] 大気圧プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面への高密着性金属配線パターン作製2011

    • Author(s)
      大岡健人, 秋山弘貴, 山本悠人, 原 安寛, 山村和也, 是津信行
    • Organizer
      Plasma Conference (PLASMA2011)
    • Place of Presentation
      石川県立音楽堂
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-23656105
  • [Presentation] Effect of Substrate Heating in Thickness Correction of Quartz Crystal Wafer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010

    • Author(s)
      上田真己, 柴原正文, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      International Conference on Precision Engineering (ICoPE2010&13th ICPE)
    • Place of Presentation
      Singapore
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Surface Modification by Water Vapor Plasma for Damage-free Roughness Smoothing of 4H-SiC2010

    • Author(s)
      K.Yamamura
    • Organizer
      63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP)
    • Place of Presentation
      Paris, France
    • Year and Date
      2010-10-05
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Plasma Assisted Polishing of Reaction-Sintered Silicon Carbide2010

    • Author(s)
      山村和也, 上田真己, 瀧口達也, 是津信行
    • Organizer
      25th Annual Meeting of the ASPE 61-64
    • Place of Presentation
      Atlanta, USA.
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Development of Atmospheric Pressure Plasma Assisted High efficient and High integrity Machining Process of Difficult to Machine Materials2010

    • Author(s)
      山村和也, 瀧口達也, 是津信行
    • Organizer
      10th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology(299-302)
    • Place of Presentation
      Delft, Netherland.
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] プラズマ援用ポリシングによる4H-SiC (0001)のスクラッチフリー加工2010

    • Author(s)
      山村和也, 上田真己, 瀧口達也, 是津信行
    • Organizer
      2010年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集 107-108
    • Place of Presentation
      岡山大学
    • Year and Date
      2010-08-28
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工(第3報)-形状創成加工後の表面粗さの低減-2010

    • Author(s)
      細田真央, 植田和晃, 是津信行, 山村和也,島田尚一, 谷口一雄
    • Organizer
      2010年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 731-732
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      2010-09-28
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] プラズマ援用加工法の開発(第2報)-反応焼結SiC 材の加工特性-2010

    • Author(s)
      上田真己, 森永翔, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      2010年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 339-340
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      2010-09-27
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] プラズマ援用加工法の開発(第1報)-基礎実験装置の試作と加工特性の評価-2010

    • Author(s)
      上田真己, 瀧口達也, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2010年度関西地方定期学術講演会講演論文集 62-63
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2010-05-28
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Plasma Assisted Polishing of Reaction-Sintered Silicon Carbide2010

    • Author(s)
      K.Yamamura
    • Organizer
      25th Annual Meeting of the ASPE
    • Place of Presentation
      Atlanta, USA
    • Year and Date
      2010-11-03
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲結晶のダメージフリー加工2010

    • Author(s)
      細田真央, 植田和晃, 是津信行, 山村和也, 島田尚一, 谷口一雄
    • Organizer
      精密工学会第17 回学生会員卒業研究発表講演会講演論文集 17-18
    • Place of Presentation
      埼玉大学
    • Year and Date
      2010-03-16
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Surface Modification by Water Vapor Plasma for Damage-free Roughness Smoothing of 4H-SiC2010

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattori, Nobuyuki Zettsu
    • Organizer
      63rd Gaseous Electronics Conference (GEC) and 7th International Conference on Reactive Plasmas(ICRP) DTP-067
    • Place of Presentation
      Paris, France
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 数値制御プラズマCVM によるヨハンソン型Si(111)二重湾曲分光結晶のダメージフリー加工(第2報)2010

    • Author(s)
      細田真央, 植田和晃, 是津信行, 山村和也, 島田尚一, 谷口一雄
    • Organizer
      精密工学会2010 年度関西地方定期学術講演会講演論文集 82-83
    • Place of Presentation
      京都大学
    • Year and Date
      2010-05-28
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] A Neutron Focusing Device with Spheroidal Supermirrors (invited)2010

    • Author(s)
      K.Soyama, D.Yamazaki, R.Maruyama, M.Nagano, K.Yamamura
    • Organizer
      International Workshop on Neutron Optics (NOP2010)
    • Place of Presentation
      Grenoble(FRANCE)
    • Year and Date
      2010-03-17
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] Development of Atmospheric-Pressure-Plasma-Assisted High-efficient and High-integrity Machining Process of Difficult-to-Machine Materials2010

    • Author(s)
      K.Yamamura
    • Organizer
      10th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Delft, Netherland
    • Year and Date
      2010-06-03
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Plasma assisted finishing of difficult-to-machine materials2010

    • Author(s)
      山村和也
    • Organizer
      2nd International Conference on Nanomanufacturing (nanoMan2010)
    • Place of Presentation
      Tianjin, China
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Figuring of Damage-Free Cylindrical Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010

    • Author(s)
      M.Hosoda, M.Nagano, N.Zettsu, S.Shimada, K.Taniguchi, K.Yamamura
    • Organizer
      Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology Nov.24-26, P-7, 72-73
    • Place of Presentation
      Osaka, JAPAN
    • Year and Date
      2010-11-24
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] High-integrity finishing of 4H-SiC (0001) by plasma-assisted polishing2010

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, Tatsuya Takiguchi, Masaki Ueda, Azusa N. Hattoril, Nobuyuki Zettsu
    • Organizer
      The 13th International Symposium on Advances in Abrasive Technology
    • Place of Presentation
      Taipei, Taiwan
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Machining Properties of Reaction-Sintered Silicon Carbide by Plasma Assisted Machining2010

    • Author(s)
      M.Ueda, S.Morinaga, H.Deng, N.Zettsu, K.Yamamura
    • Organizer
      Third International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology Nov.24-26, P-65, 188-189
    • Place of Presentation
      Osaka, JAPAN
    • Year and Date
      2010-11-24
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハ厚さの修正加工-基板加熱による加工速度の向上-2010

    • Author(s)
      上田真己, 永野幹典, 柴原正文, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      2010年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 307-308
    • Place of Presentation
      埼玉大学
    • Year and Date
      2010-03-17
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Fabrication of Damage-free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining2010

    • Author(s)
      Mao Hosoda, Kazuaki Ueda, Mikinori Nagano, Nobuyuki Zettsu, Shoichi Shimada, Kazuo Taniguchi, Kazuya Yamamura
    • Organizer
      International Conference on Precision Engineering (ICoPE2010&13th ICPE)
    • Place of Presentation
      Singapore
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009

    • Author(s)
      山村和也, 森川徹也, 上田真己
    • Organizer
      9th International Conference on Progress of Machining Technology (9th ICPMT)
    • Place of Presentation
      Kunming, China
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on P4VP-grafted-PTFE surface and their autocatalytic properties2009

    • Author(s)
      H.Akiyama, K.Yamamura, N.Zettsu
    • Organizer
      第19回日本MRS学術シンポジウム
    • Place of Presentation
      横浜市開港記念会館, 横浜市
    • Year and Date
      2009-12-07
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -加工精度に影響を及ぼす要因の考察-2009

    • Author(s)
      上田真己, 森川徹也, 山村和也, 柴原正文
    • Organizer
      2009年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集 259-260
    • Place of Presentation
      中央大学
    • Year and Date
      2009-03-11
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 大気圧プラズマ化学液相堆積法をもちいた、触媒フリー無電解金属めっきプロセスの開発2009

    • Author(s)
      秋山弘貴, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      表面技術協会第119回講演大会
    • Place of Presentation
      山梨大学(山梨)
    • Year and Date
      2009-03-12
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] Atmospheric pressure plasma liquid deposition of copper nanoparticles on poly (4-vinylpyridine) -grafted-poly (tetrafuoroethylene) surface and their autocatalytic properties2009

    • Author(s)
      H.Akiyama, K.Yamamura N.Zettsu
    • Organizer
      Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology
    • Place of Presentation
      Osaka Univ., Osaka
    • Year and Date
      2009-11-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressure plasma liquid deposition approach2009

    • Author(s)
      H.Akiyama, N.Zettsu, K.Yamamura
    • Organizer
      22nd Symposium on Plasma Science for Materials
    • Place of Presentation
      Tokyo Univ., Tokyo
    • Year and Date
      2009-06-15
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -加工精度向上のための2 分割加工による温度変化の低減-2009

    • Author(s)
      上田真己, 森川徹也, 柴原正文, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2009 年度関西地方定期学術講演会講演論文集 57-58
    • Place of Presentation
      千里ライフサイエンスセンター
    • Year and Date
      2009-05-13
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 数値制御ローカルウェットエッチング法による高精度光学素子の作製-中性子集光用楕円面ミラーの作製 第IV報-2009

    • Author(s)
      (阪大)永野幹典, 高井宏之, 是津信行, 山村和也, (JAEA)丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
    • Organizer
      2009年度精密工学会春季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      中央大学
    • Year and Date
      2009-03-11
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] High-precision finishing of AT-cut quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2009

    • Author(s)
      上田真己, 永野幹典, 是津信行, 柴原正文, 山村和也
    • Organizer
      3rd International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN2009) 1P2-1P6
    • Place of Presentation
      Kitakyushu, Japan
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressureplasma liquid deposition approach2009

    • Author(s)
      H. Akiyama, N. Zettsu, K. Yamamura
    • Organizer
      First International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology -Surface and Thin Film Processing-
    • Place of Presentation
      大阪大学(大阪)
    • Year and Date
      2009-02-16
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] 大気圧プラズマを援用した難加工材料加工プロセスの開発(第1報)2009

    • Author(s)
      瀧口達也, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      2009年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 163-164
    • Place of Presentation
      神戸大学
    • Year and Date
      2009-09-10
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 大気開放型プラズマCVMによるAT カット水晶ウエハ厚さの均一化 -分光学的手法によるパルス変調プラズマの解析と加工特性との相関の考察-2009

    • Author(s)
      上田真己, 瀧口達也, 押鐘寧, 柴原正文, 山村和也
    • Organizer
      2009年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 159-160
    • Place of Presentation
      神戸大学
    • Year and Date
      2009-09-10
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] High-precision correction of thickness distribution of AT-cut quartz crystal wafer by pulse-modulated atmospheric pressure plasma etching2009

    • Author(s)
      上田真己, 永野幹典, 是津信行, 柴原正文, 山村和也
    • Organizer
      Second International Symposium on Atomically Controlled Fabrication Technology PO.72, 178-179
    • Place of Presentation
      Osaka, JAPAN
    • Year and Date
      2009-11-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Surface metallization of PTFE substrate through atmospheric pressureplasma liquid deposition approach2009

    • Author(s)
      H. Akiyama, H. Itoh, N. Zettsu, K. Yamamura
    • Organizer
      プラズマ科学シンポジウム2009/第26回プラズマプロセシング研究会(PSS-2009/SPP26)
    • Place of Presentation
      名古屋大学(名古屋)
    • Year and Date
      2009-02-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] 回転楕円スーパーミラーによる中性子収束デバイスの開発2009

    • Author(s)
      曽山和彦、丸山龍治、山崎大、永野幹典、山村和也
    • Organizer
      日本原子力学会「2009年秋の大会」
    • Place of Presentation
      仙台(東北大学)
    • Year and Date
      2009-09-18
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 高精度非球面基板上の高性能中性子スーパーミラーによる中性子集光と斜入射小角散乱2009

    • Author(s)
      (JAEA)山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, (阪大)高井宏之, 永野幹典, 山村和也
    • Organizer
      日本物理学会第64回年次大会
    • Place of Presentation
      立教大学
    • Year and Date
      2009-03-30
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] Improvement of the Thickness Distribution of AT-cut Quartz Crystal Wafer by Pulse-Modulated Atmospheric Pressure Plasma2009

    • Author(s)
      上田真己, 森川徹也, 永野幹典, 是津信行, 柴原正文, 山村和也
    • Organizer
      22ndSymposium on Plasma Science for Materials 64
    • Place of Presentation
      Tokyo, Japan
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] High-Efficient Damage-Free Correction of the Thickness Distribution of Quartz Crystal Wafer Using Open-Air Type Plasma CVM2009

    • Author(s)
      K.Yamamura
    • Organizer
      9th International Conference on Progress of Machining Technology
    • Place of Presentation
      Kunming, China
    • Year and Date
      2009-04-26
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 大気圧プラズマ化学液相堆積法によるフッ素ポリマー表面の高密着性極薄銅メタライジング2009

    • Author(s)
      秋山弘貴, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      2009年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      神戸大学,神戸市
    • Year and Date
      2009-09-10
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20656026
  • [Presentation] 大気開放型プラズマCVM によるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -パルス変調プラズマの適用による厚み修正時間の短縮-2008

    • Author(s)
      森川徹也, 上田真己, 山村和也, 柴原正文, 森勇藏
    • Organizer
      精密工学会2008 年度関西地方定期学術講演会講演論文集 53-54
    • Place of Presentation
      堺市産業振興センター
    • Year and Date
      2008-07-30
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] Figuring of ultraprecision aspherical focusing mirror using numerically controlled local wet etching2008

    • Author(s)
      K. Yamamura, H. Takai
    • Organizer
      10th Anniversary International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Zurich, Switzerland
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] 高臨界角スーパーミラーによる中性子集光デバイスの開発2008

    • Author(s)
      曽山和彦,丸山龍治,山崎大,(阪大)山村和也
    • Organizer
      日本原子力学会「2008年秋の大会」
    • Place of Presentation
      (木)高知工科大学
    • Year and Date
      2008-09-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 大気開放型プラズマCVM によるAT カット水晶ウエハの厚み修正加工 -パルス変調プラズマを用いた修正加工の高精度化2008

    • Author(s)
      森川徹也, 上田真己, 山村和也, 柴原正文, 森勇藏
    • Organizer
      2008年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集 805-806
    • Place of Presentation
      東北大学
    • Year and Date
      2008-09-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製-中性子集光用ミラーの作製 第二報-2008

    • Author(s)
      (阪大)高井宏之, 山村和也, (JAEA)丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
    • Organizer
      精密工学会2008年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      堺市産業振興センター
    • Year and Date
      2008-07-29
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 高精度非球面基板上の高性能スーパーミラーによる中性子集光2008

    • Author(s)
      (JAEA)山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦, (阪大)高井宏之, 永野幹典, 山村和也
    • Organizer
      日本中性子科学会第8回年回
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      2008-12-01
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 高臨界角スーパーミラーによる中性子集光デバイスの開発2008

    • Author(s)
      (JAEA)曽山和彦, 丸山龍治, 山崎大, (阪大)山村和也
    • Organizer
      日本原子力学会「2008年秋の大会」
    • Place of Presentation
      高知工科学
    • Year and Date
      2008-09-04
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製-中性子集光用ミラーの作製 第三報-2008

    • Author(s)
      (阪大)高井宏之, 山村和也, (JAEA)丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
    • Organizer
      2008年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      東北大学
    • Year and Date
      2008-09-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウェットエッチングによる中性子集光用楕円面ミラーの作製とその評価2008

    • Author(s)
      (阪大)永野幹典, 高井宏之, 山村和也, (JAEA)山崎大, 丸山龍治, 曽山和彦
    • Organizer
      日本中性子科学会第8回年回
    • Place of Presentation
      名古屋大学
    • Year and Date
      2008-12-01
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20612017
  • [Presentation] Damage-free improvement of thickness uniformity of quartz crystal wafer by plasma chemical vaporization machining2008

    • Author(s)
      Kazuya Yamamura, et al.
    • Organizer
      58^(th) CIRP General Assembly
    • Place of Presentation
      Manchester, UK
    • Year and Date
      2008-08-27
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-20360068
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング法を用いたSOIの膜厚均一化加工 -フッ硝酸を用いたSiの加工特性-2007

    • Author(s)
      三谷卓朗, 山村和也
    • Organizer
      2007年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      旭川市、北海道
    • Year and Date
      2007-09-13
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] Fabrication of Ultra Precision Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      57th CIRP General Assembly
    • Place of Presentation
      Dresden, Germany
    • Year and Date
      2007-08-20
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング(Numerically Controlled Local Wet Etching)法による高精度光学素子の作製2007

    • Author(s)
      高井宏之, 三谷卓朗, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2007年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      大東市、大阪府
    • Year and Date
      2007-08-09
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング(Numerically Controlled Local Wet Etching)法を用いたSOIの膜厚均一化加工-エッチャント組成比の最適化-2007

    • Author(s)
      三谷卓朗, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2007年度関西地方定期学術講演会
    • Place of Presentation
      大東市、大阪府
    • Year and Date
      2007-08-09
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチッングによる中性子集光用楕円面ミラー作製プロセスの開発2007

    • Author(s)
      高井宏之, 山村和也, 丸山龍治, 山崎大, 曽山和彦
    • Organizer
      日本中性子科学会第7回年回
    • Place of Presentation
      福岡市、福岡県
    • Year and Date
      2007-11-28
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製 -5軸制御NC加工装置の試作-2007

    • Author(s)
      高井宏之, 山村和也
    • Organizer
      2007年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • Place of Presentation
      旭川市、北海道
    • Year and Date
      2007-09-13
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] Fabrication of Ultra Precisi on Optics by Numerically Controlled Local Wet Etching2007

    • Author(s)
      K. Yamamura
    • Organizer
      57th CIRP General Assembly
    • Place of Presentation
      Dresden, Germany
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] Improvement of Thickness Distribution of SOI Using Numerically Controlled Local Wet Etching2007

    • Author(s)
      T. Mitani and K. Yamamura
    • Organizer
      Asian Symposium for Precision Engineering and Nanotechnology 2007
    • Place of Presentation
      Gwangju, Korea
    • Year and Date
      2007-11-07
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング(Numerically Controlled Local Wet Etching)法による高精度光学素子の作製

    • Author(s)
      高井宏之, 三谷卓朗, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2007年度関西地方定期学術講演会講演論文集
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] Polishing characteristics of single crystal SiC assisted by plasma oxidation using different kinds of abrasives

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      14th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology
    • Place of Presentation
      Dubrovnik, Croatia
    • Year and Date
      2014-06-02 – 2014-06-05
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Surface modification of GaN by irradiation of atmospheric pressure plasma for damage-free polishing

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K Yamamura
    • Organizer
      The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
    • Place of Presentation
      Kanazawa, Japan
    • Year and Date
      2014-07-23 – 2014-07-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Plasma-assisted polishing for damage-free atomically flat finishing of wide gap semiconductor materials

    • Author(s)
      K. Yamamura, H. Deng, K. Endo
    • Organizer
      ISPlasma2015/IC-PLANTS2015
    • Place of Presentation
      Nagoya, Japan
    • Year and Date
      2015-03-26 – 2015-03-31
    • Invited
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Study on oxidation processes of 4H-SiC (0001) for investigation of the atomically flattening mechanism in plasma assisted polishing

    • Author(s)
      H. Deng, K. Yamamura
    • Organizer
      2nd CIRP Conference on Surface Integrity (CSI)
    • Place of Presentation
      Nottingham, UK
    • Year and Date
      2014-05-28 – 2014-05-30
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Investigation of the anodic oxide layer/SiC interface morphology during anodic oxidation assisted polishing

    • Author(s)
      K. Hosoya, Y. Imanishi, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
    • Place of Presentation
      Kanazawa, Japan
    • Year and Date
      2014-07-23 – 2014-07-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for highly effective planarization of 4H-SiC

    • Author(s)
      H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      64th CIRP General Assembly
    • Place of Presentation
      Nantes, France
    • Year and Date
      2014-08-24 – 2014-08-30
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] 数値制御ローカルウエットエッチング法による高精度光学素子の作製 -5軸制御NC加工装置の試作-

    • Author(s)
      高井宏之, 山村和也
    • Organizer
      2007年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] ローカルウエットエッチングにより加工した表面の評価 -加工後残留物による表面粗さへの影響-

    • Author(s)
      永野幹典, 是津信行, 山村和也
    • Organizer
      精密工学会2008年度関西地方定期学術講演会講演論文集
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] Preliminary study on highly efficient polishing of 4H-SiC utilizing anodic oxidation

    • Author(s)
      K. Yamamura, K. Hosoya, Y. Imanishi, H. Deng, K. Endo
    • Organizer
      The 17th International Symposium on Advances in Abrasive Technology (ISAAT2014)
    • Place of Presentation
      Hawaii, USA
    • Year and Date
      2014-09-22 – 2014-09-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25630026
  • [Presentation] Effect of plasma irradiation in removal rate of single crystal diamond in plasma assisted polishing with quartz glass tool

    • Author(s)
      T. Tabata, K. Monna, Y. Yamamoto, S. Makiyama, H. Deng, K. Endo, H. Yamada, A. Chayahara, Y. Mokuno, S. Shikata, K. Yamamura
    • Organizer
      The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
    • Place of Presentation
      Kanazawa, Japan
    • Year and Date
      2014-07-23 – 2014-07-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Flattening of 4H-SiC by combination of oxidation and abrasive polishing

    • Author(s)
      H. Deng, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      The 10th China-Japan International Conference on Ultra-Precision Machining Process (CJUMP) and 2014 International Conference on Surface Finishing Technology (ICSFT)
    • Place of Presentation
      Jiaozuo, China
    • Year and Date
      2014-10-17 – 2014-10-19
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] Highly efficient planarization of CVD-grown single-crystal diamond substrate by atmospheric-pressure microwave plasma jet figuring

    • Author(s)
      K. Yamamura, S. Makiyama, T. Tabata, H. Yamada, A. Cyayahara, Y. Mokuno, S. Shikata, K. Endo
    • Organizer
      International Conference on Diamond and Carbon Materials 2014
    • Place of Presentation
      Madrid, Spain
    • Year and Date
      2014-09-07 – 2014-09-11
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • [Presentation] ローカルウエットエッチングにより加工した表面の評価 -加工後表面の表面粗さ悪化の原因解明-

    • Author(s)
      永野幹典, 高井宏之, 是津信之, 山村和也
    • Organizer
      2008年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-18206017
  • [Presentation] Dependency of OH emission intensity in material removal rate of sapphire substrates in plasma assisted polishing

    • Author(s)
      K. Monna, H. Deng, T. Tabata, K. Endo, K. Yamamura
    • Organizer
      The 15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
    • Place of Presentation
      Kanazawa, Japan
    • Year and Date
      2014-07-23 – 2014-07-25
    • Data Source
      KAKENHI-PROJECT-25249006
  • 1.  SANO Yasuhisa (40252598)
    # of Collaborated Projects: 15 results
    # of Collaborated Products: 7 results
  • 2.  MORI Yuzo (00029125)
    # of Collaborated Projects: 14 results
    # of Collaborated Products: 10 results
  • 3.  YAMAUCHI Kazuto (10174575)
    # of Collaborated Projects: 13 results
    # of Collaborated Products: 13 results
  • 4.  SOYAMA Kazuhiko (90343912)
    # of Collaborated Projects: 4 results
    # of Collaborated Products: 40 results
  • 5.  ENDO Katsuyoshi (90152008)
    # of Collaborated Projects: 3 results
    # of Collaborated Products: 10 results
  • 6.  INAGAKI Kouji (50273579)
    # of Collaborated Projects: 3 results
    # of Collaborated Products: 2 results
  • 7.  ZETTSU Nobuyuki (10432519)
    # of Collaborated Projects: 3 results
    # of Collaborated Products: 51 results
  • 8.  MARUYAMA Ryuji (90379008)
    # of Collaborated Projects: 2 results
    # of Collaborated Products: 24 results
  • 9.  MIMURA Hidekazu (30362651)
    # of Collaborated Projects: 2 results
    # of Collaborated Products: 3 results
  • 10.  KATAOKA Toshihiko (50029328)
    # of Collaborated Projects: 2 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 11.  林田 洋寿 (50444477)
    # of Collaborated Projects: 2 results
    # of Collaborated Products: 16 results
  • 12.  TAKAHASHI Yukio (00415217)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 13.  MATSUYAMA Satoshi (10423196)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 3 results
  • 14.  YAMAZAKI Dai (80391259)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 4 results
  • 15.  YAMADA Hideaki (90443233)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 13 results
  • 16.  HIGASHI Yasuo (70208742)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 10 results
  • 17.  UENO Kenji (40370069)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 10 results
  • 18.  KUME Tatsuya (40353362)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 10 results
  • 19.  ENAMI Kazuhiro (00370073)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 10 results
  • 20.  Ohkubo Yuji (10525786)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 27 results
  • 21.  Komamiya Sachio (80126060)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 22.  KAMIYA Yoshio (90434323)
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    # of Collaborated Products: 0 results
  • 23.  SANUKI Tomoyuki (70323491)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 0 results
  • 24.  柴原 正文 (80470219)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 8 results
  • 25.  長谷 朝博 (10470220)
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    # of Collaborated Products: 8 results
  • 26.  本田 幸司 (20553085)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 8 results
  • 27.  有馬 健太 (10324807)
    # of Collaborated Projects: 1 results
    # of Collaborated Products: 53 results
  • 28.  孫 栄硯 (50963451)
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    # of Collaborated Products: 30 results
  • 29.  YANG XIAOZHE
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    # of Collaborated Products: 4 results

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